JPS62149717A - 感光性樹脂の製造方法 - Google Patents
感光性樹脂の製造方法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
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- G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
- G03F7/0236—Condensation products of carbonyl compounds and phenolic compounds, e.g. novolak resins
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な感光性樹脂の製造方法に関するO
写真製版や感光複写に用いられる感光性物質として、0
−ベンゾキノンジアジド化合物及びO−ナフトキノンジ
アジド化合物を吏用し得ることは広く知られている。こ
れら0−キノンジアジド化合物類は、スルホン酸又はカ
ルボン酸の形で使用することも可能であり、又4種々の
ヒドロキシ化合物とこの種の0−キノンジアジドとのス
ルホン酸しても同じく感光性物質としてすでに使用され
ている。
−ベンゾキノンジアジド化合物及びO−ナフトキノンジ
アジド化合物を吏用し得ることは広く知られている。こ
れら0−キノンジアジド化合物類は、スルホン酸又はカ
ルボン酸の形で使用することも可能であり、又4種々の
ヒドロキシ化合物とこの種の0−キノンジアジドとのス
ルホン酸しても同じく感光性物質としてすでに使用され
ている。
これら0−キノンジアジド化合物類は、光iこより分解
して遊離のカルボキシル基を生成し、例えば第三リン酸
ナトリウム溶液の如きアルカリ、注水溶液にて処理する
ことにより、露光部が溶失されて画像を形成するきいう
特設を有している。
して遊離のカルボキシル基を生成し、例えば第三リン酸
ナトリウム溶液の如きアルカリ、注水溶液にて処理する
ことにより、露光部が溶失されて画像を形成するきいう
特設を有している。
これらO−キノンジアジド化合物類を単独にて感光材料
として用いると結晶が析出してくるばかりか、皮膜形成
性もよくなく画像の機械的強度も弱い。そこで、0−キ
ノンジアジド化合物類と共にアルカリ可溶性樹脂、例え
ばフェノールホルムアルデヒド樹脂(ノボラック型)と
混合しておき、未露光部分の耐アルカリ性を利用してア
ルカリ可溶性樹、指のアルカリ溶液による溶失を阻止し
て画像を形成せしめるという使用方法も知られており、
特に経済的理由からかかる方法がよりしばしば使用せら
れている。
として用いると結晶が析出してくるばかりか、皮膜形成
性もよくなく画像の機械的強度も弱い。そこで、0−キ
ノンジアジド化合物類と共にアルカリ可溶性樹脂、例え
ばフェノールホルムアルデヒド樹脂(ノボラック型)と
混合しておき、未露光部分の耐アルカリ性を利用してア
ルカリ可溶性樹、指のアルカリ溶液による溶失を阻止し
て画像を形成せしめるという使用方法も知られており、
特に経済的理由からかかる方法がよりしばしば使用せら
れている。
特に、金属支持体上に得られた像を蝕刻せんとするとき
及び印刷プレートとして得られた像を直接使用するとき
は、優れた性質のアルカリ可溶性樹脂を使用することが
重要で、これを担体として0−キノンジアジド化合>i
を使用することにより、感光層の結晶析出を防ぎ画像の
機械的強度を補うことができる。このようなことがらO
−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロライド又は0−
ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとアルカリ
可溶性ノボラック型フェノールホルムアルデヒド樹Ns
〇−又はm−クレゾールホルムアルデヒド樹脂とを縮
合し、高分子化することが米国特許第304612号明
細書に記載されている。
及び印刷プレートとして得られた像を直接使用するとき
は、優れた性質のアルカリ可溶性樹脂を使用することが
重要で、これを担体として0−キノンジアジド化合>i
を使用することにより、感光層の結晶析出を防ぎ画像の
機械的強度を補うことができる。このようなことがらO
−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロライド又は0−
ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとアルカリ
可溶性ノボラック型フェノールホルムアルデヒド樹Ns
〇−又はm−クレゾールホルムアルデヒド樹脂とを縮
合し、高分子化することが米国特許第304612号明
細書に記載されている。
しかしながら、該明細書中に記載されている化合物は、
アルカリ水溶液iこよる画像部の溶失及び支持体との接
着が低いため画像強度が劣る。又画線部の感脂性も劣る
。
アルカリ水溶液iこよる画像部の溶失及び支持体との接
