JPS62174227A - 高密度磁気記録体用液晶性ポリエステルフイルム - Google Patents
高密度磁気記録体用液晶性ポリエステルフイルムInfo
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- JPS62174227A JPS62174227A JP61015780A JP1578086A JPS62174227A JP S62174227 A JPS62174227 A JP S62174227A JP 61015780 A JP61015780 A JP 61015780A JP 1578086 A JP1578086 A JP 1578086A JP S62174227 A JPS62174227 A JP S62174227A
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- formula
- less
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はビデオ用磁気テープ、フロッピーディスク等に
適した高密度記録が可能な磁気記録用液晶性芳香族ポリ
エステルフィルムに関する。
適した高密度記録が可能な磁気記録用液晶性芳香族ポリ
エステルフィルムに関する。
鑑来Ω且韮
最近の磁気記録体の記録密度の向上には著しいものがあ
り、今後さらに高密度記録化が目指されている。
り、今後さらに高密度記録化が目指されている。
基体フィルムとしては通常二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルムが用いられている。ポリエチレンテレ
フタレートフィルムは耐熱性が比較的よいこと、機械的
強度、耐候性に優れていること、比較的安価であること
から磁気記録用の基体フィルムとして広く用いられてい
る。
タレートフィルムが用いられている。ポリエチレンテレ
フタレートフィルムは耐熱性が比較的よいこと、機械的
強度、耐候性に優れていること、比較的安価であること
から磁気記録用の基体フィルムとして広く用いられてい
る。
＾ が ′ しよ とする 題
しかしながら、最近ますます高密度記録化、高画質化、
長時間化、小型軽量化が要求されてくるとポリエチレン
テレフタレートフィルムでは対応に限界がある。例えば
、長時間化、小型軽量化をはかるためには基体フィルム
を出来るだけ薄（する必要があるが、ポリエチレンテレ
フタレートフィルムでは弾性率の点で限界がある。また
ポリエチレンテレフタレートフィルムの湿度による寸法
変化は比較的大きく、湿度による寸法変化を嫌う用途、
例えばフレキシブル磁気ディスク等の用途にはなお不十
分であった。
長時間化、小型軽量化が要求されてくるとポリエチレン
テレフタレートフィルムでは対応に限界がある。例えば
、長時間化、小型軽量化をはかるためには基体フィルム
を出来るだけ薄（する必要があるが、ポリエチレンテレ
フタレートフィルムでは弾性率の点で限界がある。また
ポリエチレンテレフタレートフィルムの湿度による寸法
変化は比較的大きく、湿度による寸法変化を嫌う用途、
例えばフレキシブル磁気ディスク等の用途にはなお不十
分であった。
問題点を解決するための手段
本発明はポリエチレンテレフタレート２軸配向フイルム
の長所を残しながら、高弾性率を有し温度膨張率、湿度
膨張率が小さくかつこれらの平面内異方性の小さな高密
度記録が可能な磁気記録体用の基体フィルムを提供する
ことにある。
の長所を残しながら、高弾性率を有し温度膨張率、湿度
膨張率が小さくかつこれらの平面内異方性の小さな高密
度記録が可能な磁気記録体用の基体フィルムを提供する
ことにある。
すなわち本発明は、一般式（Ａ）で表わされるジカルボ
ン酸ユニット、 （式中、Ｒ１の少な（とも６０モル％以上は１．４−フ
