JPS62149717A - 感光性樹脂の製造方法 - Google Patents

感光性樹脂の製造方法

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JPS62149717A
JPS62149717A JP28495186A JP28495186A JPS62149717A JP S62149717 A JPS62149717 A JP S62149717A JP 28495186 A JP28495186 A JP 28495186A JP 28495186 A JP28495186 A JP 28495186A JP S62149717 A JPS62149717 A JP S62149717A
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • G03F7/0236—Condensation products of carbonyl compounds and phenolic compounds, e.g. novolak resins
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規な感光性樹脂の製造方法に関するO 写真製版や感光複写に用いられる感光性物質として、0
−ベンゾキノンジアジド化合物及びO−ナフトキノンジ
アジド化合物を吏用し得ることは広く知られている。こ
れら0−キノンジアジド化合物類は、スルホン酸又はカ
ルボン酸の形で使用することも可能であり、又4種々の
ヒドロキシ化合物とこの種の0−キノンジアジドとのス
ルホン酸しても同じく感光性物質としてすでに使用され
ている。
これら0−キノンジアジド化合物類は、光iこより分解
して遊離のカルボキシル基を生成し、例えば第三リン酸
ナトリウム溶液の如きアルカリ、注水溶液にて処理する
ことにより、露光部が溶失されて画像を形成するきいう
特設を有している。
これらO−キノンジアジド化合物類を単独にて感光材料
として用いると結晶が析出してくるばかりか、皮膜形成
性もよくなく画像の機械的強度も弱い。そこで、0−キ
ノンジアジド化合物類と共にアルカリ可溶性樹脂、例え
ばフェノールホルムアルデヒド樹脂(ノボラック型)と
混合しておき、未露光部分の耐アルカリ性を利用してア
ルカリ可溶性樹、指のアルカリ溶液による溶失を阻止し
て画像を形成せしめるという使用方法も知られており、
特に経済的理由からかかる方法がよりしばしば使用せら
れている。
特に、金属支持体上に得られた像を蝕刻せんとするとき
及び印刷プレートとして得られた像を直接使用するとき
は、優れた性質のアルカリ可溶性樹脂を使用することが
重要で、これを担体として0−キノンジアジド化合>i
を使用することにより、感光層の結晶析出を防ぎ画像の
機械的強度を補うことができる。このようなことがらO
−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロライド又は0−
ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとアルカリ
可溶性ノボラック型フェノールホルムアルデヒド樹Ns
 〇−又はm−クレゾールホルムアルデヒド樹脂とを縮
合し、高分子化することが米国特許第304612号明
細書に記載されている。
しかしながら、該明細書中に記載されている化合物は、
アルカリ水溶液iこよる画像部の溶失及び支持体との接
着が低いため画像強度が劣る。又画線部の感脂性も劣る
。
本発明は、従来この覆の、感光性組成物の欠点を解消し
、優れた現像性、接着性、感脂性、保存性を有する感光
性樹脂並びにこれを有効成分として含有するポジ型感光
性樹脂組成物を提供することを目的とするものである。
すなわち、本発明は、式(1): (式中には炭素原子数3〜12のアルキル基またはフェ
ニル基を意味する) で表わされる化合物の1種または2種以上とフェノール
またはそのメチル置換体あるいはこれらの混合物とをモ
ル比1:9〜9:1で含む混合フェノールおよび該混合
フェノールに対し50〜100モル%のホルムアルデヒ
ドを酸融媒の存在下に縮合して得られたアルカリ可溶性
ノボラック型フェノール樹脂と、該樹脂中のヒドロキシ
基の20〜Yは除去し得る基を意味する) で表わされる0−キノンジアジド化合物とを化学的に縮
合させることからなる感光性樹脂の製造方法を提供する
ものである。
本発明の感光性樹脂は、化学的1こO−キノンジアジド
スルホン酸または0−キノンジアジドカルボン酸と、フ