着が低いため画像強度が劣る。又画線部の感脂性も劣る
。
本発明は、従来この覆の、感光性組成物の欠点を解消し
、優れた現像性、接着性、感脂性、保存性を有する感光
性樹脂並びにこれを有効成分として含有するポジ型感光
性樹脂組成物を提供することを目的とするものである。
、優れた現像性、接着性、感脂性、保存性を有する感光
性樹脂並びにこれを有効成分として含有するポジ型感光
性樹脂組成物を提供することを目的とするものである。
すなわち、本発明は、式(1):
(式中には炭素原子数3〜12のアルキル基またはフェ
ニル基を意味する) で表わされる化合物の1種または2種以上とフェノール
またはそのメチル置換体あるいはこれらの混合物とをモ
ル比1:9〜9:1で含む混合フェノールおよび該混合
フェノールに対し50〜100モル%のホルムアルデヒ
ドを酸融媒の存在下に縮合して得られたアルカリ可溶性
ノボラック型フェノール樹脂と、該樹脂中のヒドロキシ
基の20〜Yは除去し得る基を意味する) で表わされる0−キノンジアジド化合物とを化学的に縮
合させることからなる感光性樹脂の製造方法を提供する
ものである。
ニル基を意味する) で表わされる化合物の1種または2種以上とフェノール
またはそのメチル置換体あるいはこれらの混合物とをモ
ル比1:9〜9:1で含む混合フェノールおよび該混合
フェノールに対し50〜100モル%のホルムアルデヒ
ドを酸融媒の存在下に縮合して得られたアルカリ可溶性
ノボラック型フェノール樹脂と、該樹脂中のヒドロキシ
基の20〜Yは除去し得る基を意味する) で表わされる0−キノンジアジド化合物とを化学的に縮
合させることからなる感光性樹脂の製造方法を提供する
ものである。
本発明の感光性樹脂は、化学的1こO−キノンジアジド
スルホン酸または0−キノンジアジドカルボン酸と、フ
ェノール成分の一成分としてアルキルフェノールを用い
た共縮合ノボラック型樹脂とを結合せしめたものである
ので、露光されるとその部分はアルカリ水溶液に対して
迅速iこ現像が行なわれ、かつ未露光部の耐アルカリ性
が極めて強く、pH13程度の液中に長時間浸しても画
像の崩壊することがない。又、保存性が良好で皮膜形成
性1こも侵れ更1(親油性基で置換されているため、画
線部の感脂性、耐酸性、機械的強度も優れている。又一
般のノボラック型樹脂と任意の割合に混合することがで
きる。
スルホン酸または0−キノンジアジドカルボン酸と、フ
ェノール成分の一成分としてアルキルフェノールを用い
た共縮合ノボラック型樹脂とを結合せしめたものである
ので、露光されるとその部分はアルカリ水溶液に対して
迅速iこ現像が行なわれ、かつ未露光部の耐アルカリ性
が極めて強く、pH13程度の液中に長時間浸しても画
像の崩壊することがない。又、保存性が良好で皮膜形成
性1こも侵れ更1(親油性基で置換されているため、画
線部の感脂性、耐酸性、機械的強度も優れている。又一
般のノボラック型樹脂と任意の割合に混合することがで
きる。
本発明において用いられるアルカリ可溶性共硝合謝脂は
、分子量の比較的大きな、式(1)で表わされるアルキ
ルフエ/−ルと分子量の比較的小さなフェノール及び/
又はそのメチル置換体との両者を含むことを特設とする
ものである。この樹脂組成は、所望される特性に応じて
、例えば要求されるアルカリ現像性や感脂性に応じて定
めることができる。前記樹脂を縮合1こより生成する際
、少なくとも1種のアルキルフェノールと、フェノール
およびそのメチル置換体から選ばれた少なくとも1覆と
のモル比はl:9〜9:1とされる。より具体的には、
ps版、凸版等の印刷版材のレジストのような感脂性が
要求される用途に使用する場合は上記の比が4=6〜8
:2のものが好ましい。
、分子量の比較的大きな、式(1)で表わされるアルキ
ルフエ/−ルと分子量の比較的小さなフェノール及び/
又はそのメチル置換体との両者を含むことを特設とする
ものである。この樹脂組成は、所望される特性に応じて
、例えば要求されるアルカリ現像性や感脂性に応じて定
めることができる。前記樹脂を縮合1こより生成する際
、少なくとも1種のアルキルフェノールと、フェノール
およびそのメチル置換体から選ばれた少なくとも1覆と
のモル比はl:9〜9:1とされる。より具体的には、
ps版、凸版等の印刷版材のレジストのような感脂性が
要求される用途に使用する場合は上記の比が4=6〜8
:2のものが好ましい。
一方、フォトマスクのような複写用の第2原図に使用す
る場合は、感脂性よりもむしろ現像の安定性が要求され
るのでアルキルフェノール使用量の小さいl:9〜6:
4のものが好ましいC惑、指性と現像の安定性の両方の
性質が良好なのは上記比率が4:6〜6.:4のもので
ある。また、ホルムアルデヒドの使用量は通常のフェノ
ール樹脂の製造における使用比が採用され(例えば日刊
工業新聞社、プラスチック材料講座(15)rフェノー
ル樹脂」、昭和53年1月20日発行、141〜工42
頁参ff1)、アルキルフェノールと、フェノールおよ
び/またはそのメチル置換体との総モル数に対し、50