ェニレン基であ１３．４０モル％Ｊｕ下が１．４−フェ
ニレン基以外のＣ６〜Ｃ１８の２価の芳香族炭化水素基
、Ｃ４〜Ｃ３゜の２価の脂環式炭化水素基またはＣ１〜
Ｃ４゜の２価の脂肪族炭化水素基を示す。但し、芳香族
炭化水素基（１，４−］二ニレし基を含めて）のベンゼ
ン環の水素原子はハロゲン原子、Ｃ〜Ｃ４のアルキル基
またはアルコキシ基で［換されていてもよい） 一般式（Ｂ）で表わされろグリコールユニット−０−Ｒ
−０−・・・・・・・・・・・・（Ｂ）（式中、Ｒ２は
Ｃ４〜Ｃ２゜の２価の脂肪族炭化水素基またはＣ４〜Ｃ
５２゜の２価の脂環式炭化水素基を示す） および一般式（Ｃ）で表わされるオキシカルボン酸ユニ
ット １ｌ −Ｏ−Ｒ−Ｃ−・・・・・・・・・・・・（Ｃ）（式中
、Ｒ′の少なくとも６０モル％以上は１．４−フェニレ
ン基であり、４０モル％以下が１．４−フェニレン基以
外の０６〜ＣＩ６の２価の芳香族炭化水素基を示す。但
し、芳香族炭化水素基（１，４−フェニレン基を含めて
）のベンゼン環の水素Ｍ 子ｒｘハロゲン原子、Ｃ１〜
Ｃ４のアルキル基またはアルコキシ基でＷ換されていて
もよい） から構成される芳香族ポリエステルからなり、弾性率が
３ＧＰａ以上、温度膨張率が５ Ｘ １０−’／℃以下
、υ度膨張率が９ Ｘ １０−’／％ＲＨ以下であり、
かつ弾性率の異方性が２以内、温度膨張率の異方性が２
す内、湿度膨張率の異方性が２以内である液晶性芳香族
ポリエステルフィルムに関するものである。
ン酸ユニット、 （式中、Ｒ１の少な（とも６０モル％以上は１．４−フ
ェニレン基であ１３．４０モル％Ｊｕ下が１．４−フェ
ニレン基以外のＣ６〜Ｃ１８の２価の芳香族炭化水素基
、Ｃ４〜Ｃ３゜の２価の脂環式炭化水素基またはＣ１〜
Ｃ４゜の２価の脂肪族炭化水素基を示す。但し、芳香族
炭化水素基（１，４−］二ニレし基を含めて）のベンゼ
ン環の水素原子はハロゲン原子、Ｃ〜Ｃ４のアルキル基
またはアルコキシ基で［換されていてもよい） 一般式（Ｂ）で表わされろグリコールユニット−０−Ｒ
−０−・・・・・・・・・・・・（Ｂ）（式中、Ｒ２は
Ｃ４〜Ｃ２゜の２価の脂肪族炭化水素基またはＣ４〜Ｃ
５２゜の２価の脂環式炭化水素基を示す） および一般式（Ｃ）で表わされるオキシカルボン酸ユニ
ット １ｌ −Ｏ−Ｒ−Ｃ−・・・・・・・・・・・・（Ｃ）（式中
、Ｒ′の少なくとも６０モル％以上は１．４−フェニレ
ン基であり、４０モル％以下が１．４−フェニレン基以
外の０６〜ＣＩ６の２価の芳香族炭化水素基を示す。但
し、芳香族炭化水素基（１，４−フェニレン基を含めて
）のベンゼン環の水素Ｍ 子ｒｘハロゲン原子、Ｃ１〜
Ｃ４のアルキル基またはアルコキシ基でＷ換されていて
もよい） から構成される芳香族ポリエステルからなり、弾性率が
３ＧＰａ以上、温度膨張率が５ Ｘ １０−’／℃以下
、υ度膨張率が９ Ｘ １０−’／％ＲＨ以下であり、
かつ弾性率の異方性が２以内、温度膨張率の異方性が２
す内、湿度膨張率の異方性が２以内である液晶性芳香族
ポリエステルフィルムに関するものである。
一般式（Ａ ）、 （Ｂ ）、 （Ｃ）におけろＲ１お
よびＲ３としては６０モル％以上が１，４−フェニレン
基で４０モル％Ｊｕ下が１．３１．しくは１，２−フェ
ニレン基またはナフチレン基（但しフェニレン基または
ナフチレン基のベンゼン環の水素原子はハロゲン原子、
炭素数１〜４のアルキル基またはアルコキシ基で置換さ
れていてもよい）であるが、すべてが１．４−フェニレ
ン基であるものが挙げられる。
よびＲ３としては６０モル％以上が１，４−フェニレン
基で４０モル％Ｊｕ下が１．３１．しくは１，２−フェ
ニレン基またはナフチレン基（但しフェニレン基または
ナフチレン基のベンゼン環の水素原子はハロゲン原子、
炭素数１〜４のアルキル基またはアルコキシ基で置換さ
