JPS6218501A - 光学用成形品 - Google Patents

光学用成形品

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JPS6218501A
JPS6218501A JP15688985A JP15688985A JPS6218501A JP S6218501 A JPS6218501 A JP S6218501A JP 15688985 A JP15688985 A JP 15688985A JP 15688985 A JP15688985 A JP 15688985A JP S6218501 A JPS6218501 A JP S6218501A
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fluorinated
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bis
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Toshimasa Tokuda
俊正 徳田
Hideyuki Ichihana
一花 英行
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Teijin Ltd
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Teijin Chemicals Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、フッ素化ポリカーボネートよりなる耐熱性1
表面硬度、および成形性等の優れた光学用成形品に関す
る。
〔従来技術〕
最近、ポリカーボネートは、その透明性。
耐熱性などの特徴を生かして、各種レンズ類、フレネル
レンズ、ランプカバー、OPC支持フィルム、各種情報
記碌材基板等の用途に使用されるようになったが、ポリ
カーボネート−Aよりなる成形品では、用途によっては
、なお耐熱性2表面硬度等の点で充分とは言えない分野
が少からず在る。
本発明者は、この問題を解決するべく、鋭意検討した結
果、フッ素化ポリカーボネートが適当な素材となり得る
ことを見出して、本発明に到達したものである。
フッ素化ポリカーボネートの中で、2.2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)  LLI@3゜3.3−へキサ
クロロプロパンのポリカーボネートおよびその他のビス
(4−ヒドロキシフェニル)クーロフルカンのポリカー
ボネートは既に知られている(ソ連特許第132403
号、Wo 82102402号)。しかしながら、これ
らの文献には、この重合体に関しての耐熱性や表面硬度
の記載は全くなく、ましてや光学的成形品に適すること
は、全く知られていなかった。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、ポリカーボネー)−Aよりも優れた耐
熱性および表面硬度を有し、かつ、光学特性の優れた光
学用成形品を提供することにある。
〔発明の構成〕
本発明は、一般式 で表わされる繰返し単位をもつ、比粘度0.160〜0
.230の範囲の弗素化ポリカーボネート(但し、R1
又はR3は弗素化アルキル基を含むアルキル基又は水素
)である。
本発明に使用されるフッ素化ポリカーボネートは、次の
一般式 で表わされるフッ素化ビスフェノールと、ホ3ゲン、ジ
フェニルカーボネート等のカーボネート前駆体との反応
によって、容易に製造することができる。フッ素化ビス
フェノールの例としては、 1.1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2゜2.2
− )リクpロエタン、2,2−ビス(4−ヒドρキシ
フエニル) −1,111−)リクロロプロパン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシフェニル’) −1,1,1
13,3,3−ヘキサクロープルパン、1,1−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)−パークロロブタン、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフェニル) −2,2−ジクp
ロエタンなどが挙げられるが、特に2.2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル) −1,1,1,3,3,3′−
へキサフルロプロパンが好ましく使用できる。さらに、
本発明の目的を損なわない範囲内で、フッ素化ビスフェ
ノールの一部をビス(4−ヒドロキシフェニル)アルカ
ン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロアルカン9
ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−
ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(4−ヒドロキシフ
ェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)
スルホン。
2.2−ビス(2,6−シメチルー4−ヒドロキシフェ
ニル)  1 * 1 t 1 s 3 + 3 + 
3−ヘキサクロロブーパン等の二価フェノール類で置き
換えてもよい。
本発明で使用されるフッ素化ポリカーボネートは、20
℃で測定したポリマー濃度0.7?/100− の塩化
メチレン溶液の比粘度が0.160〜0.230の範囲
内にあるものが好ましい。比粘度が0.160未満では
得られる成形品の強度が実用上不充分であり、また0、
230を越えるときは、成形が困難になって、成形歪が
大きくなるために、光学用成形品としては好ましくない
。前記の好ましい比粘度を有するフッ素化ポリカーボネ
ートを製造するためには、その重合反応の際にフェノー
ルsp  t−ブチルフェノールの如き末端停止剤を用
いることが望ましい。
従来、光学用成形品に適するポリカーボネート−Aは、
平均分子が大体13000〜18000のものである。
これを20℃で測定したポリマー濃度0.7?/100
m1の塩化メチレン溶液の比粘度に換算すると、0.2
46〜0.332になる。しかるに、本発明で使用する
フッ素化ポリカーボネートの好ましい比粘度の範囲は0
.160〜0.230である。このように、主鎖骨格が
同じで、単忙側鎖のメチルの水素原子がフッ素原子に変
ったのみであるに拘らず、好ましい粘度範囲が前記のよ
うに異なることは、全く予懇し得ざる驚くべきことであ
る。
本発明の光学用成形品の成形に際しては、フッ素化ポリ
カーボネートに安定′剤を添加して使用することが望ま
しい。か(る安定剤としては、例えば有機ホスファイト
、有機ホスホナイト、有機ホスフィナイト、有機ホスフ
ィンが挙げられるが有機ホスファイトが好ましく使用で
きる。これらの安定剤の具体例としては、トリブチルホ
スファイト、トリステアリルホスファイト、トリフェニ
ルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイ
ト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスフ
ァイト、ジフェニルベンゼンホスホナイト、テトラキス
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナイト、トリフェニルホスフィン、メ
チルフェニル−p−メトキシフェニルホスフィy等を挙
げることかできる。か−る安定剤の好ましい配合割合は
、フッ素化ポリカーボネート100重量部当たり0.0
001〜0.1重量部である。
0.0001重量部未満では安定化効果を発現しないし
、0.1重量部を超えるときは、効果は飽和するのみな
らず、シルバーの発生などの不利益をもたらすので好ま
しくない。
更に、本発明の光学用成形品の成形に際しては、フッ素
化ポリカーボネートに、高級脂肪酸と、1価又は多価ア
ルコールのエステルとを配合して使用することが望まし
い。これ−らのエステルの例としては、バルミチルステ
アレート、ステ7リルステアレート、密ろう。
モンタン酸ワックス、エチレングリコールモノステアレ
ート、グリセリンモノステアレート、グリセリンジステ
アレート、グリセリントリステアレート、ペンタエリス
リトールモノステアレート等を挙げることができる。か
かるエステル類の好ましい配合割合は、フッ素化ポリカ
ーボネート100重量部当たり、0.01〜0.2重置
部である。0.01重量部未満では、効果は殆んどみら
れず、0.2重量部を超えると會はシルバーの発生など
の不利益をもたらすので好ましくない。これらのエステ
ル類は離型剤として有効であるばかりでなく、特に部分
エステルは、前記の安定剤との相互作用によって、成形
品の色相を改善し、更に部分エステルは、成形金聾の腐
食防止及び、成形品に付けられた金属、金属化合物。
色素などを含む薄膜や、表面硬度の向上、防眩、防曇な
どを目的とする薄膜の変質防止の効果を奏する。
前記の安定剤及び/又はエステル類は公知の手段によっ
て、フッ素化ポリカーボネートに容易に配合することが
できる。例えば、タンブラ−1■凰プレンダー、スーパ
ーミキサー等によって、フッ素化ポリカーボネートの粉
末又はペレットと安定剤及び/又はエステル類とを簡単
に混合することができる。また、フッ素化ポリカーボネ
ートの溶液に、これらの添加剤を添加混合し、次いで溶
媒を除去してもよい。更に、フッ素化ポリカーボネート
の粉末又はペレットとこれらの添加剤を連続的に押出機
に投入してもよい。
前記の安定剤及び/又はエステル続のほかに例えば、フ
ェノール系の酸化防止剤(0,01〜0.7重量%)、
リン酸トリメチル、ジエチルベンゼンホスホネート、エ
チルジエチルホスホノアセテート、エチレンビス(ジフ
ェニルホスフィネート) * 3s4*s+6−ジペン
シー1.2−オキサホスファン−2−オキシド等の5W
Jのリン系化合物(0,001〜0.5重量%)。
ベンゾトリアゾール系、7セトフエノン系。
サリチル酸エステル系等の紫外線吸収剤(0,1〜0.