〜100モル%好ましくは60〜100モル%とされる
。
る場合は、感脂性よりもむしろ現像の安定性が要求され
るのでアルキルフェノール使用量の小さいl:9〜6:
4のものが好ましいC惑、指性と現像の安定性の両方の
性質が良好なのは上記比率が4:6〜6.:4のもので
ある。また、ホルムアルデヒドの使用量は通常のフェノ
ール樹脂の製造における使用比が採用され(例えば日刊
工業新聞社、プラスチック材料講座(15)rフェノー
ル樹脂」、昭和53年1月20日発行、141〜工42
頁参ff1)、アルキルフェノールと、フェノールおよ
び/またはそのメチル置換体との総モル数に対し、50
〜100モル%好ましくは60〜100モル%とされる
。
本発明において使用される式(Dで表わされる化合物の
具体例としては、フェニルフェノール、シクロヘキシル
フェノール、インプロピルフェノール、tert−7’
チルフエノール、ニーブチルフェノール、tert−ア
ミルフェノール、n−アミルフェノール、 cert
−オクチルフェノール、ノニルフェノール、ドデシルフ
ェノール、ヘキシルフェノール等が挙げられる。これら
のうちアルキル基はヒドロキシ基のP−位にあるのが好
ましい。
具体例としては、フェニルフェノール、シクロヘキシル
フェノール、インプロピルフェノール、tert−7’
チルフエノール、ニーブチルフェノール、tert−ア
ミルフェノール、n−アミルフェノール、 cert
−オクチルフェノール、ノニルフェノール、ドデシルフ
ェノール、ヘキシルフェノール等が挙げられる。これら
のうちアルキル基はヒドロキシ基のP−位にあるのが好
ましい。
また、フェノールのメチル置換体としてはモノメチル置
換体であるP−クレゾール、0−クレゾール、m−クレ
ゾールやジメチル置換体である各種キシレノール等が用
いられる。
換体であるP−クレゾール、0−クレゾール、m−クレ
ゾールやジメチル置換体である各種キシレノール等が用
いられる。
上記アルキルフェノールとフェノール又はメチル置換体
あるいはこれらの混合物とホルムアルデヒドとは、慣用
の陵匹触媒、例えば塩酸、シニウ酸、酢酸亜鉛、酢酸マ
グネシウムなどの存在下で慣用方法により縮合させて、
アルカリ可溶性共縮合/ボラック型フェノール樹脂とす
ることができる。その際の反応条件は、公知のものが利
用される。その製造法を下記合成例により具体的に説明
する。
あるいはこれらの混合物とホルムアルデヒドとは、慣用
の陵匹触媒、例えば塩酸、シニウ酸、酢酸亜鉛、酢酸マ
グネシウムなどの存在下で慣用方法により縮合させて、
アルカリ可溶性共縮合/ボラック型フェノール樹脂とす
ることができる。その際の反応条件は、公知のものが利
用される。その製造法を下記合成例により具体的に説明
する。
合成例 A
シール付攪拌捧、コンデンサー及び温度計を有する三ロ
フラスコ(11)中に下記原料を装入した。
フラスコ(11)中に下記原料を装入した。
フェノール 2.3モルp−t
ert−ブチルフェノール 2.4モルホルムアノげ
ヒト(37%ホルマリン使用) 3.9モル35%塩
酸 0.5rnl上記混合物を10
0℃に加熱し、8時間攪拌してノボラック樹脂を製造し
、その後、減圧下に180〜190℃に加熱し、未反応
ホルムアルデヒド、単量体及び水を除去し、ノボラック
樹脂が収量110%で得られた。
ert−ブチルフェノール 2.4モルホルムアノげ
ヒト(37%ホルマリン使用) 3.9モル35%塩
酸 0.5rnl上記混合物を10
0℃に加熱し、8時間攪拌してノボラック樹脂を製造し
、その後、減圧下に180〜190℃に加熱し、未反応
ホルムアルデヒド、単量体及び水を除去し、ノボラック
樹脂が収量110%で得られた。
なお、他の例示アルキルフェノールとの縮合生成物もこ
の合成例と同様にして合成される。
の合成例と同様にして合成される。
本発明に勿げる0−キノンジアジド化合物としく式中X
は一5O2Yまたは−coy で示される基で、Yは除
去し得る基を意味する) で表わされる0−キノンジアジド化合物が用いられるが
、式(3)の化合物としては置換基Xが4位に置換した
ものが、式(至)の化合物としては置換基Xが4位また
は5位に置換したものが好ましい結果を与える。式則で
表わされる化合物の好ましい具体例としては、1.2−
ベンゾキノンジアジド(2)−4−スルホニルクロライ
ド、1,2−ベンゾキノンジアジド[21−4−カルボ
ニルクロライド等が挙げられる。式(至)で表わされる
化合物の好ましい具体例としては1,2−ナフトキノン
ジアジド(2)−5−スルホニルクロライド、1,2−
ナフトキノンジアジド+21−4−スルホニルクロライ
ド、1゜2−ナフトキノンジアジド(21−5−カルボ
ニルクロライド、1,2−ナフトキノンジアジド+2)
−4。
は一5O2Yまたは−coy で示される基で、Yは除
去し得る基を意味する) で表わされる0−キノンジアジド化合物が用いられるが
、式(3)の化合物としては置換基Xが4位に置換した
ものが、式(至)の化合物としては置換基Xが4位また
は5位に置換したものが好ましい結果を与える。式則で