ェノール成分の一成分としてアルキルフェノールを用い
た共縮合ノボラック型樹脂とを結合せしめたものである
ので、露光されるとその部分はアルカリ水溶液に対して
迅速iこ現像が行なわれ、かつ未露光部の耐アルカリ性
が極めて強く、pH13程度の液中に長時間浸しても画
像の崩壊することがない。又、保存性が良好で皮膜形成
性1こも侵れ更1(親油性基で置換されているため、画
線部の感脂性、耐酸性、機械的強度も優れている。又一
般のノボラック型樹脂と任意の割合に混合することがで
きる。
本発明において用いられるアルカリ可溶性共硝合謝脂は
、分子量の比較的大きな、式(1)で表わされるアルキ
ルフエ/−ルと分子量の比較的小さなフェノール及び/
又はそのメチル置換体との両者を含むことを特設とする
ものである。この樹脂組成は、所望される特性に応じて
、例えば要求されるアルカリ現像性や感脂性に応じて定
めることができる。前記樹脂を縮合1こより生成する際
、少なくとも1種のアルキルフェノールと、フェノール
およびそのメチル置換体から選ばれた少なくとも1覆と
のモル比はl:9〜9:1とされる。より具体的には、
ps版、凸版等の印刷版材のレジストのような感脂性が
要求される用途に使用する場合は上記の比が4=6〜8
:2のものが好ましい。
一方、フォトマスクのような複写用の第2原図に使用す
る場合は、感脂性よりもむしろ現像の安定性が要求され
るのでアルキルフェノール使用量の小さいl:9〜6:
4のものが好ましいC惑、指性と現像の安定性の両方の
性質が良好なのは上記比率が4:6〜6.:4のもので
ある。また、ホルムアルデヒドの使用量は通常のフェノ
ール樹脂の製造における使用比が採用され(例えば日刊
工業新聞社、プラスチック材料講座(15)rフェノー
ル樹脂」、昭和53年1月20日発行、141〜工42
頁参ff1)、アルキルフェノールと、フェノールおよ
び/またはそのメチル置換体との総モル数に対し、50
〜100モル%好ましくは60〜100モル%とされる
。
本発明において使用される式(Dで表わされる化合物の
具体例としては、フェニルフェノール、シクロヘキシル
フェノール、インプロピルフェノール、tert−7’
チルフエノール、ニーブチルフェノール、tert−ア
ミルフェノール、n−アミルフェノール、  cert
−オクチルフェノール、ノニルフェノール、ドデシルフ
ェノール、ヘキシルフェノール等が挙げられる。これら
のうちアルキル基はヒドロキシ基のP−位にあるのが好
ましい。
また、フェノールのメチル置換体としてはモノメチル置
換体であるP−クレゾール、0−クレゾール、m−クレ
ゾールやジメチル置換体である各種キシレノール等が用
いられる。
上記アルキルフェノールとフェノール又はメチル置換体
あるいはこれらの混合物とホルムアルデヒドとは、慣用
の陵匹触媒、例えば塩酸、シニウ酸、酢酸亜鉛、酢酸マ
グネシウムなどの存在下で慣用方法により縮合させて、
アルカリ可溶性共縮合/ボラック型フェノール樹脂とす
ることができる。その際の反応条件は、公知のものが利
用される。その製造法を下記合成例により具体的に説明
する。
合成例 A シール付攪拌捧、コンデンサー及び温度計を有する三ロ
フラスコ(11)中に下記原料を装入した。
フェノール            2.3モルp−t
ert−ブチルフェノール  2.4モルホルムアノげ
ヒト(37%ホルマリン使用)  3.9モル35%塩
酸          0.5rnl上記混合物を10
0℃に加熱し、8時間攪拌してノボラック樹脂を製造し
、その後、減圧下に180〜190℃に加熱し、未反応
ホルムアルデヒド、単量体及び水を除去し、ノボラック
樹脂が収量110%で得られた。
なお、他の例示アルキルフェノールとの縮合生成物もこ
の合成例と同様にして合成される。
本発明に勿げる0−キノンジアジド化合物としく式中X
は一5O2Yまたは−coy で示される基で、Yは除
去し得る基を意味する) で表わされる0−キノンジアジド化合物が用いられるが
、式(3)の化合物としては置換基Xが4位に置換した
ものが、式(至)の化合物としては置換基Xが4位また
は5位に置換したものが好ましい結果を与える。式則で
表わされる化合物の好ましい具体例としては、1.2−
ベンゾキノンジアジド(2)−4−スルホニルクロライ
ド、1,2−ベンゾキノンジアジド[21−4−カルボ
ニルクロライド等が挙げられる。式(至)で表わされる
化合物の好ましい具体例としては1,2−ナフトキノン
ジアジド(2)−5−スルホニルクロライド、1,2−
ナフトキノンジアジド+21−4−スルホニルクロライ
