JPS6214924A - 触媒再生装置を内蔵した脱硝装置 - Google Patents
触媒再生装置を内蔵した脱硝装置Info
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- JPS6214924A JPS6214924A JP60155833A JP15583385A JPS6214924A JP S6214924 A JPS6214924 A JP S6214924A JP 60155833 A JP60155833 A JP 60155833A JP 15583385 A JP15583385 A JP 15583385A JP S6214924 A JPS6214924 A JP S6214924A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、脱硝装置に係り、より詳細には、排ガスの脱
硝と触媒再生とン同時に行うことができる脱硝装置に関
する。
硝と触媒再生とン同時に行うことができる脱硝装置に関
する。
〔従来の技術及び解決しようとする問題点〕Ｓｏｎ ’
に含む排ガスの脱硝法は、排ガスにＮＨ。
に含む排ガスの脱硝法は、排ガスにＮＨ。
を注入して脱硝反応器内に導き、触媒層で脱硝する方法
であるが、低温排ガスを使用する場合には、ＮＨ３注入
ノズルより注入さｎたＮＨ，と排ガス中の８０３とが反
応し、生じた酸性硫安（ＮＨ４Ｈ８Ｏ４）が触媒層に析
出付着して脱硝性能を著しく損う。
であるが、低温排ガスを使用する場合には、ＮＨ３注入
ノズルより注入さｎたＮＨ，と排ガス中の８０３とが反
応し、生じた酸性硫安（ＮＨ４Ｈ８Ｏ４）が触媒層に析
出付着して脱硝性能を著しく損う。
そこで、従来は、■脱硝反応器の前流側に排ガス昇温装
置を設け、排ガス全量の温度乞酸性硫安の析出温度以上
に上げて酸性硫安が生成しない温度域で脱硝する方式や
、■一定期間毎に排ガス温度ｌ排ガス昇温装置で酸性硫
安分解温度まで上げて触媒男性を行う方式などが採用さ
ｎていた。
置を設け、排ガス全量の温度乞酸性硫安の析出温度以上
に上げて酸性硫安が生成しない温度域で脱硝する方式や
、■一定期間毎に排ガス温度ｌ排ガス昇温装置で酸性硫
安分解温度まで上げて触媒男性を行う方式などが採用さ
ｎていた。
しかし、こｎらの方式にはいずｎも以下のような問題が
あった。
あった。
すなわち、上記■の方式にあっては、全量の排ガスな常
時昇温するためにランニングコストが非常に高くつき、
大容量の設備が必要となる。
時昇温するためにランニングコストが非常に高くつき、
大容量の設備が必要となる。
また、上記■の方式に゛あっては、一度に全ての触媒層
を再生するために排ガス昇温コストが高くなり、大容量
の昇温設備が必要になり、更には、一度に全ての触媒層
に付着した酸性硫安を分解させるために煙突から大量の
ＳＯ３やＮＨ３が排出さｎるなどの問題がある。
を再生するために排ガス昇温コストが高くなり、大容量
の昇温設備が必要になり、更には、一度に全ての触媒層
に付着した酸性硫安を分解させるために煙突から大量の
ＳＯ３やＮＨ３が排出さｎるなどの問題がある。
これらの問題に対処するため、触媒層の一部を反応器よ
り取り出して再生処理する方法も考えら扛るが、運転χ
一時中断しなけｎばならないという別の問題が生ずる。
り取り出して再生処理する方法も考えら扛るが、運転χ
一時中断しなけｎばならないという別の問題が生ずる。
なお、上記■の方式の問題点な更に詳述する。
この方式に係る一般的な排ガス昇温装置付の脱硝装置の
系統図？第５図に示す。図中、反応器ｌの内部に触媒＃
２が充填されており、その前流側のダク）１１にはＮＨ
，注入ノズル３と排ガス昇温装置４が設置さ扛ている。
系統図？第５図に示す。図中、反応器ｌの内部に触媒＃
２が充填されており、その前流側のダク）１１にはＮＨ
，注入ノズル３と排ガス昇温装置４が設置さ扛ている。
このシステムにおいて、低温でＳＯｓ ？：含む排ガス
Ａがダク）１１内を流れると、ＮＨ，注入ノズル３から
注入さｎたＮＨｓと排ガスＡに含ま扛ているＳＯ３とが
反応し、触媒層２に酸性硫安（ＮＨ４Ｈ８Ｏ４）が析出
付着するので、脱硝性能の低下を招く。そこで、一定期
間毎に排ガスＡの温度な昇温装置４によって酸性硫安の
分解温度以上に上げて分解除去をし、触媒再生を行９の
である。しかし、反応器１を流ｎる排ガス＾の全′ｔを
昇温することはランニングコストが高くつき、更に触媒
層２に析出している酸性硫安を一度に分解するので、煙
突５から大量の８０３とＮ ｌ（ｓが一度に排出さｔ、
二次公害を惹き起こすことになる。
Ａがダク）１１内を流れると、ＮＨ，注入ノズル３から
注入さｎたＮＨｓと排ガスＡに含ま扛ているＳＯ３とが
反応し、触媒層２に酸性硫安（ＮＨ４Ｈ８Ｏ４）が析出
