JPS62145334U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS62145334U JPS62145334U JP3447286U JP3447286U JPS62145334U JP S62145334 U JPS62145334 U JP S62145334U JP 3447286 U JP3447286 U JP 3447286U JP 3447286 U JP3447286 U JP 3447286U JP S62145334 U JPS62145334 U JP S62145334U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- susceptor
- workpiece
- processing apparatus
- sent
- width
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Description
第１図はこの考案の実施例であるサセプタの外
観斜視図、第２図はこの考案の他の実施例である
サセプタのセラミツクピンを示す斜視図である。
第３図は一般的なプラズマ処理装置の構造を示す
図、第４図は従来のサセプタの概略斜視図である
。 １０…サセプタ、１１…セラミツクピン、１２
…ウエハ。
観斜視図、第２図はこの考案の他の実施例である
サセプタのセラミツクピンを示す斜視図である。
第３図は一般的なプラズマ処理装置の構造を示す
図、第４図は従来のサセプタの概略斜視図である
。 １０…サセプタ、１１…セラミツクピン、１２
…ウエハ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 反応気体が送り込まれる反応室内に設置され、
その上面に被処理物を載置するサセプタにおいて
、 上面周縁部に、前記被処理物の幅よりも狭い間
隔で設けられた複数本の突起を有することを特徴
とする半導体処理装置のサセプタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3447286U JPS62145334U (ja) | 1986-03-08 | 1986-03-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3447286U JPS62145334U (ja) | 1986-03-08 | 1986-03-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62145334U true JPS62145334U (ja) | 1987-09-12 |
Family
ID=30843058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3447286U Pending JPS62145334U (ja) | 1986-03-08 | 1986-03-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62145334U (ja) |
-
1986
- 1986-03-08 JP JP3447286U patent/JPS62145334U/ja active Pending