れていてもよい）であるが、すべてが１．４−フェニレ
ン基であるものが挙げられる。
Ｒ２としては炭素数６以下の脂肪族炭化水素基とくにエ
チレン基が好ましい。
チレン基が好ましい。
構造単位（Ａ）は次に例示するジカルボン酸ま・たはそ
のエステルから誘導されろ。カルボン酸の例を示すと、
テレフタル酸、メトキシテレフタル酸、エトキシテレフ
タル酸、フルオロテレフタル酸、クロロテレフタル酸、
メチルテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、メトキ
シイソフタル酸、ジフェニルメタン４．４′−ジカルボ
ン酸、ジフェニルメタン３．３′−ジカルボン酸、ジフ
ェニルエーテル４・４′−ジカルボン酸、ジフェニル−
４，４′−ジカルボン酸、ナフタリン−２，６−ジカル
ボン酸、ナフタリン１．５ジカルボン酸、ナフタリン１
．４ジカルボン酸、アジピン酸、３−メチルアジピン酸
、セバシン酸、アゼライン酸、スペリン酸、ドデカンジ
カルボン酸、３−メチルアゼライン酸、グリタール酸、
コへり酸、シクロヘキサン１．４ジカルボン酸、シクロ
ヘキサン１．３ジカルボン酸、シクロペンタン１．３ジ
カルボン酸などが挙げられる。これらは混合して使用し
てもよい。
のエステルから誘導されろ。カルボン酸の例を示すと、
テレフタル酸、メトキシテレフタル酸、エトキシテレフ
タル酸、フルオロテレフタル酸、クロロテレフタル酸、
メチルテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、メトキ
シイソフタル酸、ジフェニルメタン４．４′−ジカルボ
ン酸、ジフェニルメタン３．３′−ジカルボン酸、ジフ
ェニルエーテル４・４′−ジカルボン酸、ジフェニル−
４，４′−ジカルボン酸、ナフタリン−２，６−ジカル
ボン酸、ナフタリン１．５ジカルボン酸、ナフタリン１
．４ジカルボン酸、アジピン酸、３−メチルアジピン酸
、セバシン酸、アゼライン酸、スペリン酸、ドデカンジ
カルボン酸、３−メチルアゼライン酸、グリタール酸、
コへり酸、シクロヘキサン１．４ジカルボン酸、シクロ
ヘキサン１．３ジカルボン酸、シクロペンタン１．３ジ
カルボン酸などが挙げられる。これらは混合して使用し
てもよい。
構造単位（Ｂ）は次に例示するジオールから誘導されろ
。ジオールの具体例を示すと、エチレングリコール、１
．３−／ロパンジオール、１．２−プロパンジオール、
１，３−ブタンジオール、１．４−ブタンジオール、ネ
オペンチルグリコール、１，６ヘキサンジオール、１．
１２−ドデカンジオール、シクロヘキサン１゜４ジオー
ル、シクロヘキサン１．３ジオール、シクロヘキサン１
．２−ジオール、サクロペンペンタン１．３−ジオール
などが挙げられるが、これらは混合して使用してもよい
。
。ジオールの具体例を示すと、エチレングリコール、１
．３−／ロパンジオール、１．２−プロパンジオール、
１，３−ブタンジオール、１．４−ブタンジオール、ネ
オペンチルグリコール、１，６ヘキサンジオール、１．
１２−ドデカンジオール、シクロヘキサン１゜４ジオー
ル、シクロヘキサン１．３ジオール、シクロヘキサン１
．２−ジオール、サクロペンペンタン１．３−ジオール
などが挙げられるが、これらは混合して使用してもよい
。
構造単位（Ｃ）は次に例示するオキシ酸またはその酢酸
エステルから誘導される。オキシ酸の具体例を示すと、
パラにドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ３−クロロ安
息香酸、メタヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ３．
５−ジメチル安息香酸、２−オキシ６−ナフトエ酸、１
−オキシ５−ナフトエ酸、１−七ド彎キシー４−ナフト
エ酸、シュリンガ−酸、バニリン酸、４−にドロキシ−
