JPS6214558B2 - - Google Patents
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- JPS6214558B2 JPS6214558B2 JP52122560A JP12256077A JPS6214558B2 JP S6214558 B2 JPS6214558 B2 JP S6214558B2 JP 52122560 A JP52122560 A JP 52122560A JP 12256077 A JP12256077 A JP 12256077A JP S6214558 B2 JPS6214558 B2 JP S6214558B2
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- hydroxy group
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- etherified
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J31/00—Normal steroids containing one or more sulfur atoms not belonging to a hetero ring
- C07J31/006—Normal steroids containing one or more sulfur atoms not belonging to a hetero ring not covered by C07J31/003
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J17/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, having an oxygen-containing hetero ring not condensed with the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J71/00—Steroids in which the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton is condensed with a heterocyclic ring
- C07J71/0005—Oxygen-containing hetero ring
- C07J71/001—Oxiranes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J9/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen substituted in position 17 beta by a chain of more than two carbon atoms, e.g. cholane, cholestane, coprostane
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J9/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen substituted in position 17 beta by a chain of more than two carbon atoms, e.g. cholane, cholestane, coprostane
- C07J9/005—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen substituted in position 17 beta by a chain of more than two carbon atoms, e.g. cholane, cholestane, coprostane containing a carboxylic function directly attached or attached by a chain containing only carbon atoms to the cyclopenta[a]hydrophenanthrene skeleton
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Steroid Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプレグナン誘導体及びその製造方法に
関する。
関する。
本発明によつて提供されるプレグナン誘導体
は、下記一般式 〔式中、R1及びR3はヒドロキシ基又は容易に
ヒドロキシ基に開裂し得るエーテル化もしくはエ
ステル化されたヒドロキシ基を表わし、R20はヒ
ドロキシメチル、容易に開裂し得るエーテル化も
しくはエステル化されたヒドロキシメチル、ホル
ミル、カルボキシル又はカルボアルコキシ基を表
わす〕 を有する。
は、下記一般式 〔式中、R1及びR3はヒドロキシ基又は容易に
ヒドロキシ基に開裂し得るエーテル化もしくはエ
ステル化されたヒドロキシ基を表わし、R20はヒ
ドロキシメチル、容易に開裂し得るエーテル化も
しくはエステル化されたヒドロキシメチル、ホル
ミル、カルボキシル又はカルボアルコキシ基を表
わす〕 を有する。
容易に（即ち、分子の他の位置に影響を及ぼす
ことなく）開裂し得るエーテル基は、たとえば、
ＲYが水素原子又はC1-6―アルキル基を表わし、
ＲX及びＲZがC1-6―アルキル基を表わすか又はＲ
XとＲZが一緒になつてC3-6―アルキレン基を表わ
す場合の式ＲXＯ―Ｃ（ＲY，ＲZ）―Ｏ―の基で
ある。かかる基の例はテトラヒドロピラン―２―
イルオキシ及びメトキシメトキシ基である。R1
及びR3の定義内に入るエステル化されたヒドロ
キシ基の例は、ホルミルオキシ基及びアセトキシ
基の如きC2-4―アルカノイルオキシ基である。
R20により示されるエステル化されたヒドロキシ
メチル基の例はホルミルオキシメチル基及びアセ
トキシメチル基の如きC2-4―アルカノイルオキシ
メチル基、並びにブロモメチル基及びｐ―トルエ
ンスルホニルオキシメチル基である。R20により
示されるカルボアルコキシ基の例はカルボメトキ
シ及びカルボエトキシ基である。
ことなく）開裂し得るエーテル基は、たとえば、
ＲYが水素原子又はC1-6―アルキル基を表わし、
ＲX及びＲZがC1-6―アルキル基を表わすか又はＲ
XとＲZが一緒になつてC3-6―アルキレン基を表わ
す場合の式ＲXＯ―Ｃ（ＲY，ＲZ）―Ｏ―の基で
ある。かかる基の例はテトラヒドロピラン―２―
イルオキシ及びメトキシメトキシ基である。R1
及びR3の定義内に入るエステル化されたヒドロ
キシ基の例は、ホルミルオキシ基及びアセトキシ
基の如きC2-4―アルカノイルオキシ基である。
R20により示されるエステル化されたヒドロキシ
メチル基の例はホルミルオキシメチル基及びアセ
トキシメチル基の如きC2-4―アルカノイルオキシ
メチル基、並びにブロモメチル基及びｐ―トルエ
ンスルホニルオキシメチル基である。R20により
示されるカルボアルコキシ基の例はカルボメトキ
シ及びカルボエトキシ基である。
本発明により提供される方法に従えば、前記式
のプレグナン誘導体は、一般式 〔式中、R201はヒドロキシメチル基又は容易に
開裂し得るエーテル化されたヒドロキシメチル基
を表わす〕 の化合物を１，２―エポキシ化し、所望により、
生ずる一般式 〔式中、R201は前記した意味を有する〕 の１，２―エポキシド中のR201により示される置
換基を官能的に変性し、そして生ずる化合物を還
元的に開裂せしめて式の１，３―ジオールを生
ぜしめ、そして所望により、該１，３―ヒドロキ
シ基をエステル化もしくはエーテル化し及び／又
はR201により示される置換基を官能的に変性する
ことにより製造される。
のプレグナン誘導体は、一般式 〔式中、R201はヒドロキシメチル基又は容易に
開裂し得るエーテル化されたヒドロキシメチル基
を表わす〕 の化合物を１，２―エポキシ化し、所望により、
生ずる一般式 〔式中、R201は前記した意味を有する〕 の１，２―エポキシド中のR201により示される置
換基を官能的に変性し、そして生ずる化合物を還
元的に開裂せしめて式の１，３―ジオールを生
ぜしめ、そして所望により、該１，３―ヒドロキ
シ基をエステル化もしくはエーテル化し及び／又
はR201により示される置換基を官能的に変性する
ことにより製造される。
R201により示される容易に開裂し得るエーテル
化されたヒドロキシメチル基は、式―CH2Zの基
であることが好ましく、ただし、ＺはＲY，ＲX及
びＲZが前記した意味を有する場合の式ＲXＯ―Ｃ
（ＲY，ＲZ）―Ｏ―の基を表わす。
化されたヒドロキシメチル基は、式―CH2Zの基
であることが好ましく、ただし、ＺはＲY，ＲX及
びＲZが前記した意味を有する場合の式ＲXＯ―Ｃ
（ＲY，ＲZ）―Ｏ―の基を表わす。
前記方法の好ましい態様に従えば、一般式
〔式中、R1及びR3は前記した意味を有し、そ
してR202はヒドロキシメチル、容易に開裂し得る
エーテル化されたヒドロキシメチル、ホルミル、
カルボキシル又はカルボアルコキシ基を表わす〕 のプレグナン誘導体は、式の化合物を１，２―
エポキシ化し、生ずる式の１，２―エポキシド
を還元的に開裂せしめて１，３―ジオールとし、
そして所望により、該１，３―ヒドロキシ基をエ
ステル化もしくはエーテル化し、及び／又はR201
により示される置換基を官能的に変性することに
より製造される。
してR202はヒドロキシメチル、容易に開裂し得る
エーテル化されたヒドロキシメチル、ホルミル、
カルボキシル又はカルボアルコキシ基を表わす〕 のプレグナン誘導体は、式の化合物を１，２―
エポキシ化し、生ずる式の１，２―エポキシド
を還元的に開裂せしめて１，３―ジオールとし、
そして所望により、該１，３―ヒドロキシ基をエ
ステル化もしくはエーテル化し、及び／又はR201
により示される置換基を官能的に変性することに
より製造される。
式の１，２―エポキシドを生ぜしめるための
式の化合物の１，２―エポキシ化は、塩基（水
酸化アルカリの水性―アルコール性溶液）の存在
下に過酸化水素を使用して行なうのが好都合であ
る。式の１，３―ジオールを生ぜしめるための
式の１，２―エポキシドの還元的な開裂は、ア
ミン中のアルカリ金属、好ましくはアンモニア中
のナトリウムもしくはリチウムを使用して行なう
ことができ、そして所望により、水素化ホウ素ナ
トリウムによる後処理を行なうことができる。式
のプレグナン誘導体中の１―及び３―ヒドロキ
シ基のエーテル化又はエステル化は、それ自体公
知の方法で、たとえば、触媒量のｐ―トルエンス
ルホン酸の存在下にジヒドロピランで処理する
（テトラヒドロピラニルエーテルを製造するため
に）ことによつて、或いはピリジンの如き塩基の
存在下に無水酢酸の如き酸無水物で処理する（３
―モノアセテート又は１，３―ジアセテートを製
造するために）ことによつて行なうことができ
る。
式の化合物の１，２―エポキシ化は、塩基（水
酸化アルカリの水性―アルコール性溶液）の存在
下に過酸化水素を使用して行なうのが好都合であ
る。式の１，３―ジオールを生ぜしめるための
式の１，２―エポキシドの還元的な開裂は、ア
ミン中のアルカリ金属、好ましくはアンモニア中
のナトリウムもしくはリチウムを使用して行なう
ことができ、そして所望により、水素化ホウ素ナ
トリウムによる後処理を行なうことができる。式
のプレグナン誘導体中の１―及び３―ヒドロキ
シ基のエーテル化又はエステル化は、それ自体公
知の方法で、たとえば、触媒量のｐ―トルエンス
ルホン酸の存在下にジヒドロピランで処理する
（テトラヒドロピラニルエーテルを製造するため
に）ことによつて、或いはピリジンの如き塩基の
存在下に無水酢酸の如き酸無水物で処理する（３
