JPS6217100A - ベリル単結晶の製造方法 - Google Patents

ベリル単結晶の製造方法

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Publication number
JPS6217100A
JPS6217100A JP15573185A JP15573185A JPS6217100A JP S6217100 A JPS6217100 A JP S6217100A JP 15573185 A JP15573185 A JP 15573185A JP 15573185 A JP15573185 A JP 15573185A JP S6217100 A JPS6217100 A JP S6217100A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
beryl
flux
temp
single crystal
temperature
Prior art date
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Pending
Application number
JP15573185A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Oguri
小栗 隆志
Masaaki Takeuchi
正明 竹内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Matsushima Kogyo KK
Original Assignee
Matsushima Kogyo KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushima Kogyo KK filed Critical Matsushima Kogyo KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分針〕 本発明は、溶融塩(フラックス)法によるベリル単結晶
の補遺方法に関する。
〔発明の概要〕
本発明は温度差法あるいは徐冷法でベリル単結範囲に制
御することにLシ、共存鉱物の発生を抑え、得ら五る結
晶の品質を向上させたものである。
(従来の技術〕        − 従来溶融塩法は、フラックス液面の温度がベリル育gg
の温度に対して10℃以上低か2魁(発明が解決しよう
としている問題点及び目的〕しかし、前述の従来技術で
はフラックス液面が急激に冷える九め、エメラルドの微
結晶又は戸リストパライトが発生し易く、ベリルの生成
量を低下させiす、又育成時に包有物として堰り込まれ
透明度を低下させるなど品質に重大な影響を与えていた
という問題点を有する。
本発明は以上の問題点を解決するもので、その目的とす
るところはベリル単結晶の収量を増大させ、品質にも優
れtベリル単結晶の製造方法を提供するところにある。
(問題点を解決する九めの手段〕 本発明のベリル単結晶製造方法は、フラックス〔実施例
〕 以下に本発明の方法を実施例に基づいて説明する。
〔実施例−1〕 (1)#剤(フラックス) ’/20s トL i 0Hfj20 : 1(7)’
jLf&テIK#用いる。
(2)  溶解方法 Φ ptルツボとルツボ炉を用い、上記フラックス11
000℃で溶解する。
■ ベリル育成部の温度がルツボ底部の温度より5℃低
くなるように制御し、さらにフラックス液面とベリル育
[部t−第1表に示し7?:3種類の温度差にy!if
御する。
■ At、O327tとBe010fの混合焼結体を投
入し溶解する。
■ 3日後、At! 03とBooの溶解1it’に発
光分光分析装置ll用いてチェックする。
各成分ともに亀和溶″siの80チ以上溶解しているこ
とを分析確認する。
■ ドープ剤としてC,、r!os焼結体を1.1f(
重量比でAt、03の4.1チ)投入し溶解する。
■ 810.(水晶)を55p投入し溶解する。
′ ■ 2日後、各原材料物質が飽和しているか発光分
光分析装置を用いてチェックする66放分ともに飽和溶
解量の80eI6以上溶解していることを分析確認する
。
(3)  ベリルの育成 ■ 改良確認用のベリル結晶片t−2日間投入する。
成長状況と共存鉱物の生成の有無をチェ・−ツクする。
■ 育成用のベリル種子結晶片を投入する。
■ フラックスの温度15℃上げ、24時間保持し種子
結晶表面をエツチングする。
■ もとのm度まで4℃/ d a、 yの徐冷速度で
徐冷する。
■ 徐冷が終了しtらAt、amとBaOの混合焼結体
(Azlo3 とB c、 Oの比が重量比で3=1に
なる工うにし次混合体)、Cr103の焼結体、水晶t
