JPS6215909B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6215909B2
JPS6215909B2 JP54044661A JP4466179A JPS6215909B2 JP S6215909 B2 JPS6215909 B2 JP S6215909B2 JP 54044661 A JP54044661 A JP 54044661A JP 4466179 A JP4466179 A JP 4466179A JP S6215909 B2 JPS6215909 B2 JP S6215909B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
pellet
bonding
coordinates
recognized
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP54044661A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS55138250A (en
Inventor
Masayuki Naruse
Koichi Kawada
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP4466179A priority Critical patent/JPS55138250A/ja
Publication of JPS55138250A publication Critical patent/JPS55138250A/ja
Publication of JPS6215909B2 publication Critical patent/JPS6215909B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/50Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment
    • H10P72/53Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for positioning, orientation or alignment using optical controlling means

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Image Input (AREA)
  • Image Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は位置検出装置に関し、とくにリードフ
レーム上にダイボンデイングされたペレツトの電
極にリード線をボンデイングする装置において、
ペレツトの電極位置を自動的に検出する装置に関
する。
トランジスタペレツト等の電極をワイヤボンデ
イングする作業は第1図に示すように、リードフ
レーム1上にペレツト2を金箔、ソフトウエルダ
等によりダイボンデイングし、ペレツト2上の電
極とリードフレーム1とを各々金線で接続してい
る。この工程はリードフレーム1上にペレツト2
をダイボンデイングするボンデイング位置に誤差
が生ずるので、ワイヤボンデイングするときには
各電極位置を検出してボンデイングする必要があ
る。この検出手段として作業者が顕微鏡を通して
目視による位置検出が行なわれていた。しかし、
作業者の疲労、個人差による生産量のバラツキ等
のため画像処理を応用した全自動ワイヤボンデイ
ング装置の開発が各方面で行なわれている。
一般に、リードフレーム1上にダイボンデイン
グされたペレツト2から、金箔、ソフトウエルダ
等がはみ出ているため、光電変換手段で検出した
場合これらがペレツト2の電極形状と類似して映
り、処理部で電極と誤認して、この部分へボンデ
イングすることが時々生じていた。このようなペ
レツト2外へのボンデイングを行うと、金線を位
置決めするキヤピラリーの先端が破損したりキヤ
ピラリーの金線通し用の穴に金線がつまつたりし
て修復の時間がかかつたり、あるいは、そのまま
ワイヤボンデイングするとボール径の不良による
ボンデイング不良が多く発生する等の問題が生じ
ていた。
本発明は、電極中心位置を検出後、ボンデイン
グする前に前回のボンデイング位置から特定範囲
内に今回の電極が有ることを確認して電極位置を
検出する装置を提供することを目的とする。
すなわち本発明によればペレツト表面を光電走
査して得られた2値化図形をパターンマツチング
法により電極の中心座標を検出記憶し、この情報
と前回ボンデイングした位置座標と比較判定する
ことにより誤認識によるミスボンデイングを防ぐ
ことがでできる位置検出装置が得られる。
以下図面を参照して本発明を詳しく説明する。
第3図は本発明によるペレツト位置検出装置の
ブロツク構成図で、リードフレーム1上にボンデ
イングされたペレツト2を、光学系により適当な
大きさに拡大して光電スキヤナ4上に像を作り電
気信号に変換する。このときの走査領域は第1図
および第2図の1点鎖線3で示した部分である。
光電スキヤナ4で得られた電気信号はアナログ信
号であるので、2値化回路5で適当なレベルでス
ライスし1と0のデイジタル信号に変換される。
2値化された図形は一例として第4図で示した斜
線部の如くになり、電極の図形はA、Bの如く現
われる。この図形は処理部6において公知の処理
方式である。パターンマツチング法により、電極
図形の内接円より少し小さい円形マスクで走査さ
れ図形A、B、C等と円形マスクとのマツチング
がとれたときその円形マスクの中心座標が図形の
座標として抽出される。9は前記処理部6で認識
された電極座標を記憶するレジスタCで、例えば
第4図に示す第2電極座標BのX,Y軸座標を記
憶するものとする。7は前回認識したペレツトの
第2電極座標のX,Y軸座標を記憶したレジスタ
Aである。8は特定範囲が設定されたレジスタB
で10はその特定範囲を用いて今回認識した第2
電極座標が格納されたレジスタCの値が、前回の
座標値の特定範囲内に入つているかどうかを判定
する比較回路である。11はボンデイングツール
制御回路で、今回の電極座標をもとにボンデイン
グツール機構12を駆動してボンデイングを行
う。
第4図はペレツト表面を光電スキヤナ4で走査
したアナログ出力を2値化した図で、ペレツト電
極はA、Bで、金箔またはソフトウエルダ部が電
極と同等の大きさに映つた時のパターンをCとす
る。また同図において第1電極Aはペレツト表面
状態、傾き等により充分電極と認識できる大きさ
を有していない場合を示している。
第5図は第3図に示すブロツク図の動作を説明
するための図で、101は前回認識して、ボンデ
イングしたペレツト2の位置を示している。B1
はそのペレツト2の第2電極中心位置を示し絶対
座標はX1,Y1である。この絶対座標値X1,
Y1は第3図に示すレジスタA7に格納されてい
る。102は今回認識したペレツト2の位置を示
した一例で、第2電極中心位置B2の絶対座標が
X2,Y2であることを示している。この絶対座
標値は第3図に示すレジスタC9に格納されてい
る。B3は他のペレツト2について第2電極と認
識した電極中心座標を示している。斜線部は前回
認識した第2電極位置B1からX軸方向に±a、
Y軸方向に±bの特定範囲を示したもので、第3
図に示すレジスタB8にこの範囲の値が設定され
ている。一般にペレツト2をリードフレーム1に
ダイボンデイングするマウンタを使用した場合ペ
レツト2のマウント精度は上記範囲内に入るよう
に設定値を選んでおく。第3図に示すブロツク図
において今回認識した座標B2が斜線で示す特定
範囲内に入つている場合、すなわちX1−a≦X
2≦X1+a,Y1−b≦Y2≦Y1+bを満た
す場合、座標B2は正常電極と見なし、ボンデイ
ングを行う。また今回認識した座標がB3の場合
この座標が特定範囲内に入つていないため正常電
極と見なさず、再認識あるいは次のペレツト2へ
飛ばしたりする。座標B2の正常電極を認識して
ボンデイングした後、このX,Y座標をレジスタ
C9からレジスタA7へ並列転送して次回ペレツ
トに対する特定範囲の中心値とする。
以上説明した如く本発明装置によれば、図形座
標の判定械能に前回認識してボンデイングした位
置座標を使用することにより、ペレツト2外のリ
ードフレーム1上に出た電極図形と同型のノイズ
を認識してボンデイングすることが無くなるため
前述したキヤピラリの保護、キヤピラリ先端の金
線穴づまりによるボール径不良等を防ぐことが可
能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図はリードフレーム上のペレツトのワイヤ
ボンデイング状態を示す平面図、第2図は光電ス
キヤナの走査領域を示す説明図、第3図は本発明
によるペレツト位置検出装置のブロツク図、第4
図は2値化図形の一例を示す図、第5図は第3図
に示すブロツク構成図の動作を説明するための図
である。 図において、1はリードフレーム、2はペレツ
ト、3は走査領域、Aは第1電極の中心位置、B
は第2電極の中心位置、4は光電スキヤナ、5は
2値化回路、6は処理部、7はレジスタA、8は
レジスタB、9はレジスタC、10は比較回路、
11はボンデイングツール制御回路、12はボン
デイングツール機構、Cはノイズ、B1は前回認
識した第2電極の中心位置、B2,B3は今回認
識した電極の中心位置、a,bは特定範囲を示す
値、X1,X2,X3,Y1,Y2,Y3は絶対
座標を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 光電変換手段と、この光電変換手段で検出さ
    れた像を2値化する回路と、そこで2値化された
    図形において、あらかじめ定められた領域と一致
    する領域を検出し、この領域の中心位置を検出
    し、その中心位置が前回検出した図形の中心位置
    から特定の範囲内にあるか否かを比較判定する手
    段とを含むことを特徴とする位置検出装置。
JP4466179A 1979-04-12 1979-04-12 Position detector Granted JPS55138250A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4466179A JPS55138250A (en) 1979-04-12 1979-04-12 Position detector