―モノアセテート又は１，３―ジアセテートを製
造するために）ことによつて行なうことができ
る。
エーテル化及びエーテル開裂は、式の１，２
―エポキシド中のR201により示される置換基の官
能的変性に関連して考慮される。エーテル開裂、
エーテル化、エステル化、ケン化及びホルミルも
しくはカルボキシ基へのヒドロキシメチル基の酸
化、及びかくして得られたホルミル、カルボキシ
及びカルボアルコキシ基の還元は、１，３―ジオ
ール生成物中のR201により示される置換基の官能
的変性に関連して言及されるべきである。
―エポキシド中のR201により示される置換基の官
能的変性に関連して考慮される。エーテル開裂、
エーテル化、エステル化、ケン化及びホルミルも
しくはカルボキシ基へのヒドロキシメチル基の酸
化、及びかくして得られたホルミル、カルボキシ
及びカルボアルコキシ基の還元は、１，３―ジオ
ール生成物中のR201により示される置換基の官能
的変性に関連して言及されるべきである。
20―ヒドロキシメチル基の酸化は、たとえば、
フイツツナー―モフアツト法（Pfitzner―Moffat
Procedure）によるジメチルスルホキシド、三酸
化クロム／ピリジン、二酸化マンガン又はピリジ
ニウムクロロクロメート（pyridinium
chlorochromate）を使用して行なうことができ
る。20―ホルミル基の酸化は、たとえば、酸化銀
を使用して行なうことができる。20―ホルミル基
の還元は、たとえば、水素化ホウ素ナトリウムを
使用して行なうことができ、20―カルボキシ基の
還元は、たとえば、水素化アルミニウムリチウム
を使用して行なうことができる。
フイツツナー―モフアツト法（Pfitzner―Moffat
Procedure）によるジメチルスルホキシド、三酸
化クロム／ピリジン、二酸化マンガン又はピリジ
ニウムクロロクロメート（pyridinium
chlorochromate）を使用して行なうことができ
る。20―ホルミル基の酸化は、たとえば、酸化銀
を使用して行なうことができる。20―ホルミル基
の還元は、たとえば、水素化ホウ素ナトリウムを
使用して行なうことができ、20―カルボキシ基の
還元は、たとえば、水素化アルミニウムリチウム
を使用して行なうことができる。
20―ヒドロキシメチル基のエーテル化は、ジヒ
ドロピラン又はビニルメチルエーテルもしくは２
―メトキシプロペンの如きアルコキシビニルエー
テルを使用して行なうことができる。かかるエー
テルの開裂は１―及び３―位置のエーテル基の開
裂に対して前記した如くして酸で処理することに
よつて行なうことができる。
ドロピラン又はビニルメチルエーテルもしくは２
―メトキシプロペンの如きアルコキシビニルエー
テルを使用して行なうことができる。かかるエー
テルの開裂は１―及び３―位置のエーテル基の開
裂に対して前記した如くして酸で処理することに
よつて行なうことができる。
前記式の出発物質は、一般式
〔式中、R201は前記した意味を有する〕
の化合物を、カリウムtert.ブトキシド、又はヘ
キサメタポル（hexametapol）中の水素化ナトリ
ウムの如き塩基で処理し、そして一般式 〔式中、R201は前記した意味を有する〕 の得られる化合物を、ジクロロジシアノベンゾキ
ノン又はクロルアニルの如き脱水素化剤で処理し
て脱水素化することにより製造することができ
る。
キサメタポル（hexametapol）中の水素化ナトリ
ウムの如き塩基で処理し、そして一般式 〔式中、R201は前記した意味を有する〕 の得られる化合物を、ジクロロジシアノベンゾキ
ノン又はクロルアニルの如き脱水素化剤で処理し
て脱水素化することにより製造することができ
る。
式の（20S）―21―ヒドロキシ―20―メチル
―プレグナ―１，４，６―トリエン―３―オン
は、式の（20S）―21―ヒドロキシ―20―メチ
ル―プレグナ―１，４―ジエン―３―オンを６―
位置において臭素化し、そして生ずる（20S）―
６―ブロモ―21―ヒドロキシ―20―メチル―プレ
グナ―１，４―ジエン―３―オンを６，７―位置
において脱臭化水素化することによつて製造する
こともできる。該臭素化は、たとえば、四塩化炭
素の如き溶媒中のアゾイソブチロニトリルの存在
下にＮ―ブロモスクシンイミドを使用して行なう
ことができ、そして脱臭化水素化は、たとえば、
ジメチルホルムアミドの如き溶媒中の炭酸リチウ
ム及び臭化リチウムを使用して行なうことができ
る。
―プレグナ―１，４，６―トリエン―３―オン
は、式の（20S）―21―ヒドロキシ―20―メチ
ル―プレグナ―１，４―ジエン―３―オンを６―
位置において臭素化し、そして生ずる（20S）―
６―ブロモ―21―ヒドロキシ―20―メチル―プレ
グナ―１，４―ジエン―３―オンを６，７―位置
において脱臭化水素化することによつて製造する
こともできる。該臭素化は、たとえば、四塩化炭
素の如き溶媒中のアゾイソブチロニトリルの存在
下にＮ―ブロモスクシンイミドを使用して行なう
ことができ、そして脱臭化水素化は、たとえば、
ジメチルホルムアミドの如き溶媒中の炭酸リチウ
ム及び臭化リチウムを使用して行なうことができ
る。
21―ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ―１，
４，６―トリエン―３―オンは、21―ヒドロキシ
―20―メチル―６β―メトキシ―３α，５―シク
ロ―５α―プレグナンをレトロ―ｉ―転位
（retro―ｉ―rearrangement）に付し、そして生
ずる３β，21―ジヒドロキシ―20―メチル―プレ
グヌ―５―エンを直接酸化して21―ヒドロキシ―
20―メチル―プレグナ―１，４，６―トリエン―
３―オンとするか、又は生ずる３β，21―ジヒド
ロキシ―20―メチル―プレグヌ―５―エンを酸化
して先ず21―ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ
―４，６―ジエン―３―オンとし、次いで後者を
１，２―位置において脱水素化することによつて
製造することもできる。
４，６―トリエン―３―オンは、21―ヒドロキシ
―20―メチル―６β―メトキシ―３α，５―シク
ロ―５α―プレグナンをレトロ―ｉ―転位
（retro―ｉ―rearrangement）に付し、そして生
ずる３β，21―ジヒドロキシ―20―メチル―プレ
グヌ―５―エンを直接酸化して21―ヒドロキシ―
20―メチル―プレグナ―１，４，６―トリエン―
３―オンとするか、又は生ずる３β，21―ジヒド
ロキシ―20―メチル―プレグヌ―５―エンを酸化
して先ず21―ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ
―４，６―ジエン―３―オンとし、次いで後者を
１，２―位置において脱水素化することによつて
製造することもできる。
21―ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ―１，
４，６―トリエン―３―オンは、21―アセトキシ
―６β―メトキシ―20―メチル―３α，５―シク
ロ―５α―プレグナンをレトロ―ｉ―転位に付
し、生ずる21―アセトキシ―３β―ヒドロキシ―
20―メチル―プレグヌ―５―エンを酸化して21―
アセトキシ―20―メチル―プレグナ―１，４，６
―トリエン―３―オンとし、そして後者をケン化
することによつて製造することもできる。
４，６―トリエン―３―オンは、21―アセトキシ
―６β―メトキシ―20―メチル―３α，５―シク
ロ―５α―プレグナンをレトロ―ｉ―転位に付
し、生ずる21―アセトキシ―３β―ヒドロキシ―
20―メチル―プレグヌ―５―エンを酸化して21―
アセトキシ―20―メチル―プレグナ―１，４，６
―トリエン―３―オンとし、そして後者をケン化
することによつて製造することもできる。
該レトロ―ｉ―転位は、強酸（たとえば塩酸の
如き鉱酸）又はｐ―トルエンスルホン酸の如き有
機スルホン酸での処理により行なうことができ
る。この転位は、ジオキサン／水又はアセトン／
水の如き溶媒中で行なうことができる。
如き鉱酸）又はｐ―トルエンスルホン酸の如き有
機スルホン酸での処理により行なうことができ
る。この転位は、ジオキサン／水又はアセトン／
水の如き溶媒中で行なうことができる。
21―ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ―１，
４，６―トリエン―３―オン又はその21―アセテ
ートを得るための３β，21―ジヒドロキシ―20―
メチル―プレグヌ―５―エン又はその21―アセテ
ートを直接酸化は、２，３―ジクロロ―５，６―
ジシアノベンゾキノンの如き置換ベンゾキノンで
の処理により行なうことができる。20―ヒドロキ
シ―20―メチル―プレグナ―４，６―ジエン―３
―オンを得るための３β，21―ジヒドロキシ―20
―メチル―プレグヌ―５―エンの酸化は、たとえ
ば、炭酸リチウム及び臭化リチウムの存在下にジ
メチルホルムアミド中の臭素を使用して行なうこ
とができる。生ずる４，６―ジエンの１，２―脱
水素化は、２，３―ジクロロ―５，６―ジシアノ
ベンゾキノンの如き置換ベンゾキノンを使用して
行なうことができる。21―アセトキシ―20―メチ
ル―プレグナ―１，４，６―トリエン―３―オン
のケン化は、たとえば、エタノール中の水酸化ナ
トリウムを使用して行なうことができる。
４，６―トリエン―３―オン又はその21―アセテ
ートを得るための３β，21―ジヒドロキシ―20―
メチル―プレグヌ―５―エン又はその21―アセテ
ートを直接酸化は、２，３―ジクロロ―５，６―
ジシアノベンゾキノンの如き置換ベンゾキノンで
の処理により行なうことができる。20―ヒドロキ
シ―20―メチル―プレグナ―４，６―ジエン―３
―オンを得るための３β，21―ジヒドロキシ―20
―メチル―プレグヌ―５―エンの酸化は、たとえ
ば、炭酸リチウム及び臭化リチウムの存在下にジ
メチルホルムアミド中の臭素を使用して行なうこ
とができる。生ずる４，６―ジエンの１，２―脱
水素化は、２，３―ジクロロ―５，６―ジシアノ
ベンゾキノンの如き置換ベンゾキノンを使用して
行なうことができる。21―アセトキシ―20―メチ
ル―プレグナ―１，４，６―トリエン―３―オン
のケン化は、たとえば、エタノール中の水酸化ナ
トリウムを使用して行なうことができる。
前記式、及びの化合物及び21―ヒドロキ
シ―20―メチル―プレグナ―４，６―ジエン―３
―オンは新規であり、これらの新規化合物もま
た、本発明の一部を構成することが理解されよ
う。
シ―20―メチル―プレグナ―４，６―ジエン―３
―オンは新規であり、これらの新規化合物もま
た、本発明の一部を構成することが理解されよ
う。
前記式のプレグナン誘導体はコレカルシフエ
ロール（ビタミンD3）の誘導体、たとえば１α―
ヒドロキシコレカルシフエロール及び１α，25―
ジヒドロキシコレカルシフエロールの製造のため
の中間体として有用である。後記式の１α，25
―ジヒドロキシコレカルシフエロールへの式の
プレグナン誘導体の転化は、たとえば、下記反応
式に示された通りに行なうことができる： AcOがエステル化されたヒドロキシ基（たと
えば、アセトキシ基）を表わす場合の式Iaのプレ
グナン誘導体の式の化合物への転化は、テトラ
ヒドロフラン中で約20℃において４―クロロ―２
―メチル―ブト―１―エンを用いグリニヤール反
応により行なうことができる。ピリジン中の塩化
メタンスルホニルにより式の化合物を処理する
と、対応する22―メシレート（mesylate）が生
成し、このものは、加温しながらテトラヒドロフ
ラン中の水素化アルミニウムリチウムで処理する
と、式のコレスタ―５，25―ジエン―１α，３
β―オールを生成する。式のコレスタ―５，25
―ジエン―１α，３β―オールをテトラヒドロフ
ラン／水中の酢酸水銀（）で処理し、次いで水
素化ホウ素ナトリウム／水酸化ナトリウムで処理
すると、式のコレスト―５―エン―１α，３
β，25―トリオールが得られ、このものは公知の
