JPS6217480Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6217480Y2 JPS6217480Y2 JP14684381U JP14684381U JPS6217480Y2 JP S6217480 Y2 JPS6217480 Y2 JP S6217480Y2 JP 14684381 U JP14684381 U JP 14684381U JP 14684381 U JP14684381 U JP 14684381U JP S6217480 Y2 JPS6217480 Y2 JP S6217480Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- furnace
- final product
- pattern
- target value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Landscapes
- Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
- Control Of Heat Treatment Processes (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、材料その他の物をあるパターンで加
熱する連続炉温制御システムに関する。
熱する連続炉温制御システムに関する。
例えば、鉄を焼入れする場合、ある温度まで加
熱させておいて急冷する。このような鉄の焼入れ
を研究として行う場合には、１つの炉の中に鉄を
入れておいて、炉を一定の温度パターンで変化さ
せればよい。しかしながら、焼入れした鉄を商品
として多量に販売するような場合は、全てを１つ
の炉でまかなうことは効率が悪い。このため、そ
れぞれ一定の温度に維持される複数の炉を組合
せ、材料はこれら各炉の中を順次通過していく間
に必要な加熱を受ける所謂連続炉が用いられる。
熱させておいて急冷する。このような鉄の焼入れ
を研究として行う場合には、１つの炉の中に鉄を
入れておいて、炉を一定の温度パターンで変化さ
せればよい。しかしながら、焼入れした鉄を商品
として多量に販売するような場合は、全てを１つ
の炉でまかなうことは効率が悪い。このため、そ
れぞれ一定の温度に維持される複数の炉を組合
せ、材料はこれら各炉の中を順次通過していく間
に必要な加熱を受ける所謂連続炉が用いられる。
第１図は、従来のこの種の装置の一構成例を示
す図である。同図において、R1〜Ｒo（ｎは整
数）は炉である。B1〜Ｂoは、各炉ごとに設けら
れたバーナである。V1〜Ｖoは、各バーナに燃料
を供給する調節弁である。T1〜Ｔoは、各炉の温
度を検出する温度センサである。該温度センサと
しては、例えば熱電対が用いられる。C1〜Ｃo
は、各温度センサの出力を受けて各調節弁の開度
を調節する調節計である。Ｌは材料を運ぱんする
コンベアである。Ａは原材料、A′は原材料Ａが
連続炉で加工されてできた最終生成物である。原
材料の種類は、如何なるものであつてもよいが、
例えば鉄やガラス等が用いられる。このように構
成された装置の動作を概説すれば、以下のとおり
である。
す図である。同図において、R1〜Ｒo（ｎは整
数）は炉である。B1〜Ｂoは、各炉ごとに設けら
れたバーナである。V1〜Ｖoは、各バーナに燃料
を供給する調節弁である。T1〜Ｔoは、各炉の温
度を検出する温度センサである。該温度センサと
しては、例えば熱電対が用いられる。C1〜Ｃo
は、各温度センサの出力を受けて各調節弁の開度
を調節する調節計である。Ｌは材料を運ぱんする
コンベアである。Ａは原材料、A′は原材料Ａが
連続炉で加工されてできた最終生成物である。原
材料の種類は、如何なるものであつてもよいが、
例えば鉄やガラス等が用いられる。このように構
成された装置の動作を概説すれば、以下のとおり
である。
図に示すようなプラトンでは、最終生成物
A′の温度を一定に保つことの他に、最終生成物
の品質を保持するため温度の上昇及び下降パター
ンを希望する勾配で制御する必要がある。このた
め、各炉には予め定められた温度が設定される。
温度設定は、各調節計Ｃ1〜Ｃoごとに行われる。
第１番目の炉の入口Ｉから入力した原材料Ａは、
コンベアＬで順次、次の炉に送られ最終炉Rnの
出口I′から送り出される。この間、各炉では当該
炉によつて定つた温度で加熱される。このように
して、原材料は第１番目の炉から第ｎ番目の最終
炉を通過するまでの間に、ある温度パターンで加
熱される。
A′の温度を一定に保つことの他に、最終生成物