３−メチル安息香酸などが挙げられろ。パラヒドロキシ
安息香酸を単独で用いるのが溶融異方性を保つためには
好ましいが、これらを混合して使用することもできる。
エステルから誘導される。オキシ酸の具体例を示すと、
パラにドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ３−クロロ安
息香酸、メタヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ３．
５−ジメチル安息香酸、２−オキシ６−ナフトエ酸、１
−オキシ５−ナフトエ酸、１−七ド彎キシー４−ナフト
エ酸、シュリンガ−酸、バニリン酸、４−にドロキシ−
３−メチル安息香酸などが挙げられろ。パラヒドロキシ
安息香酸を単独で用いるのが溶融異方性を保つためには
好ましいが、これらを混合して使用することもできる。
（Ａ ）、 （Ｂ ）、 （Ｃ）構造単位については、
（Ａ）、（Ｂ）の含有量が１０〜４０モル％であり、（
Ｃ）の含有量が２０〜８０モル％である。（Ｃ）の含有
量が２０モル％より少ないと液晶性が発現しないし、８
０モル％より多いと融点が高くなりすぎて溶融成形が不
可能となる。
（Ａ）、（Ｂ）の含有量が１０〜４０モル％であり、（
Ｃ）の含有量が２０〜８０モル％である。（Ｃ）の含有
量が２０モル％より少ないと液晶性が発現しないし、８
０モル％より多いと融点が高くなりすぎて溶融成形が不
可能となる。
重合方法については従来公知の方法が採用できる。すな
わち特公昭５６−１８０１６に示されているように、構
造単位（Ａ）と（Ｂ）からあらかじめポリマーあるいは
オリゴエステルを合成しておき、これに構造単位（Ｃ）
を有するオキシ酸のアセトキシ化物を加えて反応させ、
最後に高温、高真空下に重合を進めて目的の液晶性ポリ
エステル共重合体を得ろ方法、あるいは特開昭６０−１
８５２７に示されているように、構造単位（Ａ）、（Ｂ
）から成るポリマーあるいはオリゴエステルに構造単位
（Ｃ）を有するオキシ酸を加えて反応させ、次いで無水
酢酸を加えてアセトキシ化し、最後に高温、高真空下に
重合を進めて目的の液晶性ポリエステル共重合体を得ろ
方法などが挙げられる。
わち特公昭５６−１８０１６に示されているように、構
造単位（Ａ）と（Ｂ）からあらかじめポリマーあるいは
オリゴエステルを合成しておき、これに構造単位（Ｃ）
を有するオキシ酸のアセトキシ化物を加えて反応させ、
最後に高温、高真空下に重合を進めて目的の液晶性ポリ
エステル共重合体を得ろ方法、あるいは特開昭６０−１
８５２７に示されているように、構造単位（Ａ）、（Ｂ
）から成るポリマーあるいはオリゴエステルに構造単位
（Ｃ）を有するオキシ酸を加えて反応させ、次いで無水
酢酸を加えてアセトキシ化し、最後に高温、高真空下に
重合を進めて目的の液晶性ポリエステル共重合体を得ろ
方法などが挙げられる。
本発明の液晶性ポリエステル共重合体から上に記した特
性値を満足させろフィルムを得るためには、液晶性ポリ
エステル共重合体を押し出し成形機にかけろことによっ
てフィルムまたはシートに成形し、次いで特定条件下で
２軸延伸した後熱固定することによって達成される。
性値を満足させろフィルムを得るためには、液晶性ポリ
エステル共重合体を押し出し成形機にかけろことによっ
てフィルムまたはシートに成形し、次いで特定条件下で
２軸延伸した後熱固定することによって達成される。
製膜条件について詳しく説明する。押し出し機について
は通常のものが用いられる。本発明の液晶性ポリエステ
ルの溶融温度は各構造単位の種類や組成比によって変化
するので成形温度はそれに対応して適宜選定する乙とが
好ましい。通常２００〜３００℃の範囲が選ばれろ。キ
ャスティングドラムの温度は１０〜１００℃、通常６０
〜７０℃が適当である。延伸温度としては通常５０〜１