ド、1゜2−ナフトキノンジアジド(21−5−カルボ
ニルクロライド、1,2−ナフトキノンジアジド+2)
 −4。
−カルボニルクロライド等が挙げられる。
上記した共縮合ノボラック樹脂と式(3)または式(至
)で表わされるO−キノンジアジド化合物とを化学的に
縮合することによって本発明の感光性樹脂を得る。この
縮合は、アセトンのような水と自由な割合で混合し得る
有機溶媒中またはこの有機溶媒と水との混合溶媒中で、
炭酸す) IJウムやピリジンのような塩基の存在下、
室温のような比較的低い温度において反応させることに
より行なわれる。
O−キノンジアジドスルホニル基またはO−キノンジア
ジドカルボニル基は、前記共縮合ノボラック型フ千ノー
ル樹脂中のヒドロキシ基に対して約20〜100モル噂
、好ましくは20〜80モル%の割合で樹脂中に導入さ
れる。20モル%よりも低い場合は、露光部と未露光部
のアルカリ溶解性の差が少なくなってくる。80モル%
を越えても使用量の割には目的の幼果はそれ以上良くな
らずメリットはない。
次に前記樹脂O−ベンゾキノンジアジド又は〇−ナフト
キノンジアジドのスルホニルクロライドとの縮合生成物
の合成例を具体的に挙げる。
合成例 B 合成例Aの共縮合樹脂24りを、1,2−ナフトキノン
ジアジドf21−5−スルホニルクロライド277をア
セトン400−に溶解し、室温において攪拌゛しながら
IN−炭酸ナトリウム溶液55−をpHf3以下に保ち
ながら加える。滴下後、更Iこ2時間反応を続け、反応
液を3 N −HC2溶液lt中に注ぎ、沈殿した油状
物を傾斜して分離し、多量の水と共に攪拌するとやがて
固化する。これを戸別し、メタノールで洗った後45℃
以下で乾燥する。収量27.45!。
かくして得られる本発明の感光性樹脂は、通常組成物と
して利用される。
即ち本発明によるポジ型感光性樹脂組成物は、前記感光
性樹脂を少なくとも一種謬含み、担体及び適宜添那物を
添加したものよりなる。本発明のN型感光性組成物は、
通常塗布液の形態で用いられる。このような観点からの
組成物としては、感光性樹脂を適当な有機溶剤に溶解し
て調整される。
有機溶剤としては、例えばアセトン、メチル二チルケト
ン、セロソルブ類、セロンルブアセテート瑣、ジオキサ
ン、酢酸ブチルなどが用いられる。
これらの溶剤中における感光性樹脂の含有量は、例えば
1〜30重量%である。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、高分子材料、染料
、顔料、増感剤その他の添7IO剤が含まれていてもよ
い。
K分子材料としては、エチルセルロース、メチルセルロ
ース、フロビルセルロース、セルロースアセテートのハ
ーフェステル等のセルロース誘導体、ポリアクリル酸(
エステル)、ポリメタクリル酸(エステル)、アルコー
ル性ヒドロキシ基ヲ存するアクリル酸またはアクリル酸
との共重合体等のアクリル樹脂、スチレン−無水マレイ
ン酸共を合Lメチルビニルエーテルー無水マレイン酸共
重合体等のマレイン陵共重合体が挙げられる。
これらは塗工性、塗工膜の耐酸、音素性、強度などの改
善目的に那えられる。
顔料としては例えばクロムイエロー、カーボンブラック
が挙げられる。着色はそれによって画像をみやすくし、
またできた画像に遮光性をもたせて原図として使用を可
能ならしめるためになされる。このような観点で前記の
例以外、こ池の顔料、または染料が利用される。
また一般のアルカリ可溶性ノボラック樹脂を添加しても
よい。その添加量によって、組成物を感光後、感光部分
のア、リカリ水溶役に対する溶解性の調節に役立つであ
ろう。
更に、公知の感光性樹脂であるO−キノンジアジド化合
物と一般の7ボラツク型フニノー/L、NFとの縮合生
成物を添加してもよい。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物における恭圓物(高分
子材料、顔料、増感剤その池の添加剤等)は、感光性樹
脂100重量部に対し600重量部以下の量で便用され
る。
本発明の感光性樹脂及びそれから製造されるポジ型感光
性樹脂組成物は化学的に安定性が高いので、長期間にわ
1こって品質の低下なしに貯蔵することができ、かつ感
脂性にすぐれている。従って本発明の感光性樹脂組成物
は、感光材料として広い用途、例えば、レリーフとして
ワイボン版、25版など、及びレジストとして凸版、凹
版などの印刷版材として用いられ、あるいは金属エツチ
ング用マスク、フォトマスク、及び複写用第二原図など
にも用いられる。
