JPS62171748A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS62171748A JPS62171748A JP61014548A JP1454886A JPS62171748A JP S62171748 A JPS62171748 A JP S62171748A JP 61014548 A JP61014548 A JP 61014548A JP 1454886 A JP1454886 A JP 1454886A JP S62171748 A JPS62171748 A JP S62171748A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- plasma
- cap
- sample
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、反応性ガス、不活性ガスのプラズマを使用し
、試料に対して処理を行うプラズマ処理装置に関するも
のである。
、試料に対して処理を行うプラズマ処理装置に関するも
のである。
プラズマを使用した従来の装置は、プラズマから＋イオ
ンを引出して使用する装置、プラズマをその１ま使用す
る装置等、プラズマの使用方法により、それぞれ異った
装置が必要であった。
ンを引出して使用する装置、プラズマをその１ま使用す
る装置等、プラズマの使用方法により、それぞれ異った
装置が必要であった。
第３図はプラズマから＋イオンを引出して使用する装置
である。これはチャンバ１内で高周波電源７によりプラ
ズマを発生し、引出電極１１により試料室ルヘ引出し、
試料Ｂに照射して処理をする。この構造では、引出し電
極に交流が印加されているので、引出し電極に正の半サ
イクルが印加されているときは電子が、負の半サイクル
では＋イオンが引出され試料室２へ入るので、結局プラ
ズマの一部が試料に照射されることになる。
である。これはチャンバ１内で高周波電源７によりプラ
ズマを発生し、引出電極１１により試料室ルヘ引出し、
試料Ｂに照射して処理をする。この構造では、引出し電
極に交流が印加されているので、引出し電極に正の半サ
イクルが印加されているときは電子が、負の半サイクル
では＋イオンが引出され試料室２へ入るので、結局プラ
ズマの一部が試料に照射されることになる。
第４図はプラズマをその１ま使用する装置である。チャ
ンバｌ内に高周波電源７によりプラズマを発生させ、そ
の中で試料Ｂを処理する。そのたメ、プラズマが＋イオ
ンを引出して使用することは不可能である。
ンバｌ内に高周波電源７によりプラズマを発生させ、そ
の中で試料Ｂを処理する。そのたメ、プラズマが＋イオ
ンを引出して使用することは不可能である。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくし、一
台の装置でプラズマの多角的使用ができることである。
台の装置でプラズマの多角的使用ができることである。
本発明は密封されたチャンバ内に発生したプラズマに対
し、直流電圧をチャンバ外より印加することにより、チ
ャンバ内のプラズマが、＋イオン部、プラズマ部、電子
部に分かれることに着目し、個々の分部を利用できるよ
うに、チャンバ、キャップ、ガス流入口、パツキン、電
極、高周波電源、カソード、アノード、直流電源の関係
を工夫したものである。
し、直流電圧をチャンバ外より印加することにより、チ
ャンバ内のプラズマが、＋イオン部、プラズマ部、電子
部に分かれることに着目し、個々の分部を利用できるよ
うに、チャンバ、キャップ、ガス流入口、パツキン、電
極、高周波電源、カソード、アノード、直流電源の関係
を工夫したものである。
プラズマを発生させるチャンバ１にガス流入口３と排気
口４を設け、チャンバ１の両端にパツキン５を介してキ
ャップ２を取付ける。チャンバｌ内には、キャップ２の
部分、チャンバｌの部分に試料を置けるようにした試料
台１４を入れる。チャンバ１外周には、高周波電源７に
接続された電極６を取付ける。両端のキャップ２の外側
にカソード８とアノード９を設け、これらに電圧印加を
するための直流電源ｌＯを設ける。
口４を設け、チャンバ１の両端にパツキン５を介してキ
ャップ２を取付ける。チャンバｌ内には、キャップ２の
部分、チャンバｌの部分に試料を置けるようにした試料
台１４を入れる。チャンバ１外周には、高周波電源７に
接続された電極６を取付ける。両端のキャップ２の外側
にカソード８とアノード９を設け、これらに電圧印加を
するための直流電源ｌＯを設ける。
ガス流入口３よね数ＷＬ１．Ｑル〜数十≠４１のガスを
流し、排気口４から真空ポンプで排気する。この時生じ
るチャンバｌ内と大気との差圧によりキャップ２をパツ
キン５を介してチャンバｌに吸着する。その後ガス流量
を調整し、チャンバ１内圧を１ＱＰａ台〜１００５台に
する。電極６に高周波を印加すると、チャンバ１内にプ
ラズマが発生する。
流し、排気口４から真空ポンプで排気する。この時生じ
るチャンバｌ内と大気との差圧によりキャップ２をパツ
キン５を介してチャンバｌに吸着する。その後ガス流量
を調整し、チャンバ１内圧を１ＱＰａ台〜１００５台に
する。電極６に高周波を印加すると、チャンバ１内にプ
ラズマが発生する。
ここでカソード８、アノード９に直流電圧を印加する。
するとカソード８側のキャップ２内へ＋イオンが、アノ
ード９側のキャップ２内へ電子が引き出される。内部に
はキャップ２部、チャンバ１部に試料が置けるように試
料台が設けであるので、カソード８側のキャップ２部へ
試料をおけば（Ａ点）＋イオンによる処理ができ、チャ
ンバｌ内へ試料をおけば（０点）プラズマによる処理が