４０℃であり、これより低温のときは延伸ムラを生じ、
これより高い温度では延伸効果が小さくなる傾向を示す
。通常７０〜９０℃が好適な温度範囲である。本発明の
液晶性ポリエステルから押し出し成形して得られろフィ
ルムは、縦方向ξζ高度に分子が配向しており、通常、
縦方向には大きい倍率で延伸させろ必要はない。横方向
には３〜１５倍、好ましくは４〜１０倍延伸されろ。延
伸倍率がこの範囲以下では弾性率が小さく、延伸倍率が
この範囲を越えるとフィルム製造中の切断が多発して好
ましくない。
は通常のものが用いられる。本発明の液晶性ポリエステ
ルの溶融温度は各構造単位の種類や組成比によって変化
するので成形温度はそれに対応して適宜選定する乙とが
好ましい。通常２００〜３００℃の範囲が選ばれろ。キ
ャスティングドラムの温度は１０〜１００℃、通常６０
〜７０℃が適当である。延伸温度としては通常５０〜１
４０℃であり、これより低温のときは延伸ムラを生じ、
これより高い温度では延伸効果が小さくなる傾向を示す
。通常７０〜９０℃が好適な温度範囲である。本発明の
液晶性ポリエステルから押し出し成形して得られろフィ
ルムは、縦方向ξζ高度に分子が配向しており、通常、
縦方向には大きい倍率で延伸させろ必要はない。横方向
には３〜１５倍、好ましくは４〜１０倍延伸されろ。延
伸倍率がこの範囲以下では弾性率が小さく、延伸倍率が
この範囲を越えるとフィルム製造中の切断が多発して好
ましくない。
延伸方法は、公知の方法でよく、例えば縦延伸は周速差
のある２個のロール間で加熱しながら延伸することがで
き、横延伸はクリップでフィルム両端を把持して加熱し
ながらクリップ列の列間隔を拡大させて延伸することが
できる。得られた２軸配向フイルムを８０〜２６０℃、
好ましくは１００〜２５０℃で１〜１００秒間熱固定す
ることによって本発明のフィルムの緒特性が達成される
。
のある２個のロール間で加熱しながら延伸することがで
き、横延伸はクリップでフィルム両端を把持して加熱し
ながらクリップ列の列間隔を拡大させて延伸することが
できる。得られた２軸配向フイルムを８０〜２６０℃、
好ましくは１００〜２５０℃で１〜１００秒間熱固定す
ることによって本発明のフィルムの緒特性が達成される
。
本発明の２軸配向フイルムはその用途によって適宜の厚
さとなし得るが、２〜３００μｍ１通常５〜１００μｍ
１フレキシブルディスクベース用途としては５０〜１０
０μｍが好ましい。
さとなし得るが、２〜３００μｍ１通常５〜１００μｍ
１フレキシブルディスクベース用途としては５０〜１０
０μｍが好ましい。
本発明におけろ特性値の測定方法は次の通りである。
（１）温度膨張率
島津製作所製熱機械分析装ｗＴＭｃ−３０型を用いて測
定した。サンプルの寸法は長さ６ ｗｍ 、幅５門であ
り、荷ｆｉ２５０ｇ／ｃｄをかけ窒素気流中で５℃／
ｍ ！ ｎの昇温速度で一２０℃から１２０℃までの昇
温を行った。第一回目の昇温は熱処理工程とし、第二回
目昇温における室温から５０℃における直線部分の勾配
から温度膨張率を計算した。
定した。サンプルの寸法は長さ６ ｗｍ 、幅５門であ
り、荷ｆｉ２５０ｇ／ｃｄをかけ窒素気流中で５℃／
ｍ ！ ｎの昇温速度で一２０℃から１２０℃までの昇
温を行った。第一回目の昇温は熱処理工程とし、第二回
目昇温における室温から５０℃における直線部分の勾配
から温度膨張率を計算した。
（２）湿度膨張率
温度膨張率測定と同じ熱機械分析装置を恒濡恒湿室に置
き下記条件の下で測定した。サンプルの寸法は長さ１０
ｍｍ 、幅５間であり荷重２５０ ｇ／ｄをかけた。
き下記条件の下で測定した。サンプルの寸法は長さ１０
ｍｍ 、幅５間であり荷重２５０ ｇ／ｄをかけた。
温度３０℃、湿度８０％ＲＨの条件で予め処理を施した
サンプルを取りつけ、温度３０℃、湿度３０％ＲＨと３