の品質を保持するため温度の上昇及び下降パター
ンを希望する勾配で制御する必要がある。このた
め、各炉には予め定められた温度が設定される。
温度設定は、各調節計Ｃ1〜Ｃoごとに行われる。
第１番目の炉の入口Ｉから入力した原材料Ａは、
コンベアＬで順次、次の炉に送られ最終炉Rnの
出口I′から送り出される。この間、各炉では当該
炉によつて定つた温度で加熱される。このように
して、原材料は第１番目の炉から第ｎ番目の最終
炉を通過するまでの間に、ある温度パターンで加
熱される。
この種の装置では、最終生成物A′の温度が目
標値からずれた場合、操作者は手動で適当にC1
〜Ｃoのうちの任意の調節計の設定温度を変える
必要がある。このような方法では、最終生成物の
温度が目標値と一致しても、温度パターンが変更
されてしまつているので、均一な品質のものを生
成せしめることが困難になる。
標値からずれた場合、操作者は手動で適当にC1
〜Ｃoのうちの任意の調節計の設定温度を変える
必要がある。このような方法では、最終生成物の
温度が目標値と一致しても、温度パターンが変更
されてしまつているので、均一な品質のものを生
成せしめることが困難になる。
本考案は、このような点に鑑みてなされたもの
で、最終生成物の温度が目標値からずれたとき、
全ての各調節計の温度設定値をある一定の比率だ
け変化させるようにして、温度パターンをくずさ
ずに最終生成物温度を目標値に一致せしめるよう
にすると共に、プラントの各炉の時間遅れを考慮
して、各炉用の温度調節計の温度設定比率を時間
的に異ならしめて変化させるようにして均一な品
質の維持を図つた連続炉温制御システムを実現し
たものである。以下、図面を参照して本考案を詳
細に説明する。
で、最終生成物の温度が目標値からずれたとき、
全ての各調節計の温度設定値をある一定の比率だ
け変化させるようにして、温度パターンをくずさ
ずに最終生成物温度を目標値に一致せしめるよう
にすると共に、プラントの各炉の時間遅れを考慮
して、各炉用の温度調節計の温度設定比率を時間
的に異ならしめて変化させるようにして均一な品
質の維持を図つた連続炉温制御システムを実現し
たものである。以下、図面を参照して本考案を詳
細に説明する。
第２図は、本考案の一実施例を示す構成ブロツ
ク図である。第１図と同一のものは同一の番号を
付して示す。同図において、S1〜Ｓoは各炉の温
度を設定する炉温設定器である。Tsは、最終生
成物A′の温度を検出する温度センサである。CS
は、該温度センサの出力を受けて、最終生成物の
温度が目標値に一致するように各炉温設定器の設
定値をある比率だけ変化させると共に、各炉温設
定器の設定比率を時間的に異ならしめて変化させ
る制御部である。M1〜Ｍoは、その一方の入力に
炉温設定器の出力を、他方の入力にそれぞれスイ
ツチSW1〜SWoを介して制御部CSの出力を受け
る掛算器である。各掛算器出力は、それぞれ対応
する温度調節計に印加される。このように構成さ
れた装置の動作を以下に説明する。
ク図である。第１図と同一のものは同一の番号を
付して示す。同図において、S1〜Ｓoは各炉の温
度を設定する炉温設定器である。Tsは、最終生
成物A′の温度を検出する温度センサである。CS
は、該温度センサの出力を受けて、最終生成物の
温度が目標値に一致するように各炉温設定器の設
定値をある比率だけ変化させると共に、各炉温設
定器の設定比率を時間的に異ならしめて変化させ
る制御部である。M1〜Ｍoは、その一方の入力に
炉温設定器の出力を、他方の入力にそれぞれスイ
ツチSW1〜SWoを介して制御部CSの出力を受け
る掛算器である。各掛算器出力は、それぞれ対応
する温度調節計に印加される。このように構成さ
れた装置の動作を以下に説明する。
各炉温設定器S1〜Ｓoには、最終生成物A′の温
度を目標値SVFに一致させるための加熱パター
ンが設定される。各設定器ごとの設定値をそれぞ
れSW1〜SWoとする。第３図は、温度の加熱パタ
ーンの一例を示す図である。同図において、横軸
に炉、縦軸に各炉に対する設定温度を示す。即
ち、図に示すようなパターンで原材料を加熱する
ことにより、最終生成物A′の温度を目標値SVF
にすることができかつ品質も一定のものを得るこ
とができる。ところが、実際にはコンベアＬの移
動速度、炉外温度、炉入口の材料温度等の変動が
原因で、最終生成物A′の温度が目標値SVFと一
致しなくなる場合が生じる。
度を目標値SVFに一致させるための加熱パター
ンが設定される。各設定器ごとの設定値をそれぞ
れSW1〜SWoとする。第３図は、温度の加熱パタ
ーンの一例を示す図である。同図において、横軸
