JPS62182187A - 集光加熱装置 - Google Patents

集光加熱装置

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Publication number
JPS62182187A
JPS62182187A JP2313186A JP2313186A JPS62182187A JP S62182187 A JPS62182187 A JP S62182187A JP 2313186 A JP2313186 A JP 2313186A JP 2313186 A JP2313186 A JP 2313186A JP S62182187 A JPS62182187 A JP S62182187A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heated
heating device
light
molten zone
observation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2313186A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Yokota
孝夫 横田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP2313186A priority Critical patent/JPS62182187A/ja
Publication of JPS62182187A publication Critical patent/JPS62182187A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
    • C30B13/16Heating of the molten zone
    • C30B13/22Heating of the molten zone by irradiation or electric discharge

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 :′産業上の利用分野] 本発明は、結晶成長等に利用される集光加熱装置に関す
るらので、特に集光加熱装置内部をfil察する窓の構
造を改良した集光加熱装置に関するものである。
〔関東の技術] 集光加熱装置は、回転楕円面から成る反射鏡の第1の焦
点部分に光源を置き、第2の焦点部分に被加熱物を置い
てその光を集中し、被加熱物を加熱するものである。こ
の装置には、反射鏡が1個の回転楕円面のみで構成され
る単楕円型、反射鏡が2個の回転楕円面の組合わせで構
成され、第2の焦点を共有する構造の双楕円型、更に反
射鏡が3個以上の回転楕円面の組合わせで構成され、第
2の焦点を共有する構造の条構円型がある。
次に、従来の集光加熱装置の構造を双楕円型集光加熱装
置を例にして、図面を参照して詳細に説明する。第2図
は、集光加熱装置の従来例のうち、双楕円型の集光加熱
装置の縦断面図である。図において、201が反射鏡、
202が被加熱物(上)、203が被加熱物(下)であ
る。これらの被加熱物はそれぞれ、チャック(上)20
4、チャ・ツク(下) 205によってシャフト(上)
206、シャフト(下)207に取り付けられる。これ
らの被加熱物を加熱して溶融させると、被加熱物(上)
202と被加熱物(下)203との間即ち集光加熱装置
の第2の焦点部分に溶融帯208が形成される。また2
09は、被加熱物を外部から遮断し、被加熱物の周囲に
不活性カスなどの雰囲気ガスを満たしたり真空にするた
め、更に被加熱物から発生するガスから反射鏡の鏡面を
保護するための炉心管である、210は、シールのため
のOリングである。211は、溶融帯208を観察する
ため集光加熱装置の一部に開けた溶融帯観察窓であり、
l容融帯208から発する光は、溶融帯観察窓211を
通り、シール板212を透過し、直後にあるレンズ21
3によってスクリーン214に結像され溶融帯208の
偶が投影される。また、215は集光加熱装置内部を直
視で観察するため、集光加熱装置の一部に開けられた直
視観察窓で、透明なシール板216を通して、集光加熱
装置の内部を観察する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしなから、第2図に示す従来の集光加熱装置におい
て、スクリーン214に投影されている像は被写体自身
が光輝度で発光している光で写るのであるから2.スク
リーン214に投影される(象を貼ると加熱されて高温
になり光を発している溶融帯208は良く吃ることがで
きるが、集光加熱装置内部で加熱されて高温になってい
るのは、被加熱物の掻く一部であるため、低温で光を発
しない被加熱物の取り付は部や炉心管は見ることができ
ない。また、直視観察窓215には、レンズらスクリー
ンら設置していないので、直視観察窓215を通して溶
融帯208とともに被加熱物の取り付は部や炉心管を直
接見ることができるが、高根となっている溶融帯208
から発する強烈な光が妨げとなって、被加熱物の炉り付
は部や炉心管を観察することは極めて困難で、強烈な光
を直視してしまうと、目を損傷する恐れもあった。更に
、被加熱物の取り付は部や炉心管を観察することが困難
であるため、被加熱物の取り付は部や炉心管に損傷や欠
損を生じているにもがかわらずそれを見逃してしまい、
欠損片によるOリンク210の損傷を事前に予測できず
加熱炉の密閉度を悪化させてしまうといった事故の発生
の危険があった、本発明の目的は、このような従来の欠