表わされる化合物の好ましい具体例としては、1.2−
ベンゾキノンジアジド(2)−4−スルホニルクロライ
ド、1,2−ベンゾキノンジアジド[21−4−カルボ
ニルクロライド等が挙げられる。式(至)で表わされる
化合物の好ましい具体例としては1,2−ナフトキノン
ジアジド(2)−5−スルホニルクロライド、1,2−
ナフトキノンジアジド+21−4−スルホニルクロライ
ド、1゜2−ナフトキノンジアジド(21−5−カルボ
ニルクロライド、1,2−ナフトキノンジアジド+2)
−4。
−カルボニルクロライド等が挙げられる。
上記した共縮合ノボラック樹脂と式(3)または式(至
)で表わされるO−キノンジアジド化合物とを化学的に
縮合することによって本発明の感光性樹脂を得る。この
縮合は、アセトンのような水と自由な割合で混合し得る
有機溶媒中またはこの有機溶媒と水との混合溶媒中で、
炭酸す) IJウムやピリジンのような塩基の存在下、
室温のような比較的低い温度において反応させることに
より行なわれる。
)で表わされるO−キノンジアジド化合物とを化学的に
縮合することによって本発明の感光性樹脂を得る。この
縮合は、アセトンのような水と自由な割合で混合し得る
有機溶媒中またはこの有機溶媒と水との混合溶媒中で、
炭酸す) IJウムやピリジンのような塩基の存在下、
室温のような比較的低い温度において反応させることに
より行なわれる。
O−キノンジアジドスルホニル基またはO−キノンジア
ジドカルボニル基は、前記共縮合ノボラック型フ千ノー
ル樹脂中のヒドロキシ基に対して約20〜100モル噂
、好ましくは20〜80モル%の割合で樹脂中に導入さ
れる。20モル%よりも低い場合は、露光部と未露光部
のアルカリ溶解性の差が少なくなってくる。80モル%
を越えても使用量の割には目的の幼果はそれ以上良くな
らずメリットはない。
ジドカルボニル基は、前記共縮合ノボラック型フ千ノー
ル樹脂中のヒドロキシ基に対して約20〜100モル噂
、好ましくは20〜80モル%の割合で樹脂中に導入さ
れる。20モル%よりも低い場合は、露光部と未露光部
のアルカリ溶解性の差が少なくなってくる。80モル%
を越えても使用量の割には目的の幼果はそれ以上良くな
らずメリットはない。
次に前記樹脂O−ベンゾキノンジアジド又は〇−ナフト
キノンジアジドのスルホニルクロライドとの縮合生成物
の合成例を具体的に挙げる。
キノンジアジドのスルホニルクロライドとの縮合生成物
の合成例を具体的に挙げる。
合成例 B
合成例Aの共縮合樹脂24りを、1,2−ナフトキノン
ジアジドf21−5−スルホニルクロライド277をア
セトン400−に溶解し、室温において攪拌゛しながら
IN−炭酸ナトリウム溶液55−をpHf3以下に保ち
ながら加える。滴下後、更Iこ2時間反応を続け、反応
液を3 N −HC2溶液lt中に注ぎ、沈殿した油状
物を傾斜して分離し、多量の水と共に攪拌するとやがて
固化する。これを戸別し、メタノールで洗った後45℃
以下で乾燥する。収量27.45!。
ジアジドf21−5−スルホニルクロライド277をア
セトン400−に溶解し、室温において攪拌゛しながら
IN−炭酸ナトリウム溶液55−をpHf3以下に保ち
ながら加える。滴下後、更Iこ2時間反応を続け、反応
液を3 N −HC2溶液lt中に注ぎ、沈殿した油状
物を傾斜して分離し、多量の水と共に攪拌するとやがて
固化する。これを戸別し、メタノールで洗った後45℃
以下で乾燥する。収量27.45!。
かくして得られる本発明の感光性樹脂は、通常組成物と
して利用される。
して利用される。
即ち本発明によるポジ型感光性樹脂組成物は、前記感光
性樹脂を少なくとも一種謬含み、担体及び適宜添那物を
添加したものよりなる。本発明のN型感光性組成物は、
通常塗布液の形態で用いられる。このような観点からの
組成物としては、感光性樹脂を適当な有機溶剤に溶解し
て調整される。
性樹脂を少なくとも一種謬含み、担体及び適宜添那物を
添加したものよりなる。本発明のN型感光性組成物は、
通常塗布液の形態で用いられる。このような観点からの
組成物としては、感光性樹脂を適当な有機溶剤に溶解し
て調整される。
有機溶剤としては、例えばアセトン、メチル二チルケト
ン、セロソルブ類、セロンルブアセテート瑣、ジオキサ
ン、酢酸ブチルなどが用いられる。
ン、セロソルブ類、セロンルブアセテート瑣、ジオキサ
ン、酢酸ブチルなどが用いられる。
これらの溶剤中における感光性樹脂の含有量は、例えば
1〜30重量%である。
1〜30重量%である。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、高分子材料、染料
、顔料、増感剤その他の添7IO剤が含まれていてもよ
い。
、顔料、増感剤その他の添7IO剤が含まれていてもよ
い。
K分子材料としては、エチルセルロース、メチルセルロ
ース、フロビルセルロース、セルロースアセテートのハ
ーフェステル等のセルロース誘導体、ポリアクリル酸(
エステル)、ポリメタクリル酸(エステル)、アルコー
ル性ヒドロキシ基ヲ存するアクリル酸またはアクリル酸