付着するので、脱硝性能の低下を招く。そこで、一定期
間毎に排ガスＡの温度な昇温装置４によって酸性硫安の
分解温度以上に上げて分解除去をし、触媒再生を行９の
である。しかし、反応器１を流ｎる排ガス＾の全′ｔを
昇温することはランニングコストが高くつき、更に触媒
層２に析出している酸性硫安を一度に分解するので、煙
突５から大量の８０３とＮ ｌ（ｓが一度に排出さｔ、
二次公害を惹き起こすことになる。
以上のような理由から、低温脱硝方式において安価で高
性能の脱硝装置の開発が望まｎていた。
性能の脱硝装置の開発が望まｎていた。
本発明の目的は、上記要請に応えるためになされたもの
であって、前述・の従来技術の欠点を解消し、安価でラ
ンニングコストが安く、しかも脱硝７行いながら触媒再
生が可能で、触媒再生時に二次公害？もたらすことが皆
無の脱硝装置を提供することにある。
であって、前述・の従来技術の欠点を解消し、安価でラ
ンニングコストが安く、しかも脱硝７行いながら触媒再
生が可能で、触媒再生時に二次公害？もたらすことが皆
無の脱硝装置を提供することにある。
上記目的な連取するため、本発明に係る脱硝装置は、反
応器内を複数セクションの流路に分割し、各セクション
に開閉可能なダンパ、昇温ガス注入管及び触媒層を設け
、こ牡らのセクション前流側から分岐したバイパスダク
トに昇温装置を設けることにより、バイパスダクトで昇
温した排ガスをダンパ’に閉にしたセクションの昇温ガ
ス注入管より触媒層に導いて析出付着した酸性硫安を分
解除去するように構成したものである。
応器内を複数セクションの流路に分割し、各セクション
に開閉可能なダンパ、昇温ガス注入管及び触媒層を設け
、こ牡らのセクション前流側から分岐したバイパスダク
トに昇温装置を設けることにより、バイパスダクトで昇
温した排ガスをダンパ’に閉にしたセクションの昇温ガ
ス注入管より触媒層に導いて析出付着した酸性硫安を分
解除去するように構成したものである。
以下に本発明？図示の実施例に基づいて詳細に説明する
。
。
第１図及び第２図は本発明の一実施例に係る脱硝装置の
系統図で、第１図中、反応器１を複数個のセクション６
に分割し、各セクション６には入口ダンバフ及び昇温ガ
ス注入管８を設けると共に触媒層２が充填さｎている。
系統図で、第１図中、反応器１を複数個のセクション６
に分割し、各セクション６には入口ダンバフ及び昇温ガ
ス注入管８を設けると共に触媒層２が充填さｎている。
昇温ガス注入管８に供給する昇温ガスは、各セクション
６の前Ｒ側ｆ）メインダクト１２から分岐したバイパス
ダクト９により供給されるもので、このバイパスダクト
９の流路には排ガス昇温装置４を設け、ダクト内排ガス
を昇温しでファンｌＯによって供給できる構造を有して
いる。バイパスダクト９を通過するガス量は再生処理す
る触媒量に見合ったガス量に調節することが可能で、再
生処理を実施していない各セクションに供給さｎるガス
量は常に一定となる。この効果は後述する、 触媒を再生する場合、第２図に示すように、まず反応器
ｌの１つのセクション６−１の入口ダンハフ −１’に
閉じ、一方、メインダクト１２に設けたＮＨｓ注入ノズ
ル３からＮＨ３が注入され、バイパスし１こＮＨ３’ｌ
含む排ガスＢｇ昇温装置４によって酸性硫安分解温度に
まで昇温し、この昇温ガスＣ’！’ 昇温ガス注入管８
−１によりセクション６−１に注入し、触媒Ｎ２−１の
再生と昇温ガスＣの脱硝ン同時に行う。その際、バイパ
スダクト９内に設けられた排ガス昇温装置４でバイパス
排ガスＢを昇温するため、セクション６−１で処Ｗ−ｊ
るガフｔは熱膨張で増加するが、温度上昇による触媒性
能のアップが一般的に大きいので、必要性能？：＃足す
ることが可能である。
６の前Ｒ側ｆ）メインダクト１２から分岐したバイパス
ダクト９により供給されるもので、このバイパスダクト
９の流路には排ガス昇温装置４を設け、ダクト内排ガス
を昇温しでファンｌＯによって供給できる構造を有して
いる。バイパスダクト９を通過するガス量は再生処理す
る触媒量に見合ったガス量に調節することが可能で、再
生処理を実施していない各セクションに供給さｎるガス
量は常に一定となる。この効果は後述する、 触媒を再生する場合、第２図に示すように、まず反応器
ｌの１つのセクション６−１の入口ダンハフ −１’に
閉じ、一方、メインダクト１２に設けたＮＨｓ注入ノズ
ル３からＮＨ３が注入され、バイパスし１こＮＨ３’ｌ
含む排ガスＢｇ昇温装置４によって酸性硫安分解温度に
まで昇温し、この昇温ガスＣ’！’ 昇温ガス注入管８
−１によりセクション６−１に注入し、触媒Ｎ２−１の
再生と昇温ガスＣの脱硝ン同時に行う。その際、バイパ
スダクト９内に設けられた排ガス昇温装置４でバイパス
排ガスＢを昇温するため、セクション６−１で処Ｗ−ｊ