に炉、縦軸に各炉に対する設定温度を示す。即
ち、図に示すようなパターンで原材料を加熱する
ことにより、最終生成物A′の温度を目標値SVF
にすることができかつ品質も一定のものを得るこ
とができる。ところが、実際にはコンベアＬの移
動速度、炉外温度、炉入口の材料温度等の変動が
原因で、最終生成物A′の温度が目標値SVFと一
致しなくなる場合が生じる。
温度センサTsは、最終生成物A′の温度を検出
して制御部CSに送る。制御部CSは、最終生成物
A′の温度に応じた補正信号MVFを出力する。掛
算器M1〜Ｍoは、その一方の入力に補正信号MVF
を、他方の入力に炉温設定器S1〜Ｓoの出力を受
ける。第ｉ番目の掛算器Ｍiの出力SVCiは、次式
で与えられる。
して制御部CSに送る。制御部CSは、最終生成物
A′の温度に応じた補正信号MVFを出力する。掛
算器M1〜Ｍoは、その一方の入力に補正信号MVF
を、他方の入力に炉温設定器S1〜Ｓoの出力を受
ける。第ｉ番目の掛算器Ｍiの出力SVCiは、次式
で与えられる。
SVCiＳＶｉｘＭＶＦ／５０ (1)
最終生成物A′の温度が目標値SVFと一致した
場合、制御部CSはMVF＝50を出力する。これに
より、SVCi＝SViとなり炉温設定器の設定値がそ
のまま調節計Ｃiに印加される。
場合、制御部CSはMVF＝50を出力する。これに
より、SVCi＝SViとなり炉温設定器の設定値がそ
のまま調節計Ｃiに印加される。
一方、最終生成物A′の温度が目標値SVFと一
致しない場合、制御部CSは生成物A′の温度に応
じた値のMVFを出力する。掛算器Ｍiは、炉温設
定器Ｓiの設定値SViに（MVF／50）を乗ずる。
即ち、このときには、各炉温設定器の設定値に一
率に（MVF／50）が乗ぜられることになる。こ
れにより、炉温はSViからSVCiに変更される。第
３図において、実線f1は変更前の理想状態の温度
パターン、破線f2は変更後の温度パターンを示
す。図に示すように、全ての炉に同一の比率が乗
ぜられる結果、曲線f2はf1と略同一のパターンを
示す。従つて、最終生成物A′の品質は、曲線f1の
パターンで生成されたものと変わりのない一定の
品質となる。
致しない場合、制御部CSは生成物A′の温度に応
じた値のMVFを出力する。掛算器Ｍiは、炉温設
定器Ｓiの設定値SViに（MVF／50）を乗ずる。
即ち、このときには、各炉温設定器の設定値に一
率に（MVF／50）が乗ぜられることになる。こ
れにより、炉温はSViからSVCiに変更される。第
３図において、実線f1は変更前の理想状態の温度
パターン、破線f2は変更後の温度パターンを示
す。図に示すように、全ての炉に同一の比率が乗
ぜられる結果、曲線f2はf1と略同一のパターンを
示す。従つて、最終生成物A′の品質は、曲線f1の
パターンで生成されたものと変わりのない一定の
品質となる。
ところで、このようなシステム構成の場合、各
炉の全ての炉温が最終生成物温度と関係するの
で、制御部CSは無駄時間制御に適した方法とし
て間欠積分方式の制御を行う。即ち、材料が連続
炉の入口から出口まで運送される時間（Ｔ）ご
とに制御を行い、パターン修正を行う。更に、制
御部CSは、最終生成物A′の温度が目標値SVFと
ずれたとき、各炉温の設定比率を一斉に変えるの
ではなく、スイツチSW1〜SWoをコンベア速度に
応じて閉じていく。このように、各炉温設定値を
時間を異ならしめて変化させることにより、温度
パターンの変更の影響は今回材料のみにしか影響
を与えないようにすることができる。従つて、生
成物の品質管理がしやすくなる。
炉の全ての炉温が最終生成物温度と関係するの
で、制御部CSは無駄時間制御に適した方法とし
て間欠積分方式の制御を行う。即ち、材料が連続
炉の入口から出口まで運送される時間（Ｔ）ご
とに制御を行い、パターン修正を行う。更に、制
御部CSは、最終生成物A′の温度が目標値SVFと
ずれたとき、各炉温の設定比率を一斉に変えるの
ではなく、スイツチSW1〜SWoをコンベア速度に
応じて閉じていく。このように、各炉温設定値を
時間を異ならしめて変化させることにより、温度
パターンの変更の影響は今回材料のみにしか影響
を与えないようにすることができる。従つて、生
成物の品質管理がしやすくなる。
このように、本考案によれば、各炉の負荷の割
合を一定に保持し、希望した加熱パターンを制御
部CSと掛算器Ｍiにより修正することとしている
ので、各炉の負荷の比率は補正の大小にかかわら
ず常に一定比率を保持することができる。また、
周期Ｔごとにパターンを修正するが、前回の制
御結果により今回の修正をスイツチSW1〜SWo
を、コンベア速度に応じて閉じていくことにより