7重量%)、染料、難燃剤、光拡散剤等を必要に応じて
配合することができる。
本発明の光学用成形品は、射出成形、射出・圧縮成形、
圧縮成形など公知の方法によって成形できる。例えば、
射出成形においては、樹脂温度300〜400℃、金型
温度70〜130℃が好ましい条件である。
本発明で使用するフッ素化ポリカーボネートは前記の樹
脂温度の範囲内では、充分な流動性を有するので、フレ
ネルレンズや各糧情報記録材基板のような薄肉で、かつ
、表面に微細な凸凹のある成形品の金型でも、容易かつ
完全に充填することができ、内部に成形歪を残すことが
ない。
かくして得られる成形品は、金型を正確九転写しており
、しかも内部に成形に起因する光学的歪を実質的に有し
ないし、その表面硬度は、ポリカーポネー)−Aの成形
品よりも高い。又、使用するフッ素化ポリカーボネート
の熱変形温度は約140〜145℃で、ポリカーポネー
)−Aより約15〜20℃高いので、成形品の耐熱性も
優れたものである。
〔発明の効果〕
本発明の光学用成形品は、ポリカーボネー)−Aよりも
優れた耐熱性および表面硬度を有し、金型な正確に転写
し、かつ、光学的歪を実質的に有さないので、従来、使
用困難とされていた高温雰囲気でも充分に耐え、又、表
面硬度が高いので、それ自体の取扱い上、或は、二次加
工等の場合に有利である。
〔実施例〕
以下に実施例を示して、本発明を詳述する。
また、試験、評価の方法は、下記のとおりである。
熱変形温度(HDT): JISK7207A法に従って測定した。測定値(C)
が高い糧、耐熱性が良い。
!ルトフp−レー)(MFR): JISK7210 に準じ、測定温度280℃。
荷重2.16 K9fで測定した。測定値(2710分
)が大きい穆、流れ性が良い。
硬rl : 2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−111,1,3,3,3−へキサクロロプロパンのみ
から得たポリカーボネートで成形したレンズの端で各種
レンズの中央部を引掻いて傷のつき易さを、次の3段階
で評価した。
02強く引掻いても傷がつかない。
△:強く引掻くと傷がつく。
×:引掻くと明かに抵抗感があり、容易に傷がつく。
複屈折: 厚さ1.2m、直径155mmの円板を成形し、カール
ツアイス社製偏光顕微鏡にニコルプリズムのコンペンサ
ーを取りつけ、中心か、ら45fIIII濁辺部に向か
って測定し、nmで示した。数値が小さい程、複屈折が
小さく、光学歪が少ないことを表わす。
実施例1〜5 ホスゲン吹込管、温度計、攪拌機つきの33tステンレ
ス製反応釜忙、NaOH1,595Kgと水19.15
4 K9を入れて溶解しついで2,2−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)  11181131313−ヘキサ
クRRプロパン4,386 Kfを溶解した。ついで、
塩化メチレン8.8tを加えて攪拌し乍ら、25℃で、
ホスゲン1.51’4を約40分かけて吹き込んだ。次
に少昔のp −t−ブチルフェノールと触媒量のトリエ
+ルアミンを加えて、約60分間攪拌を続けて、重縮合
反応を完結した。
反応終了後、壇化メチレン喝を塩酸にて酸性とし、無機
イオンが殆んどなくなる迄、水洗した後、塩化メチレン
を留去して、ポリマーを回収した。得られたポリマーの
0.7fを増化メチレン100mgK溶解した溶液の2
0℃における比粘度は0.206であった。ポリマーを
120℃。
6時間乾燥後、添加剤を表1の割合で混合し、30mφ
押出機を用いて、260℃、で押出し、カーターで切断
し、ペレット化した。これらを名機裂作所AM−100
型射出成形機により、樹脂温度360℃で、50餌φ、
中心厚さ7mの凸レンズ、直径155簡厚さ1.2瓢の
円板、及び127 m X 12.7 Ms X、6.
4簡の試験片に成形した。
それらについて評価を行なった結果を表1に示す。
実施例6 2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1゜1.1
 + 3 + 3 + 3−へキサクロロプロパン4,
386〜の代りに1.1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)−2,2,2−)リクロロエタン3.4761’9
を用いたほかは、実施例2と同、nに操作して得た結果
を表1に示す。
比較例1〜2 比粘度0.206の代りに表1記載のフッ素化ポリカー
ボネートを用いたほかは、実施例1と同様に操作して得
た結果を表1に示す。
比粘度が低過ぎるものは成形できず、逆に高過ぎるもの
は、流動性が悪いため成形板に著しい光学歪を生じてい
る。
比較例3 フッ素ポリカーボネートの代りに、比粘度0.310の
ビスフェノールA型ポリカーボネートを使用して、実施
例1と同様に操作して得た結果を表1に示す。
成形品は、フッ素化ポリカーボネートからのものに比べ
て、耐熱性が劣り、かつ、容易に擦傷をうけることが明
らである。
手続補正書 昭和61年2月22日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2は夫々独立して、H、アルキル
    基、フッ素化アルキル基を示し、少くと も一方はフッ素化アルキル基である。〕 で表わされる繰返し単位より主としてなり、かつ、上粘
    度が0.160〜0.230であるフッ素化ポリカーボ
    ネートから成る光学用成形品。
JP15688985A 1985-07-18 1985-07-18 光学用成形品 Granted JPS6218501A (ja)

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