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4466179A JPS55138250A (en) 1979-04-12 1979-04-12 Position detector

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS55138250A JPS55138250A (en) 1980-10-28
JPS6215909B2 true JPS6215909B2 (ja) 1987-04-09

Family

ID=12697621

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4466179A Granted JPS55138250A (en) 1979-04-12 1979-04-12 Position detector

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS55138250A (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5935892A (ja) * 1982-08-20 1984-02-27 Nec Corp レ−ザ加工装置
JPH07119705B2 (ja) * 1986-04-11 1995-12-20 東京エレクトロン 株式会社 電子部品の検査装置
JPH0468531U (ja) * 1990-10-24 1992-06-17
JP3934473B2 (ja) 2002-05-09 2007-06-20 大日本スクリーン製造株式会社 パッチ測定装置およびそれを組み込んだ印刷装置
JP6761477B2 (ja) * 2016-09-01 2020-09-23 株式会社Fuji 部品実装装置および位置認識方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS55138250A (en) 1980-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5119436A (en) Method of centering bond positions
US5642158A (en) Method and apparatus to detect capillary indentations
JPS6215909B2 (ja)
JPH08234226A (ja) 液晶基板製造用画像処理装置
JP3200953B2 (ja) 角形チップの半田付状態の検査方法
KR950004592B1 (ko) 접합부의 검사 방법
JPH10339613A (ja) ワイヤボンディングにおけるボンディング点の検査方法
JPS584937A (ja) 半導体チツプの検査装置
JPH102725A (ja) テープキャリアパッケージの外観検査装置
KR100231274B1 (ko) 패턴 인식 장치 및 이를 이용한 그라운드 본딩 위치 인식 방법
JP3278568B2 (ja) ボンディング・ワイヤの認識方法
JP3480641B2 (ja) パターンの検査方法
JP2647053B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH0989797A (ja) 実装基板検査装置
JPS62291126A (ja) パタ−ン認識マ−ク
JPH0812163B2 (ja) 電子部品の接合部検査方法および検査装置
JP3414821B2 (ja) 半導体製品のボンディング検査方法およびその装置
JPH05335390A (ja) ボンディングワイヤ検査装置
JPH0619252B2 (ja) 印刷配線基板のはんだ付検査装置
JP3385933B2 (ja) ワイヤボンディングにおけるセカンドボンディング点の検査方法
JPS62285436A (ja) ペレットボンディング外観検査方法
JPS6131401B2 (ja)
JPH0682730B2 (ja) 半導体装置のマーク検査装置
JPS584938A (ja) ワイヤボンデイング装置
JPH10339611A (ja) ワイヤボンディングにおけるワイヤの検出方法