本発明のポジ型感光性樹脂組成物を適当な支持体、例え
ばアルミニウム、亜鉛、銅などの金属板、ポリエステル
、ポリプロピレン、セルローズアセテートなどのプラス
チックフィルム、紙、又は前記フィルム又は金属板をラ
ミネートした紙などの表面に均一に塗布される。この塗
布方法としては、回転法、スプレー法、含浸法、ホエラ
ー又はロールによるコーティング法などがある。塗布後
、塗布膜を乾燥して有機溶剤を除去する。このようにし
て製造された感光材料の膜面に所望のネガ画像を重ね合
わせ、活性光線を照射する。照射のためには1例えばカ
ーボンアーク灯、水銀ランプ、キセノンランプ、ケミカ
ルランプ、タングステンランプなどを用いることができ
る。これによって感光材料の露光部分は、O−キノンジ
アジドが光によりカルボン酸に変化し、アルカリ水溶液
に可溶となる。
次に、この感光材料はアルカリ水溶液、例えば、メタケ
イ酸ナト リウム、水酸化ナト リウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウムなどの水溶
液、又はこれらの混合水溶液、或は所望に応じ、これら
アルカリ水溶液とメタノール、エタノール、ジオキサン
などの有機溶剤、又はこれら有機溶剤とアニオンもしく
はノニオン系の界面活性剤との混合液により現像される
。
次に実施例を挙げてこの発明を更に詳しく説明する。な
お以下実施例において係は重量慢を意味する。
実施例1〜2、比較例1 ボール研碧したアルミニウム板を充分な時間5〜10チ
の第三リン酸ナトリウムの水溶液中に浸漬処理した。こ
れを水洗後、70係硝陵溶改中に浸漬し、充分水洗した
後2チジルコン弗化カリウム水溶液中に2分間浸漬し、
水洗・した。このようにして親水化処理したアルミニウ
ム板上にホエラーにより下記組成の感光?fを塗布した
。
表  1 但し、感光液組成は 感光性樹脂        6」鄭 ノボラ゛ンク型フェノール閃旨     9 ◆メチル
エチルケトン        60 クメチルセロンル
プアセテート    25 ◆であり、ま1こ、上記感
光性樹脂はフェノール成分を上記のようにしたことを除
いて合成例Aおよび合成IP11Bと同様の操作を行な
うことにより製造したものである。
塗布厚味は2.5μで乾燥温度は70℃で10分間であ
った。この感光層上にネガフィルムを重ね2KWの超高
圧水銀燈を用い、高さ1rrLの距離から、50秒間の
露光を施し、30℃の4幅ケイ酸ナトリウム水溶液で4
@を行った。水洗した後、直ちに印刷版面に現像インキ
を乗せ、スポンジで軽(数回こ丁り、その後水洗した画
像部の印刷インキ付着性はいずれも比較例の通常のフェ
ノールノボラック樹脂単独から得られた感光性樹脂便用
の場合に比べ、すぐれていた。また、露光部が溶解除去
される現像時間を更に延長し、未露光部が溶解しはじめ
る迄の時間を測定した。その結果を表1に示す。表1か
ら明らかなように本発明のポジ型感光性樹脂を使用する
と、従来使われていた比較例1に比べ、4渫の安定性、
即ちラチチュードが非常に広くなった事が判明した。更
に上述のポジ型感光性樹脂組成物の塗膜は非常に安定で
、数カ月間室温に放置した後でも、その4@性にほとん
ど変化が見られなコ)つた。
実施例3 実施例1の感光性樹脂1重量部とm−クレゾールノボラ
ック樹脂2重量部をメチルセロソルブアセテートとメチ
ルエチルケトンとの1:1混合物50重量部に溶解した
。この感光液を砂目室てされたアルミニウム金属シート
上にホエラーで塗布した。塗布された金寓板を透明場面
を通して、炭素アーク光に3分間露光し、次に5チメタ
ケイ酸ナトリウム溶液で現像した。現像及び水洗した金
属板に油性印刷インキを塗布し、オフセット印刷機で印
刷したところ、インキ付着性の良好な印刷物が得られた
。
実施例4 p−tert−ブチルフェノール58重量部とフェノー
ル42重量部を用いて合成例Aと同様に共縮合したノボ
ラック型フェノール樹脂30重量部と1.2−ナフトキ
ノンジアジド(21−5−スルホニルクロライド40重
量部とを合成例Bと同じ操作にて縮合させて得られた感
光性謝1指5重量部と、メタクレゾールノボラック樹脂
と1,2−ナフトキノンシアシト(2)−s−スルホニ
ルクロライドとの感光性縮合樹脂5重量部と、メチルバ
イオレツ)0.2重量穀をメチルセロソルブ100重量
部中に溶解し、濾過して感光液を作り、この感光液を徂
研宮した亜鉛板に回転塗布機で、塗布、乾燥せしめた。
このようにして得られた感光面にポジフィルムを密着さ
せ螢光灯真空焼は磯にセットし、2分間露光しf:、。