との共重合体等のアクリル樹脂、スチレン−無水マレイ
ン酸共を合Lメチルビニルエーテルー無水マレイン酸共
重合体等のマレイン陵共重合体が挙げられる。
ース、フロビルセルロース、セルロースアセテートのハ
ーフェステル等のセルロース誘導体、ポリアクリル酸(
エステル)、ポリメタクリル酸(エステル)、アルコー
ル性ヒドロキシ基ヲ存するアクリル酸またはアクリル酸
との共重合体等のアクリル樹脂、スチレン−無水マレイ
ン酸共を合Lメチルビニルエーテルー無水マレイン酸共
重合体等のマレイン陵共重合体が挙げられる。
これらは塗工性、塗工膜の耐酸、音素性、強度などの改
善目的に那えられる。
善目的に那えられる。
顔料としては例えばクロムイエロー、カーボンブラック
が挙げられる。着色はそれによって画像をみやすくし、
またできた画像に遮光性をもたせて原図として使用を可
能ならしめるためになされる。このような観点で前記の
例以外、こ池の顔料、または染料が利用される。
が挙げられる。着色はそれによって画像をみやすくし、
またできた画像に遮光性をもたせて原図として使用を可
能ならしめるためになされる。このような観点で前記の
例以外、こ池の顔料、または染料が利用される。
また一般のアルカリ可溶性ノボラック樹脂を添加しても
よい。その添加量によって、組成物を感光後、感光部分
のア、リカリ水溶役に対する溶解性の調節に役立つであ
ろう。
よい。その添加量によって、組成物を感光後、感光部分
のア、リカリ水溶役に対する溶解性の調節に役立つであ
ろう。
更に、公知の感光性樹脂であるO−キノンジアジド化合
物と一般の7ボラツク型フニノー/L、NFとの縮合生
成物を添加してもよい。
物と一般の7ボラツク型フニノー/L、NFとの縮合生
成物を添加してもよい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における恭圓物(高分
子材料、顔料、増感剤その池の添加剤等)は、感光性樹
脂100重量部に対し600重量部以下の量で便用され
る。
子材料、顔料、増感剤その池の添加剤等)は、感光性樹
脂100重量部に対し600重量部以下の量で便用され
る。
本発明の感光性樹脂及びそれから製造されるポジ型感光
性樹脂組成物は化学的に安定性が高いので、長期間にわ
1こって品質の低下なしに貯蔵することができ、かつ感
脂性にすぐれている。従って本発明の感光性樹脂組成物
は、感光材料として広い用途、例えば、レリーフとして
ワイボン版、25版など、及びレジストとして凸版、凹
版などの印刷版材として用いられ、あるいは金属エツチ
ング用マスク、フォトマスク、及び複写用第二原図など
にも用いられる。
性樹脂組成物は化学的に安定性が高いので、長期間にわ
1こって品質の低下なしに貯蔵することができ、かつ感
脂性にすぐれている。従って本発明の感光性樹脂組成物
は、感光材料として広い用途、例えば、レリーフとして
ワイボン版、25版など、及びレジストとして凸版、凹
版などの印刷版材として用いられ、あるいは金属エツチ
ング用マスク、フォトマスク、及び複写用第二原図など
にも用いられる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を適当な支持体、例え
ばアルミニウム、亜鉛、銅などの金属板、ポリエステル
、ポリプロピレン、セルローズアセテートなどのプラス
チックフィルム、紙、又は前記フィルム又は金属板をラ
ミネートした紙などの表面に均一に塗布される。この塗
布方法としては、回転法、スプレー法、含浸法、ホエラ
ー又はロールによるコーティング法などがある。塗布後
、塗布膜を乾燥して有機溶剤を除去する。このようにし
て製造された感光材料の膜面に所望のネガ画像を重ね合
わせ、活性光線を照射する。照射のためには1例えばカ
ーボンアーク灯、水銀ランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、タングステンランプなどを用いることができ
る。これによって感光材料の露光部分は、O−キノンジ
アジドが光によりカルボン酸に変化し、アルカリ水溶液
に可溶となる。
ばアルミニウム、亜鉛、銅などの金属板、ポリエステル
、ポリプロピレン、セルローズアセテートなどのプラス
チックフィルム、紙、又は前記フィルム又は金属板をラ
ミネートした紙などの表面に均一に塗布される。この塗
布方法としては、回転法、スプレー法、含浸法、ホエラ
ー又はロールによるコーティング法などがある。塗布後
、塗布膜を乾燥して有機溶剤を除去する。このようにし
て製造された感光材料の膜面に所望のネガ画像を重ね合
わせ、活性光線を照射する。照射のためには1例えばカ
ーボンアーク灯、水銀ランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、タングステンランプなどを用いることができ
る。これによって感光材料の露光部分は、O−キノンジ
アジドが光によりカルボン酸に変化し、アルカリ水溶液
に可溶となる。
次に、この感光材料はアルカリ水溶液、例えば、メタケ