方法で式の１α，25―ジヒドロキシ―ビタミン
D3に転化することができる。
ロール（ビタミンD3）の誘導体、たとえば１α―
ヒドロキシコレカルシフエロール及び１α，25―
ジヒドロキシコレカルシフエロールの製造のため
の中間体として有用である。後記式の１α，25
―ジヒドロキシコレカルシフエロールへの式の
プレグナン誘導体の転化は、たとえば、下記反応
式に示された通りに行なうことができる： AcOがエステル化されたヒドロキシ基（たと
えば、アセトキシ基）を表わす場合の式Iaのプレ
グナン誘導体の式の化合物への転化は、テトラ
ヒドロフラン中で約20℃において４―クロロ―２
―メチル―ブト―１―エンを用いグリニヤール反
応により行なうことができる。ピリジン中の塩化
メタンスルホニルにより式の化合物を処理する
と、対応する22―メシレート（mesylate）が生
成し、このものは、加温しながらテトラヒドロフ
ラン中の水素化アルミニウムリチウムで処理する
と、式のコレスタ―５，25―ジエン―１α，３
β―オールを生成する。式のコレスタ―５，25
―ジエン―１α，３β―オールをテトラヒドロフ
ラン／水中の酢酸水銀（）で処理し、次いで水
素化ホウ素ナトリウム／水酸化ナトリウムで処理
すると、式のコレスト―５―エン―１α，３
β，25―トリオールが得られ、このものは公知の
方法で式の１α，25―ジヒドロキシ―ビタミン
D3に転化することができる。
下記実施例により本発明の方法を更に説明す
る。
る。
実施例 １
乾燥したヘキサメタポル200ml中の（20S）―
21―ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ―１，４
―ジエン―３―オン20ｇの溶液を、鉱油中の50％
水素化ナトリウム分散液8.8ｇで処理し、アルゴ
ン雰囲気下に68時間室温で撹拌した。ベンゼン
500mlで希釈した後、過剰の水素化ナトリウムを
過により除去し、そして液を氷―水５中に
混ぜ込んだ。塩化ナトリウム300ｇの添加後、エ
マルジヨンを合計7.5のエーテルで抽出し、エ
ーテル抽出物を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そし
てウオーター・ジエツト真空中で濃縮した。残留
物をシリカゲル600ｇ上でクロマトグラフイーに
かけ、結晶性（20S）―21―ヒドロキシ―20―メ
チル―プレグナ―１，５―ジエン―３―オン16ｇ
（80％）がヘキサン／エーテル（７：１〜１：
１）溶出液中に得られる。エーテル／エタノール
から結晶化させると、生成物は融点148゜〜149
℃；〔α〕D＝＋65゜（クロロホルム中ｃ＝
0.5）：UV（エタノール）：λnax227nm（ε＝
11760）の白色針状晶を与える。
21―ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ―１，４
―ジエン―３―オン20ｇの溶液を、鉱油中の50％
水素化ナトリウム分散液8.8ｇで処理し、アルゴ
ン雰囲気下に68時間室温で撹拌した。ベンゼン
500mlで希釈した後、過剰の水素化ナトリウムを
過により除去し、そして液を氷―水５中に
混ぜ込んだ。塩化ナトリウム300ｇの添加後、エ
マルジヨンを合計7.5のエーテルで抽出し、エ
ーテル抽出物を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そし
てウオーター・ジエツト真空中で濃縮した。残留
物をシリカゲル600ｇ上でクロマトグラフイーに
かけ、結晶性（20S）―21―ヒドロキシ―20―メ
チル―プレグナ―１，５―ジエン―３―オン16ｇ
（80％）がヘキサン／エーテル（７：１〜１：
１）溶出液中に得られる。エーテル／エタノール
から結晶化させると、生成物は融点148゜〜149
℃；〔α〕D＝＋65゜（クロロホルム中ｃ＝
0.5）：UV（エタノール）：λnax227nm（ε＝
11760）の白色針状晶を与える。
実施例 ２
乾燥したジオキサン350ml中の（20S）―21―
ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ―１，５―ジ
エン―３―オン16.0ｇの溶液を、２，３―ジクロ
ロ―５，６―ジシアノベンゾキノン12.1ｇで処理
し、そして100℃にて６時間撹拌した。20℃に冷
却後、混合物を吸引過に付し、残留物をジオキ
サン80mlで洗浄し、一緒にした液をウオータ
ー・ジエツト真空中40℃にて濃縮した。残留物を
エーテル／塩化メチレン（２：１）800ml中に溶
解し、溶液を40％炭酸水素ナトリウム溶液390
ml、２―Ｎ水酸化ナトリウム750ml及び30％塩化
ナトリウム溶液400mlで続けて洗浄した。硫酸ナ
トリウム上での乾燥及びウオーター・ジエツト真
空中での濃縮後に得られた残留物（18.1ｇ）を酸
化アルミニウム（活性度）800ｇによりクロマ
トグラフイーにかけた。エーテル／酢酸エチル
（１：１）で溶出して均一な（20S）―21―ヒド
ロキシ―20―メチル―プレグナ―１，４，６―ト
リエン―３―オン13.7ｇ（85％）を得た。エーテ
ルから再結晶すると、融点156゜〜157℃；〔α〕D
＝−8.4゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）；UV（エ
タノール）；λnax224nm（ε＝11700）、256nm
（ε＝9980）及び302nm（ε＝12220）の僅かに黄
色がかつた着色した結晶が得られた。
ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ―１，５―ジ
エン―３―オン16.0ｇの溶液を、２，３―ジクロ
ロ―５，６―ジシアノベンゾキノン12.1ｇで処理
し、そして100℃にて６時間撹拌した。20℃に冷
却後、混合物を吸引過に付し、残留物をジオキ
サン80mlで洗浄し、一緒にした液をウオータ
ー・ジエツト真空中40℃にて濃縮した。残留物を
エーテル／塩化メチレン（２：１）800ml中に溶
解し、溶液を40％炭酸水素ナトリウム溶液390
ml、２―Ｎ水酸化ナトリウム750ml及び30％塩化
ナトリウム溶液400mlで続けて洗浄した。硫酸ナ
トリウム上での乾燥及びウオーター・ジエツト真
空中での濃縮後に得られた残留物（18.1ｇ）を酸
化アルミニウム（活性度）800ｇによりクロマ
トグラフイーにかけた。エーテル／酢酸エチル
（１：１）で溶出して均一な（20S）―21―ヒド
ロキシ―20―メチル―プレグナ―１，４，６―ト
リエン―３―オン13.7ｇ（85％）を得た。エーテ
ルから再結晶すると、融点156゜〜157℃；〔α〕D
＝−8.4゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）；UV（エ
タノール）；λnax224nm（ε＝11700）、256nm
（ε＝9980）及び302nm（ε＝12220）の僅かに黄
色がかつた着色した結晶が得られた。
実施例 ３
ジオキサン／水（３：１）200ml中の（20S）
―21―ヒドロキシ―20―メチル―６β―メトキシ
―３α，５―シクロ―５α―プレグナン4.31ｇの
溶液をｐ―トルエンスルホン酸水和物0.25ｇで処
理し、そして80℃で１時間撹拌した。冷却後、10
％炭酸ナトリウム溶液３mlを加え、混合物をウオ
ーター・ジエツト真空中40℃にて濃縮した。結晶
性残留物を水で処理し、懸濁液を吸引下に過
し、残留物を水で洗浄しそして乾燥した。融点
194゜〜202℃の（20S）―３β，21―ジヒドロキ
シ―20―メチル―プレグヌ―５―エン4.1ｇが得
られた。酢酸エチルから再結晶すると融点196゜
〜204℃；〔α〕D＝−60゜（クロロホルム中ｃ＝
0.5）の無色針状晶3.4ｇが得られた。
―21―ヒドロキシ―20―メチル―６β―メトキシ
―３α，５―シクロ―５α―プレグナン4.31ｇの
溶液をｐ―トルエンスルホン酸水和物0.25ｇで処
理し、そして80℃で１時間撹拌した。冷却後、10
％炭酸ナトリウム溶液３mlを加え、混合物をウオ
ーター・ジエツト真空中40℃にて濃縮した。結晶
性残留物を水で処理し、懸濁液を吸引下に過
し、残留物を水で洗浄しそして乾燥した。融点
194゜〜202℃の（20S）―３β，21―ジヒドロキ
シ―20―メチル―プレグヌ―５―エン4.1ｇが得
られた。酢酸エチルから再結晶すると融点196゜
〜204℃；〔α〕D＝−60゜（クロロホルム中ｃ＝
0.5）の無色針状晶3.4ｇが得られた。
乾燥したジオキサン36ml中の（20S―３β，21
―ジヒドロキシ―20―メチル―プレグヌ―５―エ
ン3.0ｇの沸騰溶液に、乾燥したジオキサン38ml
中の２，３―ジクロロ―５，６―ジシアノベンゾ
キノン7.16ｇの溶液を２時間以内に100℃にて滴
加し、次いで混合物を100℃にて３時間撹拌し
た。20℃に冷却後、懸濁液を吸引下に過し、残
留物をジオキサン40mlで洗浄し、液をウオータ
ー・ジエツト真空中45℃で濃縮した。残留物を塩
化メチレン200ml中に溶解し、溶液を40％の炭酸
水素ナトリウム溶液50mlで、次いで２―Ｎ水酸化
ナトリウム80mlでそして最終的に水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥し、過後、ウオーター・
ジエツト真空中で濃縮した。残留物（2.1ｇ）を
中性の酸化アルミニウム（活性度）70ｇにより
クロマトグラフイーにかけた。溶出は最初にヘキ
サン／エーテル（１：１）次いでエーテルで行な
いエーテル溶出液は（20S）―21―ヒドロキシ―
20―メチル―プレグナ―１，４，６―トリエン―
３―オン0.9ｇ（30.6％）を与えた。エーテルか
ら再結晶すると、融点156゜〜157℃；〔α〕D＝−
8.4゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）；UV（エタノ
ール）：λnax224nm（ε＝11700）、256nm（ε
＝99807）及び302nm（ε＝12220）の僅かに黄色
がかつた着色したフレークが得られた。
―ジヒドロキシ―20―メチル―プレグヌ―５―エ
ン3.0ｇの沸騰溶液に、乾燥したジオキサン38ml
中の２，３―ジクロロ―５，６―ジシアノベンゾ
キノン7.16ｇの溶液を２時間以内に100℃にて滴
加し、次いで混合物を100℃にて３時間撹拌し
た。20℃に冷却後、懸濁液を吸引下に過し、残
留物をジオキサン40mlで洗浄し、液をウオータ
ー・ジエツト真空中45℃で濃縮した。残留物を塩
化メチレン200ml中に溶解し、溶液を40％の炭酸
水素ナトリウム溶液50mlで、次いで２―Ｎ水酸化
ナトリウム80mlでそして最終的に水で洗浄し、硫
酸ナトリウム上で乾燥し、過後、ウオーター・
ジエツト真空中で濃縮した。残留物（2.1ｇ）を
中性の酸化アルミニウム（活性度）70ｇにより
クロマトグラフイーにかけた。溶出は最初にヘキ
サン／エーテル（１：１）次いでエーテルで行な
いエーテル溶出液は（20S）―21―ヒドロキシ―
20―メチル―プレグナ―１，４，６―トリエン―
３―オン0.9ｇ（30.6％）を与えた。エーテルか
ら再結晶すると、融点156゜〜157℃；〔α〕D＝−
8.4゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）；UV（エタノ
ール）：λnax224nm（ε＝11700）、256nm（ε
＝99807）及び302nm（ε＝12220）の僅かに黄色
がかつた着色したフレークが得られた。
実施例 ４
ジメチルホルムアミド５ml中の臭化物1.75ｇの
溶液を、（20S）―３β，21―ジヒドロキシ―20
―メチル―プレグヌ―５―エン1.66ｇ、ジメチル
ホルムアミド35ml、炭酸リチウム2.25ｇ及び臭化
リチウム1.08ｇから調製された懸濁液に、20分以
内に75℃で滴加した。得られる懸濁液を45分間75
℃にて撹拌し、冷却し、そして氷―水300mlに加
えた。そのエマルジヨンをエーテルで抽出し、エ