０℃、８０％ＲＨの間における寸法変化を読み取ること
によって湿度膨張率を求めた。
サンプルを取りつけ、温度３０℃、湿度３０％ＲＨと３
０℃、８０％ＲＨの間における寸法変化を読み取ること
によって湿度膨張率を求めた。
（３） 引張り弾性率は、東洋ボールドライン社テン
シロンＵＴＭ−１［−１００型測定機を使用し、引張速
度１０＋ｍ／分、チャック間距離２５鵡にておこなった
。
シロンＵＴＭ−１［−１００型測定機を使用し、引張速
度１０＋ｍ／分、チャック間距離２５鵡にておこなった
。
（４）温湿度膨張率、引張り弾性率の平面内異方性は３
０°毎に各方面の値を測定し、最大値を最小値で除した
値とした。
０°毎に各方面の値を測定し、最大値を最小値で除した
値とした。
１豊１
次に実施例により本発明を具体的に説明ずろが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
はこれらに限定されるものではない。
実施例 １
酢酸亜鉛および酢酸アンチモンを触媒に用いて合成した
ポリエチレンテレフタレート（フェノール／テトラクロ
ルエタン＝５０／４０ （ｆｆｉｉ比）の混合溶媒を用
い３０℃で０．５ｗｔ％の濃度で測定した対数粘度（＋
７１ｎｈ）が０．３７ｄｌ ／ ｇ０以下同じ）６９１
ｇｚ ｐ−アセトキシ安息香ｆｉ９７２ ｇを攪拌機の
ついた重合器中に仕込み窒素でパージした後、重合器を
２７５℃に昇温して窒素気流中で１時間攪拌した。次い
で真空度を徐々に上げてゆき０．５閤Ｈｇとし２７５℃
で４時間攪拌を続は重合を完了させた。＋７１ｎｈ＝
０．６９ｄｊ ／ ｇのネマチック液晶性ポリマーが収
率９０％で得られた。
ポリエチレンテレフタレート（フェノール／テトラクロ
ルエタン＝５０／４０ （ｆｆｉｉ比）の混合溶媒を用
い３０℃で０．５ｗｔ％の濃度で測定した対数粘度（＋
７１ｎｈ）が０．３７ｄｌ ／ ｇ０以下同じ）６９１
ｇｚ ｐ−アセトキシ安息香ｆｉ９７２ ｇを攪拌機の
ついた重合器中に仕込み窒素でパージした後、重合器を
２７５℃に昇温して窒素気流中で１時間攪拌した。次い
で真空度を徐々に上げてゆき０．５閤Ｈｇとし２７５℃
で４時間攪拌を続は重合を完了させた。＋７１ｎｈ＝
０．６９ｄｊ ／ ｇのネマチック液晶性ポリマーが収
率９０％で得られた。
このポリエステルを２７０℃で溶融押し出し成形し７０
℃に保持したドラム上で冷却して厚さ６０μｍの未延伸
フィルムを得た。このフィルムを８０℃に加熱し、横方
向に７倍、縦方向に１５倍同時２軸延伸した。得られた
延伸フィルムはクリップで把持したまま１２０℃で熱固
定した。厚さ１５μｍのフィルムが得られた。この物性
値を表１に示す。
℃に保持したドラム上で冷却して厚さ６０μｍの未延伸
フィルムを得た。このフィルムを８０℃に加熱し、横方
向に７倍、縦方向に１５倍同時２軸延伸した。得られた
延伸フィルムはクリップで把持したまま１２０℃で熱固
定した。厚さ１５μｍのフィルムが得られた。この物性
値を表１に示す。
実施例 ２
酢酸亜鉛および酢酸アンチモンを触媒に開いて合成した
ポリエチレンテレフタレート（’Ｑ １ｎｈ＝ ０゜１
３ｄｌ／ｇ） ７６８ ｇｓパラヒドロキシ安息香酸８
２８ｇを攪拌機のついた重合器中に仕込み窒素でパージ
した後、重合Ｉａを２４０℃に昇温し窒素気流中で１時
間攪拌した。次に無水酢酸９０６ｇを添加し１時間３０
分烈拌した。酢酸を留出させながら２７５℃に昇温した
後、減圧下に酢酸を完全に留出させた。減圧度を０．５
ｍｍｌ（ｇに保って５時間反応を続は重合を完了させた
。η１ｎｈ＝ ０．５５ｄｉ’ ／ ｇのネマチック液
晶性ポリマーが収率８８％で得られｔこ。
ポリエチレンテレフタレート（’Ｑ １ｎｈ＝ ０゜１
３ｄｌ／ｇ） ７６８ ｇｓパラヒドロキシ安息香酸８
２８ｇを攪拌機のついた重合器中に仕込み窒素でパージ