るガフｔは熱膨張で増加するが、温度上昇による触媒性
能のアップが一般的に大きいので、必要性能？：＃足す
ることが可能である。
次に、再生処理が終了した後は、昇温ガスＣの注入を停
止し、ダンパ７−ＩＦａ’開らくとセクション６−１は
通常の脱硝に戻る。続いて、他のセクジョン６−２．６
−３・・・においても順次同様の操作を繰り返して行う
。
止し、ダンパ７−ＩＦａ’開らくとセクション６−１は
通常の脱硝に戻る。続いて、他のセクジョン６−２．６
−３・・・においても順次同様の操作を繰り返して行う
。
上記構成による同時脱硝再生方式によれば、再生する触
媒層２を小分けできるので昇温ガスＣの童も少なくて済
み、酸性硫安分解時に発生するＳＯ２、ＮＨａの量も少
ない。また更には、使用触媒量の節減効果もある。
媒層２を小分けできるので昇温ガスＣの童も少なくて済
み、酸性硫安分解時に発生するＳＯ２、ＮＨａの量も少
ない。また更には、使用触媒量の節減効果もある。
すなわち、第３図は、同一の反応器を用いて３つの方式
で運転した場合における脱硝率と経過時間の関係を示し
たもので、従来の昇温法（Ｄ）と排ガス全量同時再生法
（Ｅ）並びに本発明による同時脱硝再生法ＣＦ）につい
て運転時間に対する脱硝率の変化？模式的に示している
。同図かられかるように、昇温法（Ｄ）は安定した性能
乞有するが、既述の如く全排ガス昇温に美大な憔焼費を
費やすという欠点がある。また、排ガス全量同時再生法
（Ｅ）は脱硝率の変化幅が極めて大きく、触媒量は最も
低い脱硝率で決定されることから、使用触媒量が増大す
るという欠点がある。以上の２方式に比べ、本発明によ
る同時脱硝再生法（Ｆ）は脱硝率の変化幅が小さく、安
定した脱硝性能が得られ、同時に必要触媒量も少なくて
済むという利点がある。
で運転した場合における脱硝率と経過時間の関係を示し
たもので、従来の昇温法（Ｄ）と排ガス全量同時再生法
（Ｅ）並びに本発明による同時脱硝再生法ＣＦ）につい
て運転時間に対する脱硝率の変化？模式的に示している
。同図かられかるように、昇温法（Ｄ）は安定した性能
乞有するが、既述の如く全排ガス昇温に美大な憔焼費を
費やすという欠点がある。また、排ガス全量同時再生法
（Ｅ）は脱硝率の変化幅が極めて大きく、触媒量は最も
低い脱硝率で決定されることから、使用触媒量が増大す
るという欠点がある。以上の２方式に比べ、本発明によ
る同時脱硝再生法（Ｆ）は脱硝率の変化幅が小さく、安
定した脱硝性能が得られ、同時に必要触媒量も少なくて
済むという利点がある。
更に付言するならば、本発明による同時脱硝再生法では
、バイパスダクトを通過するガス量を各セクションの触
媒量に見合ったガス量に調節するため、脱硝処理に使用
する触媒層を通過するガス曾は触媒の再生を実施するし
ないに拘わらず一定で６５、このため、一方のセクショ
ンで触媒の再生を行いながら、他方のセクションで脱硝
処理も同時に実施できる。
、バイパスダクトを通過するガス量を各セクションの触
媒量に見合ったガス量に調節するため、脱硝処理に使用
する触媒層を通過するガス曾は触媒の再生を実施するし
ないに拘わらず一定で６５、このため、一方のセクショ
ンで触媒の再生を行いながら、他方のセクションで脱硝
処理も同時に実施できる。
次に第４図に本発明の他の実施例１示す。特にバイパス
ダクト９内の排ガス昇温装置４による昇温温度が非常に
高温に達する場合、バイパスダクト９０分岐点よｐ前流
側のメインダクト１２にＮＨ，注入管３Ｙ：設けると°
（第１図）、排ガス中に含まｎるＮ Ｈｓが分解し、Ｎ
Ｏｘに転化される恐ｎがある。こｔｔａ’防止するには
、メインダクト１２に設けるＮＨｓ注入管３’ａ’バイ
パスダクト９の分岐点よりも後流側に設けると共に、バ
イパスダクト９の排ガス昇温装置４の後流側にもＮＨ３
注入管３増設けるとよい。なお、第４図で他の構成は第
１図と同様である。
ダクト９内の排ガス昇温装置４による昇温温度が非常に
高温に達する場合、バイパスダクト９０分岐点よｐ前流
側のメインダクト１２にＮＨ，注入管３Ｙ：設けると°
（第１図）、排ガス中に含まｎるＮ Ｈｓが分解し、Ｎ
Ｏｘに転化される恐ｎがある。こｔｔａ’防止するには
、メインダクト１２に設けるＮＨｓ注入管３’ａ’バイ
パスダクト９の分岐点よりも後流側に設けると共に、バ
イパスダクト９の排ガス昇温装置４の後流側にもＮＨ３
注入管３増設けるとよい。なお、第４図で他の構成は第
１図と同様である。
以上の説明から明らかなように、本発明によ扛ば、脱硝
乞行いながら触媒再生を行うことができ。
乞行いながら触媒再生を行うことができ。
排ガス昇温コストも安く、触媒再生時に生ずる反応器後
流側の８０３やＮＨ３の増加を抑えら詐る。
流側の８０３やＮＨ３の増加を抑えら詐る。