ーテル溶液を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥した。過及び濃縮後に得られた残留物（1.7
ｇ）を、溶出のための塩化メチレン／アセトン
（99：１）を使用してシリカゲル85ｇによりクロ
マトグラフイーにかけ、薄層クロマトグラフイー
により均一である結晶性（20S）―21―ヒドロキ
シ―20―メチル―プレグナ―４，６―ジエン―３
―オン1.12ｇが得られた。エーテルから再結晶す
ると、融点144゜〜145℃；〔α〕D＝＋37.5゜（ク
ロロホルム中ｃ＝１）；UV（エタノール）；λn
ａｘ284nm（ε＝26760）の淡黄色フレークが得ら
れた。
溶液を、（20S）―３β，21―ジヒドロキシ―20
―メチル―プレグヌ―５―エン1.66ｇ、ジメチル
ホルムアミド35ml、炭酸リチウム2.25ｇ及び臭化
リチウム1.08ｇから調製された懸濁液に、20分以
内に75℃で滴加した。得られる懸濁液を45分間75
℃にて撹拌し、冷却し、そして氷―水300mlに加
えた。そのエマルジヨンをエーテルで抽出し、エ
ーテル溶液を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥した。過及び濃縮後に得られた残留物（1.7
ｇ）を、溶出のための塩化メチレン／アセトン
（99：１）を使用してシリカゲル85ｇによりクロ
マトグラフイーにかけ、薄層クロマトグラフイー
により均一である結晶性（20S）―21―ヒドロキ
シ―20―メチル―プレグナ―４，６―ジエン―３
―オン1.12ｇが得られた。エーテルから再結晶す
ると、融点144゜〜145℃；〔α〕D＝＋37.5゜（ク
ロロホルム中ｃ＝１）；UV（エタノール）；λn
ａｘ284nm（ε＝26760）の淡黄色フレークが得ら
れた。
乾燥したベンゼン80ml中の（20S）―21―ヒド
ロキシ―20―メチル―プレグナ―４，６―ジエン
―３―オン1.7ｇの溶液を２，３―ジクロロ―
５，６―ジシアノベンゾキノン1.45ｇで処理し、
そして10時間還流沸騰せしめた。生成した懸濁液
を吸引下に過し、液を５％水酸化ナトリウ
ム、次いで水で洗浄し、その後に硫酸ナトリウム
上で乾燥した。濃縮後に得られた残留物を水酸化
アルミニウム10ｇのカラム上で塩化メチレンによ
り過した。液から１ｇの粗製晶出物が得ら
れ、このものをエーテルから再結晶して融点156
゜〜157℃の（20S）―21―ヒドロキシ―20―メ
チル―プレグナ―１，４，６―トリエン―３―オ
ンが得られた。このものは、実施例３に記載の如
く製造した化合物と同一であることが、薄層クロ
マトグラフイー、混合融点及びIRスペクトルに
より示された。
ロキシ―20―メチル―プレグナ―４，６―ジエン
―３―オン1.7ｇの溶液を２，３―ジクロロ―
５，６―ジシアノベンゾキノン1.45ｇで処理し、
そして10時間還流沸騰せしめた。生成した懸濁液
を吸引下に過し、液を５％水酸化ナトリウ
ム、次いで水で洗浄し、その後に硫酸ナトリウム
上で乾燥した。濃縮後に得られた残留物を水酸化
アルミニウム10ｇのカラム上で塩化メチレンによ
り過した。液から１ｇの粗製晶出物が得ら
れ、このものをエーテルから再結晶して融点156
゜〜157℃の（20S）―21―ヒドロキシ―20―メ
チル―プレグナ―１，４，６―トリエン―３―オ
ンが得られた。このものは、実施例３に記載の如
く製造した化合物と同一であることが、薄層クロ
マトグラフイー、混合融点及びIRスペクトルに
より示された。
実施例 ５
ジオキサン62ml及び水21ml中の（20S）―21―
アセトキシ―６β―メトキシ―20―メチル―３
α，５―シクロ―５α―プレグナン2.0ｇの溶液
をｐ―トルエンスルホン酸0.1ｇで処理し、そし
て80℃に１時間保持した。溶液を20℃に冷却し、
飽和炭酸ナトリウム溶液３mlで処理して真空中で
濃縮した。残留物を塩化メチレン乃び水中に溶解
し、有機層を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、
そして硫酸ナトリウム上で乾燥した。過及び濃
縮後に得られた残留物を、溶出のための塩化メチ
レン／アセトン（99：１）を使用してシリカゲル
100ｇによりクロマトグラフイーにかけ、（20S）
―21―アセトキシ―３β―ヒドロキシ―20―メチ
ル―プレグヌ―５―エン1.78ｇが得られた。生成
物は融点143℃；〔α〕D＝−43.8゜（クロロホル
ム中ｃ＝0.9）の白色フレークの形態でエーテ
ル／ヘキサンから結晶化した。
アセトキシ―６β―メトキシ―20―メチル―３
α，５―シクロ―５α―プレグナン2.0ｇの溶液
をｐ―トルエンスルホン酸0.1ｇで処理し、そし
て80℃に１時間保持した。溶液を20℃に冷却し、
飽和炭酸ナトリウム溶液３mlで処理して真空中で
濃縮した。残留物を塩化メチレン乃び水中に溶解
し、有機層を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、
そして硫酸ナトリウム上で乾燥した。過及び濃
縮後に得られた残留物を、溶出のための塩化メチ
レン／アセトン（99：１）を使用してシリカゲル
100ｇによりクロマトグラフイーにかけ、（20S）
―21―アセトキシ―３β―ヒドロキシ―20―メチ
ル―プレグヌ―５―エン1.78ｇが得られた。生成
物は融点143℃；〔α〕D＝−43.8゜（クロロホル
ム中ｃ＝0.9）の白色フレークの形態でエーテ
ル／ヘキサンから結晶化した。
乾燥したジオキサン16ml中の（20S）―21―ア
セトキシ―３β―ヒドロキシ―20―メチル―プレ
グヌ―５―エン1.54ｇの沸騰溶液に、乾燥したジ
オキサン20ml中のジクロロジシアノベンゾキノン
3.73ｇの溶液を１時間以内に100℃で滴加し、混
合物を100℃で3.5時間撹拌した。20℃に冷却後、
懸濁液を過し、残留物をジオキサン30mlで洗浄
し、液を真空中で40℃に濃縮した。残留物を塩
化メチレン中に溶解し、20％炭酸水素ナトリウム
溶液、１―Ｎ水酸化ナトリウム及び水で続けて洗
浄し、次いで硫酸ナトリウム上で乾燥した。過
及び濃縮後に得られた残留物（樹脂2.2ｇ）を、
溶出のための塩化メチレン／アセトン（49：１）
を使用してシリカゲル100ｇによりクロマトグラ
フイーにかけ、融点90゜〜93℃；〔α〕D＝−18.8
゜（クロロホルム中ｃ＝1.0）；UV（エタノー
ル）；λnax233nm（ε＝11115）、253nm（ε
9900）及び300nm（ε＝11150）の（20S）―21―
アセトキシ―20―メチル―プレグナ―１，４，６
―トリエン―３―オン0.87ｇ（58％）が得られ
た。
セトキシ―３β―ヒドロキシ―20―メチル―プレ
グヌ―５―エン1.54ｇの沸騰溶液に、乾燥したジ
オキサン20ml中のジクロロジシアノベンゾキノン
3.73ｇの溶液を１時間以内に100℃で滴加し、混
合物を100℃で3.5時間撹拌した。20℃に冷却後、
懸濁液を過し、残留物をジオキサン30mlで洗浄
し、液を真空中で40℃に濃縮した。残留物を塩
化メチレン中に溶解し、20％炭酸水素ナトリウム
溶液、１―Ｎ水酸化ナトリウム及び水で続けて洗
浄し、次いで硫酸ナトリウム上で乾燥した。過
及び濃縮後に得られた残留物（樹脂2.2ｇ）を、
溶出のための塩化メチレン／アセトン（49：１）
を使用してシリカゲル100ｇによりクロマトグラ
フイーにかけ、融点90゜〜93℃；〔α〕D＝−18.8
゜（クロロホルム中ｃ＝1.0）；UV（エタノー
ル）；λnax233nm（ε＝11115）、253nm（ε
9900）及び300nm（ε＝11150）の（20S）―21―
アセトキシ―20―メチル―プレグナ―１，４，６
―トリエン―３―オン0.87ｇ（58％）が得られ
た。
エタノール12ml中の（20S）―21―アセトキシ
―20―メチル―プレグナ―１，４，６―トリエン
―３―オン0.8ｇの溶液を１―Ｎ水酸化ナトリウ
ム6.5mlで処理し、そして室温で一夜放置した。
溶液を氷酢酸で中和し、そして真空中で濃縮し
た。残留物を塩化メチレン中に溶解し、水で洗浄
し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥した。過及
び濃縮後に得られた結晶性残留物から、エーテル
から再結晶後、融点156゜〜157℃の黄色がかつた
結晶の形態で（20S）―21―ヒドロキシ―20―メ
チル―プレグナ―１，４，６―トリエン―３―オ
ンが得られた。
―20―メチル―プレグナ―１，４，６―トリエン
―３―オン0.8ｇの溶液を１―Ｎ水酸化ナトリウ
ム6.5mlで処理し、そして室温で一夜放置した。
溶液を氷酢酸で中和し、そして真空中で濃縮し
た。残留物を塩化メチレン中に溶解し、水で洗浄
し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥した。過及
び濃縮後に得られた結晶性残留物から、エーテル
から再結晶後、融点156゜〜157℃の黄色がかつた
結晶の形態で（20S）―21―ヒドロキシ―20―メ
チル―プレグナ―１，４，６―トリエン―３―オ
ンが得られた。
実施例 ６
３，４―ジヒドロ―2H―ピラン9.1ml及び無水
ｐ―トルエンスルホン酸0.091ｇを、無水ベンゼ
ン300ml中の（20S）―21―ヒドロキシ―20―メ
チル―プレグナ―１，４，６―トリエン―３―オ
ン13.0ｇの溶液に加え、そして混合物を室温で１
時間放置した。溶液をエーテル500mlで希釈し、
飽和炭酸水素ナトリウム溶液250mlで、次いで30
％塩化ナトリウム溶液合計500mlで洗浄し、次い
で硫酸ナトリウム上で乾燥した。過及びウオー
ター・ジエツト真空中の濃縮後に得られた残留物
（17.6ｇ）を溶出のためエーテルを使用してシリ
カゲル500ｇによりクロマトグラフイーにかけ、
薄層クロマトグラフイーにより均一である結晶性
（20S）―20―メチル―21―テトラヒドロピラニ
ルオキシ―プレグナ―１，４，６―トリエン―３
―オン14.2ｇ（86％）が得られた。ヘキサンから
再結晶後、生成物は101゜〜102℃で溶融し；UV
（エタノール）：λnax223.5nm（ε＝11200）、
254.5nm（ε＝10090）及び301.5nm（ε＝
11630）を有する。
ｐ―トルエンスルホン酸0.091ｇを、無水ベンゼ
ン300ml中の（20S）―21―ヒドロキシ―20―メ
チル―プレグナ―１，４，６―トリエン―３―オ
ン13.0ｇの溶液に加え、そして混合物を室温で１
時間放置した。溶液をエーテル500mlで希釈し、
飽和炭酸水素ナトリウム溶液250mlで、次いで30
％塩化ナトリウム溶液合計500mlで洗浄し、次い
で硫酸ナトリウム上で乾燥した。過及びウオー
ター・ジエツト真空中の濃縮後に得られた残留物
（17.6ｇ）を溶出のためエーテルを使用してシリ
カゲル500ｇによりクロマトグラフイーにかけ、
薄層クロマトグラフイーにより均一である結晶性
（20S）―20―メチル―21―テトラヒドロピラニ
ルオキシ―プレグナ―１，４，６―トリエン―３
―オン14.2ｇ（86％）が得られた。ヘキサンから
再結晶後、生成物は101゜〜102℃で溶融し；UV
（エタノール）：λnax223.5nm（ε＝11200）、
254.5nm（ε＝10090）及び301.5nm（ε＝
11630）を有する。
実施例 ７
メタノール1.38中の（20S）―20―メチル―
21―テトラヒドロピラニルオキシ―プレグナ―
１，４，６―トリエン―３―オン39.9ｇの溶液
を、メタノール9.2ml及び30％過酸化水素59.2ml
中の水酸化カリウム0.92ｇの溶液で処理した。20
℃で６時間撹拌後、混合物を水1.4に注ぎそし
てヘキサン／エーテル（１：２）合計９で抽出
した。有機層を20％炭酸水素ナトリウム溶液合計
1.2で、次いで30％塩化ナトリウム溶液500mlで
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、ウオータ
ー・ジエツト真空中で濃縮した。残留物の黄色油