した後、重合Ｉａを２４０℃に昇温し窒素気流中で１時
間攪拌した。次に無水酢酸９０６ｇを添加し１時間３０
分烈拌した。酢酸を留出させながら２７５℃に昇温した
後、減圧下に酢酸を完全に留出させた。減圧度を０．５
ｍｍｌ（ｇに保って５時間反応を続は重合を完了させた
。η１ｎｈ＝ ０．５５ｄｉ’ ／ ｇのネマチック液
晶性ポリマーが収率８８％で得られｔこ。
このポリエステルを２４０℃で溶融押し出し成形し７０
℃に保持したドラム上で６邦して厚さ６０μｍの未延伸
フィルムを得た。このフィルムを８０℃に加熱し、横方
向に７倍、縦方向に１．７信置時２軸延伸した。得られ
た延伸フィルムはクリップで把持したまま１２０℃で熱
固定して、厚さ１３μｍのフィルムを得た。この物性値
を表１に示す。
℃に保持したドラム上で６邦して厚さ６０μｍの未延伸
フィルムを得た。このフィルムを８０℃に加熱し、横方
向に７倍、縦方向に１．７信置時２軸延伸した。得られ
た延伸フィルムはクリップで把持したまま１２０℃で熱
固定して、厚さ１３μｍのフィルムを得た。この物性値
を表１に示す。
比較例 １
常法により合成されたポリエチレンテレフタレ−） （
７７１ｎｈ＝ ０．６９ｄ＃ ／ ｇ ）を２９０℃で
押し出して未延伸フィルムとし、次いで８０℃で縦延伸
を、１０５℃で横延伸をほどこし最後に２２５℃で熱固
定して厚さ２０μｍの２軸延伸フイルムを得た。
７７１ｎｈ＝ ０．６９ｄ＃ ／ ｇ ）を２９０℃で
押し出して未延伸フィルムとし、次いで８０℃で縦延伸
を、１０５℃で横延伸をほどこし最後に２２５℃で熱固
定して厚さ２０μｍの２軸延伸フイルムを得た。
この物性値を表１に示す。
比較例 ２
実施例１で溶融押し出し成形した６０μｍの未延伸フィ
ルムを延伸しないで物性値を測定した結果を表１に示す
。
ルムを延伸しないで物性値を測定した結果を表１に示す
。
表１
９日 数値は押し出し方向（＊）に切り出したサンプ
ルにての測定値本発明の２軸配向液晶性ポリエステルフ
イルムは、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイル
ムに比べ弾性率が大きく、湿度膨張係数も非常に小さい
。またこれらの物性値の平面内異方性も小さく、高密度
記録体用基体フィルムとして好適である。
ルにての測定値本発明の２軸配向液晶性ポリエステルフ
イルムは、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフイル
ムに比べ弾性率が大きく、湿度膨張係数も非常に小さい
。またこれらの物性値の平面内異方性も小さく、高密度
記録体用基体フィルムとして好適である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式（Ａ）で表わされるジカルボン酸ユニット、▲数
式、化学式、表等があります▼（Ａ） （式中、Ｒ＾１の少なくとも６０モル％以上は１，４−
フェニレン基であり、４０モル％以下が１，４−フェニ
レン基以外のＣ＿６〜Ｃ＿１＿６の２価の芳香族炭化水
素基、Ｃ＿４〜Ｃ＿２＿０の２価の脂環式炭化水素基ま
たはＣ＿１〜Ｃ＿４＿０の２価の脂肪族炭化水素基を示
す。但し、芳香族炭化水素基（１，４−フェニレン基を
含めて）のベンゼン環の水素原子はハロゲン原子、Ｃ＿
１〜Ｃ＿４のアルキル基またはアルコキシ基で置換され
ていてもよい） 一般式（Ｂ）で表わされるグリコールユニット−Ｏ−Ｒ
＾２−Ｏ−・・・・・・・・・・・・（Ｂ）（式中、Ｒ
＾２はＣ＿１〜Ｃ＿２＿０の２価の脂肪族炭化水素基ま
たはＣ＿４〜Ｃ＿２＿０の２価の脂環式炭化水素基を示
す） および一般式（Ｃ）で表わされるオキシカルボン酸ユニ
ット ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｃ） （式中、Ｒ＾２の少なくとも６０モル％以上は１，４−