点を除去し、溶融帯から発する強烈な光の妨げを受けず
に、集光加熱装置内部の被加熱物の取り付は部や炉心管
を観察できる集光加熱装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は、集光加熱装置内部の被加熱物の取り付は部や
炉心管を観察するため、集光加熱装置の内部を外から直
接観察する直視観察窓を、集光加熱装置の第2の焦点部
分から離れた位置へ向けて開けたことを特徴とした集光
加熱装置である。
し実施例〕 以下、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。第1図は本発明の一実施例を示す集光加熱装置
の縦断面図である。図において、101が反射鏡、10
2が被加熱物(上)、103が被加熱物(下)である。
これらの被加熱物はそれぞれ、チャック〈上)104、
チャ・・Iり(下)105によってシャフト(上)10
6、シャツ1〜(下)107に取り付けられるにれらの
被加熱物を加熱して溶融させると、被加熱物(−ヒ)]
02と被加熱′PIJ(下) 103との間に溶融帯1
08が形成される。また109は、被加熱物を外部から
遮断し肢加F!!、物の周囲に不活性ガスなどの雰囲気
ガスを満たしたり真空にするため、更に被加熱物から発
生ずるガスから反射鏡の鏡面を保護するための炉心管で
ある2110は、シールのための0リングである、il
lは、溶融帯108を観察するための集光加熱装置の一
部に開けた溶融帯観察窓であり、溶融帯108かち発す
る光は、溶融帯rm察窓]11を通り、透明なシール板
112を透過し、直後にあるレンズ113によってスク
リ−;i14に結像される溶融帯の像が投影される。
また、115は集光加熱装置内部の被加熱物の取り1;
1け部や炉心管を直視により観察するため、集光加熱装
置の第2の焦点部分から術れた位置へ向けて開けた直睨
観察窓で、透明なシール板116を通して、高温とな−
・ている溶融帯から発する強烈な光の影響を受けずに、
集光加熱装置の内部を観察て′きる。
なお、ここでは双隋円型の集光加熱装置について説明し
てきたが、単槽円型、7)るいは条構円型の集光加熱′
A1次についてら本発明は同揉に実施できる、 i発明の効果゛1 本発明による集光加熱装置では、集光加熱装置内部を観
察する窓が集光加熱装置の第2の焦点部分に向いていな
いなめ、高温となっている溶融帯から発する強烈な光を
直視することなく、集光加熱装置内部内被加熱物の取り
付は部や炉心管f:観察でき、炉心管の破損の有無など
を確認することが容易になった。また、高温となって強
烈な光を発している溶融帯を直視することがないので、
目を損傷することらなく、更に被加熱物の取り付は部や
炉心管に損傷や欠損を生じていれば、その発見が容すに
なるので、被加熱物のかけらや炉心管のかけらが〔゛)
リングを損傷させる事故を未然に子測防井でき、加熱炉
の密閉度の悪化を防止できる、
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例の4断面図で、第2図は従
来例の釘1”(断面図である 図において、101及び201は反射鏡、102及び2
02はン皮加熱物(上)、]03及び203は被加熱物
(下)、108及び208は溶融帯、】15及び215
は直視観察窓である。 2/θ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 回転楕円面鏡の第1の焦点部分に光源を設け、前記回転
    楕円面鏡の第2の焦点部分にその光を集中して被加熱物
    を加熱する集光加熱装置において、前記集光加熱装置の
    内部を外から直接観察する直視観察窓を、前記第2の焦
    点部分から離れた位置へ向けて開けたことを特徴とする
    集光加熱装置。
JP2313186A 1986-02-04 1986-02-04 集光加熱装置 Pending JPS62182187A (ja)

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JP2313186A JPS62182187A (ja) 1986-02-04 1986-02-04 集光加熱装置

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JP2313186A JPS62182187A (ja) 1986-02-04 1986-02-04 集光加熱装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62182187A true JPS62182187A (ja) 1987-08-10

Family

ID=12101973

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JP2313186A Pending JPS62182187A (ja) 1986-02-04 1986-02-04 集光加熱装置

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60221387A (ja) * 1984-04-18 1985-11-06 Seiko Epson Corp 赤外線加熱単結晶製造装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60221387A (ja) * 1984-04-18 1985-11-06 Seiko Epson Corp 赤外線加熱単結晶製造装置

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