こnを1.0チ水酸化すIllラム溶液で現像すると、
露光部は除去された。かくして得られた耐酸性の優れた
ポジレジスト像を有する亜鉛板は、パウダーレス・エツ
チング方式により腐食して写真製仮凸版として使用する
ことができた。
実施例5 赤色有機着色染料を含有するアルコール可溶性ポリアミ
ドからなる有機被覆層を乾燥した厚さ20μになるよう
に、二軸延伸ポリエチシンテレフタレートフイルムに被
覆した。実施例3の感光液を、得られたポリアミド層上
に乾燥した厚さ3μに被覆して感光性フォトレジスト層
を形成させた。
この感光性シート材料を、3KW超高圧水銀灯の光源か
ら、1.5雇の距離で、ネガフィルムを通して50秒間
露光し、5チメタケイ酸ナトリウム水溶液で2分間現像
し、4像後水洗した。
次に、トルエンスルホン駿ナトリウム、アルコール及び
水からなる処理液を浸ませた脱脂綿で現像したシート材
料を軽くこすることにより、ポリアミド層をフォトレジ
スト層の開放画像領域でポリエステルフィルムからきれ
いに除去出来た。得られた画像材料は写真製版のための
製版用マスターとして有用であった。
実施例6 合成例Aで得られた共縮合樹脂24重量部と、1.2−
ナフトキノンジアジド+21−5−スルホニルクロライ
ド16重量部を合成例Bに孕じて反応させて得た感光性
樹脂2重量部とm−クレゾールノボラック樹脂2重量部
をメチルエチルケトンとメチルセロソルブアセテートの
2:1の混合物40重量部に溶解し、感光液とした。
その後、実施例3と同様の操作を行ったところ良好な印
刷物が得られた。
実3M列7 フエノール2.0モル、m−クレゾール0.3モル、p
−tert−ブチルフェノール2.3モル、ホルムアル
デヒド3.0モルを合成例Aの方法で共縮合したフェノ
ール樹脂を用いて、合成例Bの方法に準じて感光性樹脂
を合成した。この樹脂を実施例3の感光性樹脂の代りに
用いて、同様の操作を行ったところ、良好な印刷物が得
られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは炭素原子数3〜12のアルキル基またはフェ
    ニル基を意味する) で表わされる化合物の1種または2種以上とフェノール
    またはそのメチル置換体あるいはこれらの混合物とをモ
    ル比1:9〜9:1で含む混合フェノール及び該混合フ
    ェノールに対し50〜100モル%のホルムアルデヒド
    を酸触媒の存在下に縮合して得られたアルカリ可溶性ノ
    ボラック型フェノール樹脂と、該樹脂中のヒドロキシ基
    の20〜100モル%量の式(II)または式(III):
    ▲数式、化学式、表等があります▼(II)▲数式、化学
    式、表等があります▼(III) (式中Xは−SO_2Yまたは−COYで示される基で
    、Yは除去し得る基を意味する) で表わされるo−キノンジアジド化合物とを化学的に縮
    合させることからなる感光性樹脂の製造方法。
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JP28495186A Granted JPS62149717A (ja) 1979-03-16 1986-11-29 感光性樹脂の製造方法

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JP (1) JPS62149717A (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4924361A (ja) * 1972-06-27 1974-03-04
GB1367830A (en) * 1972-05-23 1974-09-25 Hunt Chem Corp Philip A Processes and materials for making photoresists
JPS505083A (ja) * 1973-04-27 1975-01-20
JPS54116218A (en) * 1978-03-02 1979-09-10 Oji Paper Co Photosensitive composition

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Publication number Publication date
JPS6260407B2 (ja) 1987-12-16

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