イ酸ナト リウム、水酸化ナト リウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウムなどの水溶
液、又はこれらの混合水溶液、或は所望に応じ、これら
アルカリ水溶液とメタノール、エタノール、ジオキサン
などの有機溶剤、又はこれら有機溶剤とアニオンもしく
はノニオン系の界面活性剤との混合液により現像される
。
イ酸ナト リウム、水酸化ナト リウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウムなどの水溶
液、又はこれらの混合水溶液、或は所望に応じ、これら
アルカリ水溶液とメタノール、エタノール、ジオキサン
などの有機溶剤、又はこれら有機溶剤とアニオンもしく
はノニオン系の界面活性剤との混合液により現像される
。
次に実施例を挙げてこの発明を更に詳しく説明する。な
お以下実施例において係は重量慢を意味する。
お以下実施例において係は重量慢を意味する。
実施例1〜2、比較例1
ボール研碧したアルミニウム板を充分な時間5〜10チ
の第三リン酸ナトリウムの水溶液中に浸漬処理した。こ
れを水洗後、70係硝陵溶改中に浸漬し、充分水洗した
後2チジルコン弗化カリウム水溶液中に2分間浸漬し、
水洗・した。このようにして親水化処理したアルミニウ
ム板上にホエラーにより下記組成の感光?fを塗布した
。
の第三リン酸ナトリウムの水溶液中に浸漬処理した。こ
れを水洗後、70係硝陵溶改中に浸漬し、充分水洗した
後2チジルコン弗化カリウム水溶液中に2分間浸漬し、
水洗・した。このようにして親水化処理したアルミニウ
ム板上にホエラーにより下記組成の感光?fを塗布した
。
表 1
但し、感光液組成は
感光性樹脂 6」鄭
ノボラ゛ンク型フェノール閃旨 9 ◆メチル
エチルケトン 60 クメチルセロンル
プアセテート 25 ◆であり、ま1こ、上記感
光性樹脂はフェノール成分を上記のようにしたことを除
いて合成例Aおよび合成IP11Bと同様の操作を行な
うことにより製造したものである。
エチルケトン 60 クメチルセロンル
プアセテート 25 ◆であり、ま1こ、上記感
光性樹脂はフェノール成分を上記のようにしたことを除
いて合成例Aおよび合成IP11Bと同様の操作を行な
うことにより製造したものである。
塗布厚味は2.5μで乾燥温度は70℃で10分間であ
った。この感光層上にネガフィルムを重ね2KWの超高
圧水銀燈を用い、高さ1rrLの距離から、50秒間の
露光を施し、30℃の4幅ケイ酸ナトリウム水溶液で4
@を行った。水洗した後、直ちに印刷版面に現像インキ
を乗せ、スポンジで軽(数回こ丁り、その後水洗した画
像部の印刷インキ付着性はいずれも比較例の通常のフェ
ノールノボラック樹脂単独から得られた感光性樹脂便用
の場合に比べ、すぐれていた。また、露光部が溶解除去
される現像時間を更に延長し、未露光部が溶解しはじめ
る迄の時間を測定した。その結果を表1に示す。表1か
ら明らかなように本発明のポジ型感光性樹脂を使用する
と、従来使われていた比較例1に比べ、4渫の安定性、
即ちラチチュードが非常に広くなった事が判明した。更
に上述のポジ型感光性樹脂組成物の塗膜は非常に安定で
、数カ月間室温に放置した後でも、その4@性にほとん
ど変化が見られなコ)つた。
った。この感光層上にネガフィルムを重ね2KWの超高
圧水銀燈を用い、高さ1rrLの距離から、50秒間の
露光を施し、30℃の4幅ケイ酸ナトリウム水溶液で4
@を行った。水洗した後、直ちに印刷版面に現像インキ
を乗せ、スポンジで軽(数回こ丁り、その後水洗した画
像部の印刷インキ付着性はいずれも比較例の通常のフェ
ノールノボラック樹脂単独から得られた感光性樹脂便用
の場合に比べ、すぐれていた。また、露光部が溶解除去
される現像時間を更に延長し、未露光部が溶解しはじめ
る迄の時間を測定した。その結果を表1に示す。表1か
ら明らかなように本発明のポジ型感光性樹脂を使用する
と、従来使われていた比較例1に比べ、4渫の安定性、
即ちラチチュードが非常に広くなった事が判明した。更
に上述のポジ型感光性樹脂組成物の塗膜は非常に安定で
、数カ月間室温に放置した後でも、その4@性にほとん
ど変化が見られなコ)つた。
実施例3
実施例1の感光性樹脂1重量部とm−クレゾールノボラ
ック樹脂2重量部をメチルセロソルブアセテートとメチ
ルエチルケトンとの1:1混合物50重量部に溶解した
。この感光液を砂目室てされたアルミニウム金属シート
上にホエラーで塗布した。塗布された金寓板を透明場面
を通して、炭素アーク光に3分間露光し、次に5チメタ
ケイ酸ナトリウム溶液で現像した。現像及び水洗した金
属板に油性印刷インキを塗布し、オフセット印刷機で印
刷したところ、インキ付着性の良好な印刷物が得られた
。
ック樹脂2重量部をメチルセロソルブアセテートとメチ
ルエチルケトンとの1:1混合物50重量部に溶解した
。この感光液を砂目室てされたアルミニウム金属シート
上にホエラーで塗布した。塗布された金寓板を透明場面
を通して、炭素アーク光に3分間露光し、次に5チメタ