−7日ごとに追加し60日間育成させる。(追加する原
材、  料物質の量は発光分光分析装置により、その都
度分析して決定する。) 17j、比較例としてフラックスの液面とベリル育成部
の温度差が上述の範囲外であるものを2橿頌用意し、同
じ二うに育成する。
(4)  品質チェック 種子結晶の成長量のチェック及び、種子表面に共存鉱物
を包有していないか詞ぺる。
(結果) 結晶の成長量、′及び品質評価を下記の第1表に示す。
なお、フラックス液面の温度をベリル育成部の温度に対
して何度変化させ友かを第1表ではΔでとして表わす。
第1表 第1表から明らかな如く、本発明の請求の範囲内では共
存鉱物を全く包有していない極めて良質の一すル単結晶
が得られ友。
これに対し、上述の範囲外である比較例1.2は、1に
ついては共存鉱物の包有がみられ、又2についてはベリ
ルが非常にわずかしか成長しないため実用的でない。
〔実施例−2〕 (1)溶剤(フラックス) 実施例−1と同じ。
(2)  溶解方法 実施例−1と同じ。
(3)  ベリルの育成 実施例−1■〜■と同じ。
■ 徐冷速度4℃/ d a yで100℃徐冷する。
ま几比較例としてフラックスの液面とベリル育成部の温
度差が、上述の範冊外であるものを2種類用意し、同じ
ように育成する。
(4)  品質チェック 実施例−1と同じ。
(結果) 結晶の成長t、及び品質評価を下記の!gg2表に示す
。なお、フラックス液面の温度をベリル育成部のm度に
対して何度変化させ友かを第2表ではΔTとして表わす
。
M2表 第2表から明らかな如く、本発明の請求の範囲内では共
存鉱物を全く包有していない極めて良質のベリル単結晶
が得られ比。
これに対し、上述の範囲外である比較例1.2は、1に
ついては共存鉱物の包有がみられ、又2についてはベリ
ルが非常にわずかしか成長しないため実用的でない。
〔実I壱例−3〕 (1)溶剤(7ラツクス) L12MOO4とMo03i1:1の割合で1〜用いる
。
(2)  溶解方法 ■ 溶i#s温度900℃で上6己フラックスを溶解す
る。装置、治具は実施例−1と同じ。
■ フラックス液面の温度とベリル育成部の温度を第3
表に示しt3種類の温度差に制御する。
■ At、0315fとBe08fの混合焼結体を投入
し溶解する。
■ 3日後、*t2 o3 とBeOの溶解量を発光分
光分析装e+用いてチェックする。
各成分ともに胞頗溶解着の80%以上溶解していること
を分析確認する。
■ ドープ剤としてCr2O3焼結体をα7を投入し溶
解する。
■ 810!(水晶)t−35f投入し溶解する。
■ 2日後、各原材料物質が飽和しているか     
:発光分光分析装置を用いてチェックする。
各成分ともに飽和溶解量の80優以上溶解していること
を分析確認する。
(3)ベリルの育成 実施例−1と同じ (4)  品質チェック 実施例−1と同じ (結果) 結晶の成長量、及び品質評価を下記の第3表に示す。な
お、フラックス液面の温度をベリル育成部の温度に対し
て何度変化させ次かを第3表ではΔTとして表わす。
第3表 第5表から明らかな如く、本発明の請求の範囲内では共
存鉱物を全く包有していない極めて良質のベリル単結晶
が得られ几。
これに対し、上述の範囲外である比較例1.2は、1に
ついては共存鉱物の包Mがみられ、又2についてはベリ
ルが非常にわずかしか成長しない九め実用的でない。
〔発明の効果〕
以上述べ友ように、本発明のベリル単結晶の製ることに
エリ、共存鉱物の発生を抑えることができ、収率の増大
、品質の向上が図れる。
本発明は人工ベリル単結晶の合成方法として、多大な効
果を育するものである。
以  上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 五酸化バナジウム、モリブデン酸リチウム、モリブデン
    酸ナトリウム、モリブデン酸カリウム、三酸化モリブデ
    ン、酸化リチウムの中から選ばれた1種又は2種以上を
    溶剤(フラックス)として用い、この中にベリル成分と
    なる酸化ベリリウム(BeO)、酸化アルミニウム(A
    l_2O_3)、二酸化ケイ素(SiO_2)、および
    着色剤として酸化クロム(Cr_2O_3)等を溶解し
    て温度差法あるいは徐冷法でベリル単結晶を成長させる
    方法において、フラックス液面の温度をベリル育成部の
    温度に対して−6℃〜2℃の範囲に制御することを特徴
    とするベリル単結晶の製造方法。
JP15573185A 1985-07-15 1985-07-15 ベリル単結晶の製造方法 Pending JPS6217100A (ja)

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