でき、アノード９側のキャップ２部に試料をおけば（Ｄ
点）電子による処理ができる。
ード９側のキャップ２内へ電子が引き出される。内部に
はキャップ２部、チャンバ１部に試料が置けるように試
料台が設けであるので、カソード８側のキャップ２部へ
試料をおけば（Ａ点）＋イオンによる処理ができ、チャ
ンバｌ内へ試料をおけば（０点）プラズマによる処理が
でき、アノード９側のキャップ２部に試料をおけば（Ｄ
点）電子による処理ができる。
本発明によれば、プラズマを＋イオン、プラズマ、電子
の３部分に分けることができ、それぞれの部分で処理可
能なので、以下の効果を奏することができる。
の３部分に分けることができ、それぞれの部分で処理可
能なので、以下の効果を奏することができる。
α）＋イオン部（Ａ点）に試料を置いた場合走査形電子
顕微鏡用の生物試料の前処理装置となる。
顕微鏡用の生物試料の前処理装置となる。
゛ プラズマの出力調整により、エツチングやプラズマ
照射処理ができる。
照射処理ができる。
Ｂ点にターゲットを置くことにより、ターゲットがスパ
ッタされ、カソードにより試料側に引かれ、試料にコー
ティングができる。
ッタされ、カソードにより試料側に引かれ、試料にコー
ティングができる。
（２） ７“ラズマ部（０点）に試料を置いた場合、
流入ガスの種類によシ、灰化や反応性エツチング、また
重合膜作成ができる。
流入ガスの種類によシ、灰化や反応性エツチング、また
重合膜作成ができる。
Ｃ）Ｄ点に試料を置いた場合
電子による加熱ができる。
第１図は本発明によるプラズマ処理装置の斜視図におい
て、ｌはチャンバ、２はキャップ、３はガス流入口、４
は排気口、５はパツキン、６は電極、７は高周波電源、
８はカソード、９はアノード、１０は直流電流、■は引
出電極、２は試料室、Ｂは試料、１４は試料台である。 特許出願人の名称 日立工機株式会社中［１ 中２図 矛３図 十４０
て、ｌはチャンバ、２はキャップ、３はガス流入口、４
は排気口、５はパツキン、６は電極、７は高周波電源、
８はカソード、９はアノード、１０は直流電流、■は引
出電極、２は試料室、Ｂは試料、１４は試料台である。 特許出願人の名称 日立工機株式会社中［１ 中２図 矛３図 十４０
Claims (1)
- 一定流量のガス（不活性、反応性）を流し込む流入口と
、一定流量で排出する排気口を有し、チャンバ内を一定
圧力（１０Ｐａ台〜１００Ｐａ台）に保てるガラス製の
チャンバの両端にパッキンを介して取り付けたガラス製
のキャップと、チャンバ内部、キャップ部の任意の位置
に試料をおけるようにした試料台と、チャンバ外周に高
周波電源に接続した容量結合形電極と、一方のキャンプ
部に、プラズマより＋イオンを引出せる電極をキャップ
の外側に設け、他方のキャップ部に、プラズマより電子
を引出せる電極をキャップの外側に設け、＋イオン、プ
ラズマ、電子の各部分で試料を処理可能としたプラズマ
処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61014548A JPS62171748A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61014548A JPS62171748A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62171748A true JPS62171748A (ja) | 1987-07-28 |
Family
ID=11864202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61014548A Pending JPS62171748A (ja) | 1986-01-24 | 1986-01-24 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62171748A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5282184A (en) * | 1975-12-29 | 1977-07-09 | Mitsubishi Electric Corp | Vapor phase etching device |
| JPS5460567A (en) * | 1977-10-24 | 1979-05-16 | Hitachi Ltd | Plasma processor |
| JPS5779621A (en) * | 1980-11-05 | 1982-05-18 | Mitsubishi Electric Corp | Plasma processing device |
-
1986
- 1986-01-24 JP JP61014548A patent/JPS62171748A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5282184A (en) * | 1975-12-29 | 1977-07-09 | Mitsubishi Electric Corp | Vapor phase etching device |
| JPS5460567A (en) * | 1977-10-24 | 1979-05-16 | Hitachi Ltd | Plasma processor |
| JPS5779621A (en) * | 1980-11-05 | 1982-05-18 | Mitsubishi Electric Corp | Plasma processing device |
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