また脱硝率の変化幅も小さいので使用触媒量も節減でき
ることを含め、設備費の低減化が可能である。
ることを含め、設備費の低減化が可能である。
第１図は本発明の一実施例に係る脱硝装置の系統図、第
２図は第１図の系統図の一部詳細説明図。 第３図は各種脱硝再生方式における脱硝率と運転時間の
関係を示す図、第４図は本発明の他の実施例の系統図、
第５図は従来の排ガス昇温装置付き脱硝装置の系統図で
ある。 １・・・反応器、２・・・触媒層、２−１、・・・２−
５・・・触媒層セクション、３．３′・・・ＮＨ，注入
管、４・・・排ガス昇温装置、５・・・煙突、６．６−
１．・・・、６−５・・・反応器セクション、７．７−
１、・・・、７−５・・・入ロダンバ、８．８−１、・
・・、８−５・・・昇温ガス注入管、９・・・バイパス
ダクト、１０・・・ファン、１１・・・ダクト、１２・
・・メインダクト。
２図は第１図の系統図の一部詳細説明図。 第３図は各種脱硝再生方式における脱硝率と運転時間の
関係を示す図、第４図は本発明の他の実施例の系統図、
第５図は従来の排ガス昇温装置付き脱硝装置の系統図で
ある。 １・・・反応器、２・・・触媒層、２−１、・・・２−
５・・・触媒層セクション、３．３′・・・ＮＨ，注入
管、４・・・排ガス昇温装置、５・・・煙突、６．６−
１．・・・、６−５・・・反応器セクション、７．７−
１、・・・、７−５・・・入ロダンバ、８．８−１、・
・・、８−５・・・昇温ガス注入管、９・・・バイパス
ダクト、１０・・・ファン、１１・・・ダクト、１２・
・・メインダクト。
Claims (1)
- （１）ダクトより導く排ガスを脱硝反応器内の触媒層で
脱硝すると共に必要時に該排ガスを昇温して該触媒の再
生を行う脱硝装置において、前記脱硝反応器内を複数セ
クションの流路に分割し、各セクションに開閉可能なダ
ンパを入口に設けると共に昇温ガス注入管及び触媒層を
設け、また全セクションの更に前流側で非分割のメイン
ダクトからバイパスダクトを分岐せしめ、該バイパスダ
クトに排ガス昇温装置を設けて昇温した排ガスを前記各
昇温ガス注入管に供給するように構成したことを特徴と
する触媒再生装置を内蔵した脱硝装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60155833A JPS6214924A (ja) | 1985-07-15 | 1985-07-15 | 触媒再生装置を内蔵した脱硝装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60155833A JPS6214924A (ja) | 1985-07-15 | 1985-07-15 | 触媒再生装置を内蔵した脱硝装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6214924A true JPS6214924A (ja) | 1987-01-23 |
Family
ID=15614494
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60155833A Pending JPS6214924A (ja) | 1985-07-15 | 1985-07-15 | 触媒再生装置を内蔵した脱硝装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6214924A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5140296A (en) * | 1990-01-31 | 1992-08-18 | Fuji Electronic Corporation, Ltd. | Voltage-dependent nonlinear resistor |
| WO1996015844A1 (en) * | 1994-11-18 | 1996-05-30 | Komatsu Ltd. | Method for catalytic decomposition of aliphatic halogen compound and equipment therefor |
| EP1028795A4 (en) * | 1997-02-19 | 2002-01-02 | Goal Line Environmental Tech | APPARATUS FOR REMOVING IMPURITIES FROM A GAS FLOW |
| EP2486971A1 (fr) * | 2011-02-11 | 2012-08-15 | Lab Sa | Procédé de régénération thermique en ligne d'un catalyseur de dénitrification de fumées, et installation d'épuration des fumées permettant de mettre en oeuvre ce procédé |