フェニレン基であり、４０モル％以下が１，４−フェニ
レン基以外のＣ＿５〜Ｃ＿１＿６の２価の芳香族炭化水
素基を示す。但し、芳香族炭化水素基（１，４−フェニ
レン基を含めて）のベンゼン環の水素原子はハロゲン原
子、Ｃ＿１〜Ｃ＿４のアルキル基またはアルコキシ基で
置換されていてもよい） から構成される芳香族ポリエステルからなり、弾性率が
３ＧＰａ以上、温度膨張率が５×１０＾−＾５／℃以下
、湿度膨張率が９×１０＾−＾６／％ＲＨ以下であり、
かつ弾性率の異方性が２以内、温度膨張率の異方性が２
以内、湿度膨張率の異方性が２以内である液晶性芳香族
ポリエステルフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61015780A JPS62174227A (ja) | 1986-01-29 | 1986-01-29 | 高密度磁気記録体用液晶性ポリエステルフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61015780A JPS62174227A (ja) | 1986-01-29 | 1986-01-29 | 高密度磁気記録体用液晶性ポリエステルフイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62174227A true JPS62174227A (ja) | 1987-07-31 |
Family
ID=11898329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61015780A Pending JPS62174227A (ja) | 1986-01-29 | 1986-01-29 | 高密度磁気記録体用液晶性ポリエステルフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62174227A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0317121A (ja) * | 1989-06-15 | 1991-01-25 | Nippon Oil Co Ltd | 液晶性ポリエステル |
| JPH03505230A (ja) * | 1988-06-20 | 1991-11-14 | フオスター・ミラー・インコーポレイテツド | プリント配線基板用の多軸配向熱変性ポリマー支持体 |
| JP2011104836A (ja) * | 2009-11-16 | 2011-06-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 液晶ポリエステルフィルムおよび磁気テープ |
-
1986
- 1986-01-29 JP JP61015780A patent/JPS62174227A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03505230A (ja) * | 1988-06-20 | 1991-11-14 | フオスター・ミラー・インコーポレイテツド | プリント配線基板用の多軸配向熱変性ポリマー支持体 |
| JPH0317121A (ja) * | 1989-06-15 | 1991-01-25 | Nippon Oil Co Ltd | 液晶性ポリエステル |
| JP2011104836A (ja) * | 2009-11-16 | 2011-06-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 液晶ポリエステルフィルムおよび磁気テープ |
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