ケイ酸ナトリウム溶液で現像した。現像及び水洗した金
属板に油性印刷インキを塗布し、オフセット印刷機で印
刷したところ、インキ付着性の良好な印刷物が得られた
。
実施例4
p−tert−ブチルフェノール58重量部とフェノー
ル42重量部を用いて合成例Aと同様に共縮合したノボ
ラック型フェノール樹脂30重量部と1.2−ナフトキ
ノンジアジド(21−5−スルホニルクロライド40重
量部とを合成例Bと同じ操作にて縮合させて得られた感
光性謝1指5重量部と、メタクレゾールノボラック樹脂
と1,2−ナフトキノンシアシト(2)−s−スルホニ
ルクロライドとの感光性縮合樹脂5重量部と、メチルバ
イオレツ)0.2重量穀をメチルセロソルブ100重量
部中に溶解し、濾過して感光液を作り、この感光液を徂
研宮した亜鉛板に回転塗布機で、塗布、乾燥せしめた。
ル42重量部を用いて合成例Aと同様に共縮合したノボ
ラック型フェノール樹脂30重量部と1.2−ナフトキ
ノンジアジド(21−5−スルホニルクロライド40重
量部とを合成例Bと同じ操作にて縮合させて得られた感
光性謝1指5重量部と、メタクレゾールノボラック樹脂
と1,2−ナフトキノンシアシト(2)−s−スルホニ
ルクロライドとの感光性縮合樹脂5重量部と、メチルバ
イオレツ)0.2重量穀をメチルセロソルブ100重量
部中に溶解し、濾過して感光液を作り、この感光液を徂
研宮した亜鉛板に回転塗布機で、塗布、乾燥せしめた。
このようにして得られた感光面にポジフィルムを密着さ
せ螢光灯真空焼は磯にセットし、2分間露光しf:、。
せ螢光灯真空焼は磯にセットし、2分間露光しf:、。
こnを1.0チ水酸化すIllラム溶液で現像すると、
露光部は除去された。かくして得られた耐酸性の優れた
ポジレジスト像を有する亜鉛板は、パウダーレス・エツ
チング方式により腐食して写真製仮凸版として使用する
ことができた。
露光部は除去された。かくして得られた耐酸性の優れた
ポジレジスト像を有する亜鉛板は、パウダーレス・エツ
チング方式により腐食して写真製仮凸版として使用する
ことができた。
実施例5
赤色有機着色染料を含有するアルコール可溶性ポリアミ
ドからなる有機被覆層を乾燥した厚さ20μになるよう
に、二軸延伸ポリエチシンテレフタレートフイルムに被
覆した。実施例3の感光液を、得られたポリアミド層上
に乾燥した厚さ3μに被覆して感光性フォトレジスト層
を形成させた。
ドからなる有機被覆層を乾燥した厚さ20μになるよう
に、二軸延伸ポリエチシンテレフタレートフイルムに被
覆した。実施例3の感光液を、得られたポリアミド層上
に乾燥した厚さ3μに被覆して感光性フォトレジスト層
を形成させた。
この感光性シート材料を、3KW超高圧水銀灯の光源か
ら、1.5雇の距離で、ネガフィルムを通して50秒間
露光し、5チメタケイ酸ナトリウム水溶液で2分間現像
し、4像後水洗した。
ら、1.5雇の距離で、ネガフィルムを通して50秒間
露光し、5チメタケイ酸ナトリウム水溶液で2分間現像
し、4像後水洗した。
次に、トルエンスルホン駿ナトリウム、アルコール及び
水からなる処理液を浸ませた脱脂綿で現像したシート材
料を軽くこすることにより、ポリアミド層をフォトレジ
スト層の開放画像領域でポリエステルフィルムからきれ
いに除去出来た。得られた画像材料は写真製版のための
製版用マスターとして有用であった。
水からなる処理液を浸ませた脱脂綿で現像したシート材
料を軽くこすることにより、ポリアミド層をフォトレジ
スト層の開放画像領域でポリエステルフィルムからきれ
いに除去出来た。得られた画像材料は写真製版のための
製版用マスターとして有用であった。
実施例6
合成例Aで得られた共縮合樹脂24重量部と、1.2−
ナフトキノンジアジド+21−5−スルホニルクロライ
ド16重量部を合成例Bに孕じて反応させて得た感光性
樹脂2重量部とm−クレゾールノボラック樹脂2重量部
をメチルエチルケトンとメチルセロソルブアセテートの
2:1の混合物40重量部に溶解し、感光液とした。
ナフトキノンジアジド+21−5−スルホニルクロライ
ド16重量部を合成例Bに孕じて反応させて得た感光性
樹脂2重量部とm−クレゾールノボラック樹脂2重量部
をメチルエチルケトンとメチルセロソルブアセテートの
2:1の混合物40重量部に溶解し、感光液とした。
その後、実施例3と同様の操作を行ったところ良好な印
刷物が得られた。
刷物が得られた。
実3M列7
フエノール2.0モル、m−クレゾール0.3モル、p
−tert−ブチルフェノール2.3モル、ホルムアル
デヒド3.0モルを合成例Aの方法で共縮合したフェノ
ール樹脂を用いて、合成例Bの方法に準じて感光性樹脂
を合成した。この樹脂を実施例3の感光性樹脂の代りに
用いて、同様の操作を行ったところ、良好な印刷物が得
られた。
−tert−ブチルフェノール2.3モル、ホルムアル
デヒド3.0モルを合成例Aの方法で共縮合したフェノ
ール樹脂を用いて、合成例Bの方法に準じて感光性樹脂
を合成した。この樹脂を実施例3の感光性樹脂の代りに
用いて、同様の操作を行ったところ、良好な印刷物が得
られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは炭素原子数3〜12のアルキル基またはフェ
ニル基を意味する) で表わされる化合物の1種または2種以上とフェノール
またはそのメチル置換体あるいはこれらの混合物とをモ
ル比1:9〜9:1で含む混合フェノール及び該混合フ
ェノールに対し50〜100モル%のホルムアルデヒド
を酸触媒の存在下に縮合して得られたアルカリ可溶性ノ
ボラック型フェノール樹脂と、該樹脂中のヒドロキシ基
の20〜100モル%量の式(II)または式(III):
▲数式、化学式、表等があります▼(II)▲数式、化学
式、表等があります▼(III) (式中Xは−SO_2Yまたは−COYで示される基で
、Yは除去し得る基を意味する) で表わされるo−キノンジアジド化合物とを化学的に縮
合させることからなる感光性樹脂の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28495186A JPS62149717A (ja) | 1979-03-16 | 1986-11-29 | 感光性樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3157979A JPS55123614A (en) | 1979-03-16 | 1979-03-16 | Photosensitive resin and positive type-photosensitive resin composition |
| JP28495186A JPS62149717A (ja) | 1979-03-16 | 1986-11-29 | 感光性樹脂の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3157979A Division JPS55123614A (en) | 1979-03-16 | 1979-03-16 | Photosensitive resin and positive type-photosensitive resin composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62149717A true JPS62149717A (ja) | 1987-07-03 |
| JPS6260407B2 JPS6260407B2 (ja) | 1987-12-16 |
Family
ID=26370068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28495186A Granted JPS62149717A (ja) | 1979-03-16 | 1986-11-29 | 感光性樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62149717A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4924361A (ja) * | 1972-06-27 | 1974-03-04 | ||
| GB1367830A (en) * | 1972-05-23 | 1974-09-25 | Hunt Chem Corp Philip A | Processes and materials for making photoresists |
| JPS505083A (ja) * | 1973-04-27 | 1975-01-20 | ||
| JPS54116218A (en) * | 1978-03-02 | 1979-09-10 | Oji Paper Co | Photosensitive composition |
-
1986
- 1986-11-29 JP JP28495186A patent/JPS62149717A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1367830A (en) * | 1972-05-23 | 1974-09-25 | Hunt Chem Corp Philip A | Processes and materials for making photoresists |
| JPS4924361A (ja) * | 1972-06-27 | 1974-03-04 | ||
| JPS505083A (ja) * | 1973-04-27 | 1975-01-20 | ||
| JPS54116218A (en) * | 1978-03-02 | 1979-09-10 | Oji Paper Co | Photosensitive composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6260407B2 (ja) | 1987-12-16 |
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