| JP2013544339A (ja) * | 2010-12-01 | 2013-12-12 | ルノー・トラックス | 排気ガス後処理システムを備えたエンジン装置 |
| JP2017215083A (ja) * | 2016-05-31 | 2017-12-07 | 日立造船株式会社 | 排ガス脱硝装置、焼却炉および排ガス脱硝方法 |
| CN112999866A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-06-22 | 通化金山银山环保设备制造有限公司 | 对催化剂分区块加热防止碳酸盐中毒的方法及系统 |
-
1985
- 1985-07-15 JP JP60155833A patent/JPS6214924A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5140296A (en) * | 1990-01-31 | 1992-08-18 | Fuji Electronic Corporation, Ltd. | Voltage-dependent nonlinear resistor |
| WO1996015844A1 (en) * | 1994-11-18 | 1996-05-30 | Komatsu Ltd. | Method for catalytic decomposition of aliphatic halogen compound and equipment therefor |
| EP1028795A4 (en) * | 1997-02-19 | 2002-01-02 | Goal Line Environmental Tech | APPARATUS FOR REMOVING IMPURITIES FROM A GAS FLOW |
| JP2013544339A (ja) * | 2010-12-01 | 2013-12-12 | ルノー・トラックス | 排気ガス後処理システムを備えたエンジン装置 |
| EP2486971A1 (fr) * | 2011-02-11 | 2012-08-15 | Lab Sa | Procédé de régénération thermique en ligne d'un catalyseur de dénitrification de fumées, et installation d'épuration des fumées permettant de mettre en oeuvre ce procédé |
| FR2971435A1 (fr) * | 2011-02-11 | 2012-08-17 | Lab Sa | Procede de regeneration en ligne d'un catalyseur de denitrification de fumees, et installation d'epuration des fumees permettant de mettre en oeuvre ce procede |
| JP2017215083A (ja) * | 2016-05-31 | 2017-12-07 | 日立造船株式会社 | 排ガス脱硝装置、焼却炉および排ガス脱硝方法 |
| WO2017208502A1 (ja) * | 2016-05-31 | 2017-12-07 | 日立造船株式会社 | 排ガス脱硝装置、焼却炉および排ガス脱硝方法 |
| CN109196277A (zh) * | 2016-05-31 | 2019-01-11 | 日立造船株式会社 | 废气脱硝装置、焚烧炉和废气脱硝方法 |
| CN109196277B (zh) * | 2016-05-31 | 2019-11-22 | 日立造船株式会社 | 废气脱硝装置、焚烧炉和废气脱硝方法 |
| US10974196B2 (en) | 2016-05-31 | 2021-04-13 | Hitachi Zosen Corporation | Flue gas denitration system, incinerator, and flue gas denitration method |
| CN112999866A (zh) * | 2021-03-31 | 2021-06-22 | 通化金山银山环保设备制造有限公司 | 对催化剂分区块加热防止碳酸盐中毒的方法及系统 |
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