状物38ｇを、溶出のためのヘキサン／エーテル
（４：１）を使用してシリカゲル1.1Kgによりクロ
マトグラフイーにかけ、薄層クロマトグラフイー
により均一である結晶性（20S）―１α，２α―
エポキシ―20―メチル―21―テトラヒドロピラニ
ルオキシ―プレグナ―４，６―ジエン―３―オン
22.4ｇ（53.9％）が得られた。ヘキサンから再結
晶後、融点113.5゜〜115℃；〔α〕D＝176゜（ク
ロロホルム中ｃ＝1.0）；UV（エタノール）：λ
nax292nm（ε＝21370）の白色結晶が得られた。
21―テトラヒドロピラニルオキシ―プレグナ―
１，４，６―トリエン―３―オン39.9ｇの溶液
を、メタノール9.2ml及び30％過酸化水素59.2ml
中の水酸化カリウム0.92ｇの溶液で処理した。20
℃で６時間撹拌後、混合物を水1.4に注ぎそし
てヘキサン／エーテル（１：２）合計９で抽出
した。有機層を20％炭酸水素ナトリウム溶液合計
1.2で、次いで30％塩化ナトリウム溶液500mlで
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、ウオータ
ー・ジエツト真空中で濃縮した。残留物の黄色油
状物38ｇを、溶出のためのヘキサン／エーテル
（４：１）を使用してシリカゲル1.1Kgによりクロ
マトグラフイーにかけ、薄層クロマトグラフイー
により均一である結晶性（20S）―１α，２α―
エポキシ―20―メチル―21―テトラヒドロピラニ
ルオキシ―プレグナ―４，６―ジエン―３―オン
22.4ｇ（53.9％）が得られた。ヘキサンから再結
晶後、融点113.5゜〜115℃；〔α〕D＝176゜（ク
ロロホルム中ｃ＝1.0）；UV（エタノール）：λ
nax292nm（ε＝21370）の白色結晶が得られた。
実施例 ８
四塩化炭素300ml中の（20S）―21―ヒドロキ
シ―20―メチル―プレグナ―１，４―ジエン―３
―オン5.2ｇの沸騰溶液に、Ｎ―ブロモスクシン
イミド3.4ｇ及びアゾイソブチロニトリル0.16ｇ
を加え、混合物を30分間還流下に沸騰せしめた。
得られた懸濁液を50℃に冷却し、過し、残留物
を四塩化炭素で洗浄した。一緒にした液を真空
中で濃縮して、残留物として、（20S）―６―ブ
ロモ―21―ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ―
１，４―ジエン―３―オンの油状Ｃ(6)エピマー混
合物を得た。これをジメチルホルムアミド50ml中
に溶解し、炭酸リチウム1.3ｇ及び臭化リチウム
1.4ｇで処理し、混合物をアルゴン雰囲気下に４
時間還流下に沸騰せしめた。冷却した混合物を氷
水400mlに滴加し、分離した粗製（20S）―21―
ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ―１，４，６
―トリエン３―オンを吸引下に別した。
シ―20―メチル―プレグナ―１，４―ジエン―３
―オン5.2ｇの沸騰溶液に、Ｎ―ブロモスクシン
イミド3.4ｇ及びアゾイソブチロニトリル0.16ｇ
を加え、混合物を30分間還流下に沸騰せしめた。
得られた懸濁液を50℃に冷却し、過し、残留物
を四塩化炭素で洗浄した。一緒にした液を真空
中で濃縮して、残留物として、（20S）―６―ブ
ロモ―21―ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ―
１，４―ジエン―３―オンの油状Ｃ(6)エピマー混
合物を得た。これをジメチルホルムアミド50ml中
に溶解し、炭酸リチウム1.3ｇ及び臭化リチウム
1.4ｇで処理し、混合物をアルゴン雰囲気下に４
時間還流下に沸騰せしめた。冷却した混合物を氷
水400mlに滴加し、分離した粗製（20S）―21―
ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ―１，４，６
―トリエン３―オンを吸引下に別した。
前節に従つて得られた乾燥した粗製生成物をメ
タノール100ml中に溶解し、10％メタノール性水
酸化ナトリウム６mlを10分間撹拌しながら５゜〜
７℃で滴加した。７℃にて40分間及び20℃にて２
時間撹拌した後、混合物を５％塩化ナトリウム溶
液1.1に加え、そしてエーテルで抽出した。抽
出物を20％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、ウオーター・ジ
エツト真空中で濃縮した。残留物を溶出のための
ヘキサン／エーテル（４：１）を使用してシリカ
ゲル100ｇによりクロマトグラフイーにかけ、メ
タノール／エーテルから再結晶させて、融点158
゜〜161℃；〔α〕D＝＋213.0゜（クロロホルム中
ｃ＝0.25）；UV（エタノール）：λnax292nm
（ε＝19380）の純粋な（20S）―１α，２α―エ
ポキシ―21―ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ
―４，６―ジエン―３―オン1.4ｇを得た。
タノール100ml中に溶解し、10％メタノール性水
酸化ナトリウム６mlを10分間撹拌しながら５゜〜
７℃で滴加した。７℃にて40分間及び20℃にて２
時間撹拌した後、混合物を５％塩化ナトリウム溶
液1.1に加え、そしてエーテルで抽出した。抽
出物を20％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、ウオーター・ジ
エツト真空中で濃縮した。残留物を溶出のための
ヘキサン／エーテル（４：１）を使用してシリカ
ゲル100ｇによりクロマトグラフイーにかけ、メ
タノール／エーテルから再結晶させて、融点158
゜〜161℃；〔α〕D＝＋213.0゜（クロロホルム中
ｃ＝0.25）；UV（エタノール）：λnax292nm
（ε＝19380）の純粋な（20S）―１α，２α―エ
ポキシ―21―ヒドロキシ―20―メチル―プレグナ
―４，６―ジエン―３―オン1.4ｇを得た。
実施例 ９
３，４―ジヒドロ―2H―ピラン1.8ml及び無水
ｐ―トルエンスルホン酸20mgを無水ベンゼン125
ml中の（20S）―１α，２α―エポキシ―21―ヒ
ドロキシ―20―メチル―プレグナ―４，６―ジエ
ン―３―オン2.45ｇの溶液に加えた。室温で１時
間放置した後、溶液をエーテルで希釈し、飽和炭
酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、ウオーター・ジエツト真空中
で濃縮した。残留物を溶出のためのヘキサン／エ
ーテル（４：１）を使用してシリカゲル30ｇによ
りクロマトグラフイーにかけ、（20S）―１α，
２α―エポキシ―20―メチル―21―テトラヒドロ
ピラニルオキシ―プレグナ―４，６―ジエン―３
―オン2.0ｇ（65％）が得られた。ヘキサンから
再結晶後、生成物は101゜〜102℃で溶融し、薄層
クロマトグラフイー、混合融点及びIRスペクト
ルにより、実施例７に記載の如くして製造した化
合物と同一であることが示された。
ｐ―トルエンスルホン酸20mgを無水ベンゼン125
ml中の（20S）―１α，２α―エポキシ―21―ヒ
ドロキシ―20―メチル―プレグナ―４，６―ジエ
ン―３―オン2.45ｇの溶液に加えた。室温で１時
間放置した後、溶液をエーテルで希釈し、飽和炭
酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄し、硫酸ナト
リウム上で乾燥し、ウオーター・ジエツト真空中
で濃縮した。残留物を溶出のためのヘキサン／エ
ーテル（４：１）を使用してシリカゲル30ｇによ
りクロマトグラフイーにかけ、（20S）―１α，
２α―エポキシ―20―メチル―21―テトラヒドロ
ピラニルオキシ―プレグナ―４，６―ジエン―３
―オン2.0ｇ（65％）が得られた。ヘキサンから
再結晶後、生成物は101゜〜102℃で溶融し、薄層
クロマトグラフイー、混合融点及びIRスペクト
ルにより、実施例７に記載の如くして製造した化
合物と同一であることが示された。
実施例 10
無水のエーテル170ml中の（20S）―１α，２
α―エポキシ―20―メチル―21―テトラヒドロピ
ラニルオキシ―プレグナ―４，６―ジエン―３―
オン3.0ｇの溶液を液体アンモニア260ml中のリチ
ウム0.91ｇの溶液に撹拌しながら、45分以内に−
33℃で加えた。更に15分間撹拌しながら、イソプ
レンを、色の変化が起こるまで約10分以内に滴加
し、次いで塩化アンモニウム合計14.3ｇを約５分
以内に分割して加えた。アンモニアを留去し、氷
冷飽和塩化アンモニウム30mlを残留物に加え、−
25℃に冷却し、生成物を氷冷エーテル合計150ml
中に溶解した。抽出物を氷冷30％塩化ナトリウム
溶液50mlで洗浄し、０℃でウオーター・ジエツト
真空中約80mlに濃縮した。濃縮物を−15℃に冷却
し、そして15分以内にメタノール96ml、水9.6ml
及び水素化ホウ素ナトリウム0.96ｇの冷却され、
撹拌された混合物に滴加した。混合物を更に１時
間−70℃で撹拌し、次いで０℃で１％酢酸１中
に注ぎ、炭酸水素ナトリウム73ｇをそれに加え
た。水400mlで希釈した後、混合物を酢酸エチル
合計２で抽出し、抽出物をウオーター・ジエツ
ト真空中で濃縮した。残留物（3.44ｇ）を、溶出
のためのヘキサン／エーテル混合物を使用してシ
リカゲル50ｇによるクロマトグラフイーにかけ、
その際エーテル含有率を０％から50％に上昇させ
た。ヘキサン／エーテル（１：１）溶出液から、
粗製（20S）―１α，３β―ジヒドロキシ―20―
メチル―21―テトラヒドロピラニルオキシ―プレ
グン―５―エン1.833ｇが得られた。ピリジン27
ml中のこの粗製ジオールの溶液を無水酢酸27ml及
び４―ジメチルアミノピリジン0.024ｇで処理
し、そして48時間室温で貯蔵した。溶液を飽和炭
酸水素ナトリウム溶液200ml及び氷100ｇの混合物
上に注ぎ、次いでエーテル計300mlで抽出した。
抽出液を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、ウオーター・ジエツト真空中40℃で濃縮し
た。溶出のためのヘキサン／エーテル（９：１）
を使用してシリカゲル84ｇにより残留物（2.83
ｇ）をクロマトグラフイーにかけると、均一な結
晶性（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―20―
メチル―21―テトラヒドロピラニルオキシ―プレ
グン―５―エン1.69ｇ（46.5％）を得た。ヘキサ
ンから再結晶後、生成物は137゜〜138.5℃で溶融
し、〔α〕D＝−７゜（クロロホルム中ｃ＝1.0）で
あつた。
α―エポキシ―20―メチル―21―テトラヒドロピ
ラニルオキシ―プレグナ―４，６―ジエン―３―
オン3.0ｇの溶液を液体アンモニア260ml中のリチ
ウム0.91ｇの溶液に撹拌しながら、45分以内に−
33℃で加えた。更に15分間撹拌しながら、イソプ
レンを、色の変化が起こるまで約10分以内に滴加
し、次いで塩化アンモニウム合計14.3ｇを約５分
以内に分割して加えた。アンモニアを留去し、氷
冷飽和塩化アンモニウム30mlを残留物に加え、−
25℃に冷却し、生成物を氷冷エーテル合計150ml
中に溶解した。抽出物を氷冷30％塩化ナトリウム
溶液50mlで洗浄し、０℃でウオーター・ジエツト
真空中約80mlに濃縮した。濃縮物を−15℃に冷却
し、そして15分以内にメタノール96ml、水9.6ml
及び水素化ホウ素ナトリウム0.96ｇの冷却され、
撹拌された混合物に滴加した。混合物を更に１時
間−70℃で撹拌し、次いで０℃で１％酢酸１中
に注ぎ、炭酸水素ナトリウム73ｇをそれに加え
た。水400mlで希釈した後、混合物を酢酸エチル
合計２で抽出し、抽出物をウオーター・ジエツ
ト真空中で濃縮した。残留物（3.44ｇ）を、溶出
のためのヘキサン／エーテル混合物を使用してシ
リカゲル50ｇによるクロマトグラフイーにかけ、