行うので、修正結果は今回生成物にのみ影響を与
えるようにすることができる。
合を一定に保持し、希望した加熱パターンを制御
部CSと掛算器Ｍiにより修正することとしている
ので、各炉の負荷の比率は補正の大小にかかわら
ず常に一定比率を保持することができる。また、
周期Ｔごとにパターンを修正するが、前回の制
御結果により今回の修正をスイツチSW1〜SWo
を、コンベア速度に応じて閉じていくことにより
行うので、修正結果は今回生成物にのみ影響を与
えるようにすることができる。
以上詳細に説明したように、本考案によれば、
最終生成物の温度が目標値からずれたとき、全て
の各調節計の温度設定値をある一定の比率だけ変
化させるようにして、温度パターンをくずさずに
最終生成物温度を目標値に一致せしめるようにす
ると共に、プラントの各炉の時間遅れを考慮して
各炉用の調節計の温度設定比率を時間的に異なら
しめて変化させるようにして均一な品質の維持を
図つた連続炉温制御システムを実現することがで
きる。
最終生成物の温度が目標値からずれたとき、全て
の各調節計の温度設定値をある一定の比率だけ変
化させるようにして、温度パターンをくずさずに
最終生成物温度を目標値に一致せしめるようにす
ると共に、プラントの各炉の時間遅れを考慮して
各炉用の調節計の温度設定比率を時間的に異なら
しめて変化させるようにして均一な品質の維持を
図つた連続炉温制御システムを実現することがで
きる。
第１図は、従来の連続炉温制御システムの一構
成例を示す図、第２図は本考案の一実施例を示す
構成ブロツク図である。第３図は、温度の加熱パ
ターンの一例を示す図である。 R1〜Ｒo…炉、B1〜Ｂo…バーナ、T1〜Ｔo…温
度センサ、C1〜Ｃo…調節計、V1〜Ｖo…調節弁、
Ｌ…コンベア、Ａ…原材料、A′…最終生成物
質、S1〜Ｓo…炉温設定器、M1〜Ｍo…掛算器、
SW1〜SWo…スイツチ、Ts…温度センサ、CS…
制御部。
成例を示す図、第２図は本考案の一実施例を示す
構成ブロツク図である。第３図は、温度の加熱パ
ターンの一例を示す図である。 R1〜Ｒo…炉、B1〜Ｂo…バーナ、T1〜Ｔo…温
度センサ、C1〜Ｃo…調節計、V1〜Ｖo…調節弁、
Ｌ…コンベア、Ａ…原材料、A′…最終生成物
質、S1〜Ｓo…炉温設定器、M1〜Ｍo…掛算器、
SW1〜SWo…スイツチ、Ts…温度センサ、CS…
制御部。
Claims (1)
- 複数の炉より構成される連続炉温制御システム
において、各炉に対してそれぞれ異なつた炉温を
設定し、最終炉を通過した生成物の温度に応じて
前記各炉の全ての炉温設定値をある一定の比率だ
け変化させると共に、各炉の比率をそれぞれ時間
を異ならしめて変化させるようにしたことを特徴
とする連続炉温制御システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14684381U JPS5856069U (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 連続炉温制御システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14684381U JPS5856069U (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 連続炉温制御システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5856069U JPS5856069U (ja) | 1983-04-15 |
| JPS6217480Y2 true JPS6217480Y2 (ja) | 1987-05-06 |
Family
ID=29939726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14684381U Granted JPS5856069U (ja) | 1981-10-02 | 1981-10-02 | 連続炉温制御システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5856069U (ja) |
-
1981
- 1981-10-02 JP JP14684381U patent/JPS5856069U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5856069U (ja) | 1983-04-15 |
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