その際エーテル含有率を０％から50％に上昇させ
た。ヘキサン／エーテル（１：１）溶出液から、
粗製（20S）―１α，３β―ジヒドロキシ―20―
メチル―21―テトラヒドロピラニルオキシ―プレ
グン―５―エン1.833ｇが得られた。ピリジン27
ml中のこの粗製ジオールの溶液を無水酢酸27ml及
び４―ジメチルアミノピリジン0.024ｇで処理
し、そして48時間室温で貯蔵した。溶液を飽和炭
酸水素ナトリウム溶液200ml及び氷100ｇの混合物
上に注ぎ、次いでエーテル計300mlで抽出した。
抽出液を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、ウオーター・ジエツト真空中40℃で濃縮し
た。溶出のためのヘキサン／エーテル（９：１）
を使用してシリカゲル84ｇにより残留物（2.83
ｇ）をクロマトグラフイーにかけると、均一な結
晶性（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―20―
メチル―21―テトラヒドロピラニルオキシ―プレ
グン―５―エン1.69ｇ（46.5％）を得た。ヘキサ
ンから再結晶後、生成物は137゜〜138.5℃で溶融
し、〔α〕D＝−７゜（クロロホルム中ｃ＝1.0）で
あつた。
実施例 11
氷酢酸13ml中の（20S）―１α，３β―ジアセ
トキシ―20―メチル―21―テトラヒドロピラニル
オキシ―プレグン―５―エン1.3ｇの溶液を水４
mlで処理し、80℃に加温した。水６mlの添加後、
混合物を80℃で１時間放置し、冷却し、水100ml
中に注いだ。生成物をエーテル100mlで抽出し、
抽出物を飽和炭酸水素ナトリウム溶液で、次いで
30％塩化ナトリウム溶液で洗浄し、次いで硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。過及びウオーター・ジ
エツト真空中での濃縮後、残留物1.19ｇが得られ
た。この残留物を溶出のためのヘキサン／エーテ
ル（４：１）を使用してシリカゲル25ｇによりク
ロマトグラフイーにかけると、純粋な結晶性
（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―21―ヒド
ロキシ―20―メチル―プレグン―５―エン0.938
ｇ（80％）が得られた。エーテル／ヘキサンから
再結晶すると、融点134.5゜〜135℃；〔α〕D＝28
゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）の小さな白色針状
晶が得られた。
トキシ―20―メチル―21―テトラヒドロピラニル
オキシ―プレグン―５―エン1.3ｇの溶液を水４
mlで処理し、80℃に加温した。水６mlの添加後、
混合物を80℃で１時間放置し、冷却し、水100ml
中に注いだ。生成物をエーテル100mlで抽出し、
抽出物を飽和炭酸水素ナトリウム溶液で、次いで
30％塩化ナトリウム溶液で洗浄し、次いで硫酸ナ
トリウム上で乾燥した。過及びウオーター・ジ
エツト真空中での濃縮後、残留物1.19ｇが得られ
た。この残留物を溶出のためのヘキサン／エーテ
ル（４：１）を使用してシリカゲル25ｇによりク
ロマトグラフイーにかけると、純粋な結晶性
（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―21―ヒド
ロキシ―20―メチル―プレグン―５―エン0.938
ｇ（80％）が得られた。エーテル／ヘキサンから
再結晶すると、融点134.5゜〜135℃；〔α〕D＝28
゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）の小さな白色針状
晶が得られた。
実施例 12
無水のエーテル25ml中の（20S）―１α，３β
―ジアセトキシ―20―メチル―21―テトラヒドロ
ピラニルオキシ―プレグン―５―エン1.5ｇの溶
液に水素化アルミニウムリチウム0.3ｇを０℃で
加え、得られた懸濁液を１時間室温で撹拌した。
０℃に冷却後、酢酸エチル２mlを加え、混合物を
氷―水に注加した。不溶性成分を酢酸エチルで抽
出し、有機溶液を水で洗浄し、そして硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。過及び真空中での濃縮後、
結晶性（20S）―１α，３β―ジヒドロキシ―20
―メチル―21―テトラヒドロピラニルオキシ―プ
レグン―５―エン1.4ｇが得られた。メタノール
から再結晶の後、融点138゜〜141℃；〔α〕D＝−
48.8゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）の白色結晶が
得られた。
―ジアセトキシ―20―メチル―21―テトラヒドロ
ピラニルオキシ―プレグン―５―エン1.5ｇの溶
液に水素化アルミニウムリチウム0.3ｇを０℃で
加え、得られた懸濁液を１時間室温で撹拌した。
０℃に冷却後、酢酸エチル２mlを加え、混合物を
氷―水に注加した。不溶性成分を酢酸エチルで抽
出し、有機溶液を水で洗浄し、そして硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。過及び真空中での濃縮後、
結晶性（20S）―１α，３β―ジヒドロキシ―20
―メチル―21―テトラヒドロピラニルオキシ―プ
レグン―５―エン1.4ｇが得られた。メタノール
から再結晶の後、融点138゜〜141℃；〔α〕D＝−
48.8゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）の白色結晶が
得られた。
実施例 13
氷酢酸6.9ml中の（20S）―１α，３β―ジヒド
ロキシ―20―メチル―21―テトラヒドロピラニル
オキシ―プレグン―５―エン0.69ｇ及び水2.1ml
を80℃に加温し、更に水3.2mlを加えた。混合物
を１時間80℃に保持しそして水に注いだ。懸濁液
を酢酸エチルで抽出し、有機溶液を飽和炭酸水素
ナトリウム溶液及び水で洗浄した。真空中で乾燥
及び濃縮後、（20S）―20―メチル―１α，３
β，21―トリヒドロキシ―プレグン―５―エン
0.6ｇが得られた。アセトンから再結晶すると、
融点208゜〜209℃；〔α〕D＝−29゜（クロロホル
ム中ｃ＝0.5）の無色柱状晶0.3ｇが得られた。
ロキシ―20―メチル―21―テトラヒドロピラニル
オキシ―プレグン―５―エン0.69ｇ及び水2.1ml
を80℃に加温し、更に水3.2mlを加えた。混合物
を１時間80℃に保持しそして水に注いだ。懸濁液
を酢酸エチルで抽出し、有機溶液を飽和炭酸水素
ナトリウム溶液及び水で洗浄した。真空中で乾燥
及び濃縮後、（20S）―20―メチル―１α，３
β，21―トリヒドロキシ―プレグン―５―エン
0.6ｇが得られた。アセトンから再結晶すると、
融点208゜〜209℃；〔α〕D＝−29゜（クロロホル
ム中ｃ＝0.5）の無色柱状晶0.3ｇが得られた。
実施例 14
ジメチルスルホキシド５ml及びベンゼン５ml中
の（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―21―ヒ
ドロキシ―20―メチル―プレグン―５―エンの溶
液を、ピリジン0.24ml、トリフルオロ酢酸0.12
ml、及びジシクロヘキシルカルボジイミド1.85ｇ
で処理した。混合物を室温で23時間放置し、次い
でエーテル５ml中の無水シユウ酸0.5ｇの溶液を
滴加した。室温で45分間撹拌の後、懸濁液を吸引
下に過し、残留物をエーテルで洗浄した。液
を飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、次いで
水で中性となるまで洗浄し、その後硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。濃縮後に得られた残留物を溶出
のためのヘキサン／エーテル（４：１）を使用し
てシリカゲル25ｇによりクロマトグラフイーにか
け、〔α〕D＝−37゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）の
無定形（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―20
―メチル―プレグン―５―エン―21―アール
0.713ｇが得られた。
の（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―21―ヒ
ドロキシ―20―メチル―プレグン―５―エンの溶
液を、ピリジン0.24ml、トリフルオロ酢酸0.12
ml、及びジシクロヘキシルカルボジイミド1.85ｇ
で処理した。混合物を室温で23時間放置し、次い
でエーテル５ml中の無水シユウ酸0.5ｇの溶液を
滴加した。室温で45分間撹拌の後、懸濁液を吸引
下に過し、残留物をエーテルで洗浄した。液
を飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、次いで
水で中性となるまで洗浄し、その後硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した。濃縮後に得られた残留物を溶出
のためのヘキサン／エーテル（４：１）を使用し
てシリカゲル25ｇによりクロマトグラフイーにか
け、〔α〕D＝−37゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）の
無定形（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―20
―メチル―プレグン―５―エン―21―アール
0.713ｇが得られた。
実施例 15
無水のエタノール６ml中の硝酸銀127.4mgの溶
液を（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―20―
メチル―プレグン―５―エン―21―アール215.3
mgで処理し、エタノール４ml及び５―Ｎ水酸化ナ
トリウム0.36mlの混合物を撹拌しながら滴加し
た。混合物を室温で24時間撹拌し、そして吸引下
に過した。１―Ｎ水酸化ナトリウム20mlを液
に加え、混合物を一夜室温に放置した。溶液から
真空中でエタノールを除去し、希硫酸を添加して
酸性にした。分離した粗製の酸を吸引下に過
し、メタノール／水（３：２）から再結晶して、
（20S）―１α，３β―ジヒドロキシ―20―メチ
ル―プレグン―５―エン―21―カルボン酸103mg
が融点268゜〜270℃；〔α〕D＝−41゜（メタノー
ル中ｃ＝0.5）の小さな白色針状晶の形態で得ら
れた。
液を（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―20―
メチル―プレグン―５―エン―21―アール215.3
mgで処理し、エタノール４ml及び５―Ｎ水酸化ナ
トリウム0.36mlの混合物を撹拌しながら滴加し
た。混合物を室温で24時間撹拌し、そして吸引下
に過した。１―Ｎ水酸化ナトリウム20mlを液
に加え、混合物を一夜室温に放置した。溶液から
真空中でエタノールを除去し、希硫酸を添加して
酸性にした。分離した粗製の酸を吸引下に過
し、メタノール／水（３：２）から再結晶して、
（20S）―１α，３β―ジヒドロキシ―20―メチ
ル―プレグン―５―エン―21―カルボン酸103mg
が融点268゜〜270℃；〔α〕D＝−41゜（メタノー
ル中ｃ＝0.5）の小さな白色針状晶の形態で得ら
れた。
実施例 16
メタノール50ml中の（20S）―１α，３β―ジ
ヒドロキシ―20―メチル―プレグン―５―エン―
21―カルボン酸1.0ｇの溶液を、ジアゾメタン４
ミリモルを含有するエーテル性溶液で処理し、30
分間室温で貯蔵した。氷酢酸の添加後、混合物を
真空中で濃縮した。薄層クロマトグラフイーによ
り均一である結晶性残留物を濃メタノール性溶液
から再結晶して、融点144゜〜146℃；〔α〕D＝−
56゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）の無色柱状晶の
形態で（20S）―１α，３β―ジヒドロキシ―20
―メチル―プレグン―５―エン―21―カルボン酸
メチルエステル0.79ｇが得られた。このエステル
各１モルは結晶化のメタノール１モルを含有して
いた。
ヒドロキシ―20―メチル―プレグン―５―エン―
21―カルボン酸1.0ｇの溶液を、ジアゾメタン４
ミリモルを含有するエーテル性溶液で処理し、30
分間室温で貯蔵した。氷酢酸の添加後、混合物を
真空中で濃縮した。薄層クロマトグラフイーによ
り均一である結晶性残留物を濃メタノール性溶液
から再結晶して、融点144゜〜146℃；〔α〕D＝−
56゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）の無色柱状晶の
形態で（20S）―１α，３β―ジヒドロキシ―20
―メチル―プレグン―５―エン―21―カルボン酸
メチルエステル0.79ｇが得られた。このエステル
各１モルは結晶化のメタノール１モルを含有して
いた。
実施例 17
ピリジン２ml中の（20S）―１α，３β―ジヒ
ドロキシ―20―メチル―プレグン―５―エン―21
―カルボン酸メチルエステル0.101ｇの溶液を、
無水酢酸２mlで、次いで４―ジメチルアミノピリ
ジン５mgで処理し、室温で48時間放置した。混合
物を氷―水に注加し、生成物をエーテルで抽出し
た。エーテル性溶液を２―Ｎ塩酸、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液、及び水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥して真空中で濃縮した。残留物
（0.113ｇ）をエーテル／メタノールから再結晶
し、そして融点123゜〜124℃；〔α〕D＝−34゜
（クロロホルム中ｃ＝0.25）の無色の柱状晶の形
態の（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―20―
メチル―プレグン―５―エン―21―カルボン酸メ
チルエステルが得られた。
ドロキシ―20―メチル―プレグン―５―エン―21
―カルボン酸メチルエステル0.101ｇの溶液を、
無水酢酸２mlで、次いで４―ジメチルアミノピリ
ジン５mgで処理し、室温で48時間放置した。混合
物を氷―水に注加し、生成物をエーテルで抽出し
た。エーテル性溶液を２―Ｎ塩酸、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液、及び水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥して真空中で濃縮した。残留物
（0.113ｇ）をエーテル／メタノールから再結晶
し、そして融点123゜〜124℃；〔α〕D＝−34゜
（クロロホルム中ｃ＝0.25）の無色の柱状晶の形
態の（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―20―
メチル―プレグン―５―エン―21―カルボン酸メ
チルエステルが得られた。
実施例 18
無水のベンゼン40ml中の（20S）―１α，３β
―ジヒドロキシ―20―メチル―プレグン―５―エ
ン―21―カルボン酸メチルエステル0.875ｇの溶
液を、無水ｐ―トルエンスルホン酸10mg及び３，
４―ジヒドロ―2H―ピラン1.5mlで処理し、そし
て室温で24時間貯蔵した。溶液をエーテルで希釈
し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥した。真空中で濃縮及び乾燥
の後〔α〕D＝−12゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）
の油状（20S）―１α，３β―ジ（テトラヒドロ
ピラニルオキシ）―20―メチル―プレグン―５―
エン―21―カルボン酸メチルエステル1.2ｇが得
られた。
―ジヒドロキシ―20―メチル―プレグン―５―エ
ン―21―カルボン酸メチルエステル0.875ｇの溶
液を、無水ｐ―トルエンスルホン酸10mg及び３，
４―ジヒドロ―2H―ピラン1.5mlで処理し、そし
て室温で24時間貯蔵した。溶液をエーテルで希釈
し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥した。真空中で濃縮及び乾燥
の後〔α〕D＝−12゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）
の油状（20S）―１α，３β―ジ（テトラヒドロ
ピラニルオキシ）―20―メチル―プレグン―５―
エン―21―カルボン酸メチルエステル1.2ｇが得
られた。
実施例 19
無水のテトラヒドロフラン７ml中の（20S）―
１α，３β―ジ（テトラヒドロピラニルオキシ）
―20―メチル―プレグン―５―エン―21―カルボ
ンメチルエステル1.09ｇの溶液を、無水のテトラ
ヒドロフラン10ml中の水素化アルミニウムリチウ
ム0.25ｇの懸濁液に撹拌しながら、10分以内に室
温で滴加した。室温で１時間撹拌した後、酢酸エ
チル２ml、テトラヒドロフラン／水（９：１）10
ml及び0.5―Ｎ水酸化ナトリウム30mlを続けて滴
加した。混合物から真空中で有機溶媒を除去し、
水性残留物をエーテルで抽出した。エーテル抽出
物を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃
縮し、そして残留物を真空中で乾燥して、発泡体
の形態で（20S）―１α，３β―ジ（テトラヒド
ロピラニルオキシ）―21―ヒドロキシ―プレグン
―５―エン1.02ｇが得られ、このものは50゜〜67
℃で溶融するが再結晶することはできない；
〔α〕D＝−5.3゜（クロロホルム中ｃ＝1.0）。
１α，３β―ジ（テトラヒドロピラニルオキシ）
―20―メチル―プレグン―５―エン―21―カルボ
ンメチルエステル1.09ｇの溶液を、無水のテトラ
ヒドロフラン10ml中の水素化アルミニウムリチウ
ム0.25ｇの懸濁液に撹拌しながら、10分以内に室
温で滴加した。室温で１時間撹拌した後、酢酸エ
チル２ml、テトラヒドロフラン／水（９：１）10
ml及び0.5―Ｎ水酸化ナトリウム30mlを続けて滴
加した。混合物から真空中で有機溶媒を除去し、
水性残留物をエーテルで抽出した。エーテル抽出
物を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃
縮し、そして残留物を真空中で乾燥して、発泡体
の形態で（20S）―１α，３β―ジ（テトラヒド
ロピラニルオキシ）―21―ヒドロキシ―プレグン
―５―エン1.02ｇが得られ、このものは50゜〜67
℃で溶融するが再結晶することはできない；
〔α〕D＝−5.3゜（クロロホルム中ｃ＝1.0）。
実施例 20
乾燥ピリジン0.2ml中の塩化ｐ―トルエンスル
ホニル55.1mgの溶液を乾燥ピリジン0.5ml中の
（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―21―ヒド
ロキシ―20―メチル―プレグン―５―エン100mg
の溶液に０℃で加えた。０℃で６時間放置した
後、混合物を氷―水上に注ぎ、エーテルで抽出し
た。抽出物を２―Ｎ―塩酸、水、飽和炭酸水素ナ
トリウム溶液及び水で続けて洗浄した。硫酸ナト
リウム上での乾燥及び濃縮後に得られた残留物
を、溶出のためのヘキサン／エーテル（４：１）
を使用してシリカゲル3.5ｇによりクロマトグラ
フイーにかけ、均一な（20S）―１α，３β―ジ
アセトキシ―20―メチル―21―（ｐ―トルエンス
ルホニルオキシ）―プレグン―５―エン100mgが
得られた。エーテルから再結晶後、生成物は168
゜〜170℃で溶融し、〔α〕D＝−20.8゜（クロロホ
ルム中ｃ＝0.5）であつた。
ホニル55.1mgの溶液を乾燥ピリジン0.5ml中の
（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―21―ヒド
ロキシ―20―メチル―プレグン―５―エン100mg
の溶液に０℃で加えた。０℃で６時間放置した
後、混合物を氷―水上に注ぎ、エーテルで抽出し
た。抽出物を２―Ｎ―塩酸、水、飽和炭酸水素ナ
トリウム溶液及び水で続けて洗浄した。硫酸ナト
リウム上での乾燥及び濃縮後に得られた残留物
を、溶出のためのヘキサン／エーテル（４：１）
を使用してシリカゲル3.5ｇによりクロマトグラ
フイーにかけ、均一な（20S）―１α，３β―ジ
アセトキシ―20―メチル―21―（ｐ―トルエンス
ルホニルオキシ）―プレグン―５―エン100mgが
得られた。エーテルから再結晶後、生成物は168
゜〜170℃で溶融し、〔α〕D＝−20.8゜（クロロホ
ルム中ｃ＝0.5）であつた。
実施例 21
（20S）―１α，３β―ジアセトキシ―21―ヒ
ドロキシ―20―メチル―プレグン―５―エン0.54
ｇ及びエーテル10ml中の四臭化炭素0.825ｇの溶
液をトリフエニルホスフイン0.625ｇで処理し、
混合物を室温で16時間放置した。エーテルで希釈
後、不溶性物質を別した。液を真空中で濃縮
し、残留物を、溶出のためのヘキサン／エーテル
（９：１）を使用してシリカゲル1.5ｇによりクロ
マトグラフイーに付した。融点75゜〜76℃；
〔α〕D＝−13.8゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）の無
色粉末の形態で均一な（20S）―21―ブロモ―１
α，３β―ジアセトキシ―20―メチル―プレグン
―５―エン0.55ｇが得られた。
ドロキシ―20―メチル―プレグン―５―エン0.54
ｇ及びエーテル10ml中の四臭化炭素0.825ｇの溶
液をトリフエニルホスフイン0.625ｇで処理し、
混合物を室温で16時間放置した。エーテルで希釈
後、不溶性物質を別した。液を真空中で濃縮
し、残留物を、溶出のためのヘキサン／エーテル
（９：１）を使用してシリカゲル1.5ｇによりクロ
マトグラフイーに付した。融点75゜〜76℃；
〔α〕D＝−13.8゜（クロロホルム中ｃ＝0.5）の無
色粉末の形態で均一な（20S）―21―ブロモ―１
α，３β―ジアセトキシ―20―メチル―プレグン
―５―エン0.55ｇが得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、R1及びR3はヒドロキシ基又は容易に
ヒドロキシ基に開裂し得るエーテル化もしくはエ
ステル化されたヒドロキシ基を表わし、R20はヒ
ドロキシメチル、容易に開裂し得るエーテル化も
しくはエステル化されたヒドロキシメチル、ホル
ミル、カルボキシル又はカルボアルコキシ基を表
わす〕 のプレグナン誘導体。 ２ 一般式 〔式中、R201はヒドロキシメチル基又は容易に
開裂し得るエーテル化されたヒドロキシメチル基
を表わす〕 の化合物を１，２―エポキシ化し、そして生ずる
一般式 〔式中、R201は前記の意味を有する〕 の１，２―エポキシドを還元的に開裂させること
を特徴とする一般式 〔式中、R201は前記の意味を有する〕 のプレグナン誘導体の製造方法。 ３ R201が式―CH2Zの基を表わし、ここで、Ｚ
は式ＲXＯ―Ｃ（ＲY，ＲZ）―Ｏ―の基を表わ
し、ＲYは水素原子又はC1-6―アルキル基を表わ
し、そしてＲX及びＲZは各々C1-6―アルキル基を
表わすか又はＲXとＲZとは一緒になつてC3-6―ア
ルキレン基を表わす場合の式の化合物を使用す
る特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４ 一般式 〔式中、R201はヒドロキシメチル基又は容易に
開裂し得るエーテル化されたヒドロキシメチル基
を表わす〕 の化合物を１，２―エポキシ化し、生ずる一般式 〔式中、R201は前記の意味を有する〕 の１，２―エポキシド中のR201により示される置
換基をエーテル化し又はエーテル開裂に付し、そ
して生ずる化合物を還元的に開裂させることを特
徴とする一般式 〔式中、R203は、前記R201がヒドロキシメチル
基を表わす場合には容易に開裂し得るエーテル化
されたヒドロキシメチル基を表わし、又は前記
R201が容易に開裂し得るエーテル化されたヒドロ
キシメチル基を表わす場合にはヒドロキシメチル
基を表わす〕 のプレグナン誘導体の製造方法。 ５ R201が式―CH2Zの基を表わし、ただし、Ｚ
は式ＲXＯ―Ｃ（ＲY，ＲZ）―Ｏ―の基を表わ
し、ＲYは水素原子又はC1-6―アルキル基を表わ
し、そしてＲX及びＲZは各々C1-6―アルキル基を
表わすか又はＲXとＲZとは一緒になつてC3-6―ア
ルキレン基を表わす場合の式の化合物を使用す
る特許請求の範囲第４項記載の方法。 ６ 一般式 〔式中、R204は容易に開裂し得るエーテル化さ
れたヒドロキシメチル又はカルボアルコキシ基を
表わす〕 の化合物をエステル化又はエーテル化することを
特徴とする一般式 〔式中、R11及びR31は容易にヒドロキシ基に開
裂し得るエーテル化もしくはエステル化されたヒ
ドロキシ基を表わし、R204は前記の意味を有す
る〕 のプレグナン誘導体の製造方法。 ７ 式―ｃの化合物をアセチル化する特許請求
の範囲第６項記載の方法。 ８ 一般式 〔式中、R1及びR3はヒドロキシ基又は容易に
ヒドロキシ基に開裂し得るエステル化されたヒド
ロキシ基を表わし、R205は容易に開裂し得るエー
テル化されたヒドロキシメチル基を表わす〕 の化合物をエーテル開裂に付すことを特徴とする
一般式 〔式中、R1及びR3は前記の意味を有する〕 のプレグナン誘導体の製造方法。 ９ 一般式 〔式中、R1及びR3は容易にヒドロキシ基に開
裂し得るエーテル化もしくはエステル化されたヒ
ドロキシ基を表わす〕 の化合物をエーテル化又はエステル化することを
特徴とする一般式 〔式中、R206は容易に開裂し得るエーテル化又
はエステル化されたヒドロキシメチル基を表わ
し、R1及びR3は前記の意味を有する〕 のプレグナン誘導体の製造方法。 １０ 一般式 〔式中、R1及びR3はヒドロキシ基又は容易に
ヒドロキシ基に開裂し得るエーテル化もしくはエ
ステル化されたヒドロキシ基を表わす〕 の化合物をエステル化することを特徴とする一般
式 〔式中、R207はカルボアルコキシ基を表わし、 R1及びR3は前記の意味を有する〕 のプレグナン誘導体の製造方法。 １１ 一般式 〔式中、R1及びR3はヒドロキシ基又は容易に
ヒドロキシ基に開裂し得るエーテル化もしくはエ
ステル化されたヒドロキシ基を表わし、R207はカ
ルボアルコキシ基を表わす〕 の化合物をケン化することを特徴とする一般式 〔式中、R1及びR3は前記の意味を有する〕 のプレグナン誘導体の製造方法。 １２ 一般式 〔式中、R1及びR3はヒドロキシ基又は容易に
ヒドロキシ基に開裂し得るエーテル化もしくはエ
ステル化されたヒドロキシ基を表わす〕 の化合物を酸化することを特徴とする一般式 〔式中、R208はホルミル又はカルボキシル基を
表わし、R1及びR3は前記の意味を有する〕 のプレグナン誘導体の製造方法。 １３ 一般式 〔式中、R1及びR3はヒドロキシ基又は容易に
ヒドロキシ基に開裂し得るエーテル化もしくはエ
ステル化されたヒドロキシ基を表わし、R209はホ
ルミル、カルボキシル又はカルボアルコキシ基を
表わす〕 の化合物を還元することを特徴とする一般式 〔式中、R1及びR3は前記の意味を有する〕 のプレグナン誘導体の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH1300676A CH632520A5 (en) | 1976-10-14 | 1976-10-14 | Process for the preparation of novel pregnane derivatives |
| CH1101177A CH626634A5 (en) | 1977-09-08 | 1977-09-08 | Process for the preparation of pregnane derivatives |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5350152A JPS5350152A (en) | 1978-05-08 |
| JPS6214558B2 true JPS6214558B2 (ja) | 1987-04-02 |
Family
ID=25707647
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12256077A Granted JPS5350152A (en) | 1976-10-14 | 1977-10-14 | Pregnane derivatives |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4193921A (ja) |
| JP (1) | JPS5350152A (ja) |
| AT (1) | AT359220B (ja) |
| DE (1) | DE2746107A1 (ja) |
| FR (1) | FR2367776A1 (ja) |
| GB (2) | GB1568734A (ja) |
| IT (1) | IT1088094B (ja) |
| NL (1) | NL7711245A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| LU80545A1 (de) * | 1978-11-17 | 1980-06-05 | Hoffmann La Roche | Verfahren zur herstellung von 1a,3s-dihydroxy->5-steroiden |
| CH644873A5 (de) * | 1980-02-12 | 1984-08-31 | Hoffmann La Roche | Verfahren zur herstellung von cholesterinderivaten. |
| US4310467A (en) * | 1980-10-22 | 1982-01-12 | Hoffmann-La Roche Inc. | Process and intermediates for the synthesis of vitamin D3 metabolites |
| EP0321572B1 (en) * | 1987-03-30 | 1993-06-09 | Kuraray Co., Ltd. | Pregnane derivatives and process for their preparation |
| US5112998A (en) * | 1987-03-30 | 1992-05-12 | Kuraray Co., Ltd. | Pregnane derivatives and processes for production thereof |
| WO1990000560A1 (en) * | 1988-07-05 | 1990-01-25 | Kuraray Co., Ltd. | Steroid compounds |
| US20060211667A1 (en) * | 2005-03-21 | 2006-09-21 | Eric Marchewitz | Use of pregnane steroid derivatives for enhancing physical performance |
| GB201608776D0 (en) | 2016-05-18 | 2016-06-29 | Dextra Lab Ltd | Methods and compounds |
| US11454677B2 (en) | 2016-07-01 | 2022-09-27 | Weber-Stephen Products Llc | Wireless control and status monitoring for electric grill with current protection circuitry |
| US10551893B2 (en) | 2016-07-01 | 2020-02-04 | Weber-Stephen Products Llc | Digital power supply with wireless monitoring and control |
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| US10524312B2 (en) | 2016-07-01 | 2019-12-31 | Weber-Stephen Products Llc | Electric grill with current protection circuitry |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE2400189A1 (de) * | 1974-01-03 | 1975-07-17 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von 1 alphahydroxy-cholesterinen |
| US3907843A (en) * | 1974-06-14 | 1975-09-23 | Wisconsin Alumni Res Found | 1{60 -Hydroxyergocalciferol and processes for preparing same |
| US4022891A (en) * | 1974-06-18 | 1977-05-10 | Teijin Limited | Novel 1α,24-dihydroxycholecalciferol compositions, novel precursors thereof, and processes for preparing them |
| IL45897A (en) * | 1974-10-22 | 1978-12-17 | Yeda Res & Dev | Process for the preparation of 1 hydroxy-provitamin d3 |
| US4022768A (en) * | 1976-02-12 | 1977-05-10 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Process for preparation of 1α,25-dihydroxycholecalciferol |
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| US4046760A (en) * | 1976-07-01 | 1977-09-06 | Merck & Co., Inc. | Process for preparing 1-α-hydroxy cholesterol derivatives |
-
1977
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- 1977-10-12 US US05/841,430 patent/US4193921A/en not_active Expired - Lifetime
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- 1977-10-13 DE DE19772746107 patent/DE2746107A1/de not_active Ceased
- 1977-10-14 JP JP12256077A patent/JPS5350152A/ja active Granted
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