JPS621867A - スパツタ装置 - Google Patents
スパツタ装置Info
- Publication number
- JPS621867A JPS621867A JP14036385A JP14036385A JPS621867A JP S621867 A JPS621867 A JP S621867A JP 14036385 A JP14036385 A JP 14036385A JP 14036385 A JP14036385 A JP 14036385A JP S621867 A JPS621867 A JP S621867A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- permanent magnet
- stage
- electrode
- magnet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はスパッタ装置に係り、特に、磁性体ターゲット
の組立てに好適な構成に関する。
の組立てに好適な構成に関する。
従来の装置は、特開昭５１１１−１９９８６０号公報に
記載のように、ターゲットホルダの中にマグネトロン磁
場発生用永久磁石を保持し、その上にターゲットを載せ
、０リング等の真空シール部材をはさんでねじ止め等に
より固定する構造が多かった。一方、薄膜磁気ヘッドの
コア材料等強磁性体のスパッタ工程では必然的にターゲ
ット材料も強磁性体となる。この際、効率よくスパッタ
するため、ターゲット表面上に数百ガウス程度の磁場を
作る必要があるが、そのためには強磁性体の磁気飽和が
必須であり、永久磁力はかなり強力なものが用いられる
。当然のことながら、永久磁石とターゲットの間に吸引
力が働き、この大きさは最大数百−重を越えるものにな
る。このため、ターゲット材料は自重が数−〜数十−で
あるにもかかわらず、手作業は困難で、油圧による組立
てないし、スタッドボルト等を用いた専用組立て治具が
必要となる。ターゲット材料からみても、組立て時に発
生する応力に耐える強度が必要であるし、組立て治具に
合わせてつば部を設ける等、本来のターゲット材料とし
ての目的以外のところで、必要以上に厚さ２面積を拡大
する必要が生じる。
記載のように、ターゲットホルダの中にマグネトロン磁
場発生用永久磁石を保持し、その上にターゲットを載せ
、０リング等の真空シール部材をはさんでねじ止め等に
より固定する構造が多かった。一方、薄膜磁気ヘッドの
コア材料等強磁性体のスパッタ工程では必然的にターゲ
ット材料も強磁性体となる。この際、効率よくスパッタ
するため、ターゲット表面上に数百ガウス程度の磁場を
作る必要があるが、そのためには強磁性体の磁気飽和が
必須であり、永久磁力はかなり強力なものが用いられる
。当然のことながら、永久磁石とターゲットの間に吸引
力が働き、この大きさは最大数百−重を越えるものにな
る。このため、ターゲット材料は自重が数−〜数十−で
あるにもかかわらず、手作業は困難で、油圧による組立
てないし、スタッドボルト等を用いた専用組立て治具が
必要となる。ターゲット材料からみても、組立て時に発
生する応力に耐える強度が必要であるし、組立て治具に
合わせてつば部を設ける等、本来のターゲット材料とし
ての目的以外のところで、必要以上に厚さ２面積を拡大
する必要が生じる。
一般に、ターゲット材料は純度２合金材料では混合成分
比を厳密に管理する必要があり、重量あたりの単価が高
いため、不必要にターゲット形状を拡大することは経済
上好ましくない。さらにり−ゲット材料の厚さが増すこ
とは、その磁気飽和の観点から永久磁石の強度すなわち
大きさを増大させることが必要となり、ターゲット材料
との吸引力が増加して悪循環をきたす。このため、ター
ゲット材料組立て時に、ターゲット材料へ働く永久磁石
による吸引力が少ない形状が望まれていた。
比を厳密に管理する必要があり、重量あたりの単価が高
いため、不必要にターゲット形状を拡大することは経済
上好ましくない。さらにり−ゲット材料の厚さが増すこ
とは、その磁気飽和の観点から永久磁石の強度すなわち
大きさを増大させることが必要となり、ターゲット材料
との吸引力が増加して悪循環をきたす。このため、ター
ゲット材料組立て時に、ターゲット材料へ働く永久磁石
による吸引力が少ない形状が望まれていた。
本発明の目的は、ターゲット材料の組立て時に、永久磁
石による吸引力のないスパッタ装置を提供することにあ
る。
石による吸引力のないスパッタ装置を提供することにあ
る。
本発明は、永久磁石とターゲットを独立して着脱可能に
し、ターゲットを組立て設置したあと、永久磁石を所定
の位置に組立て設置するようにしたものである。
し、ターゲットを組立て設置したあと、永久磁石を所定
の位置に組立て設置するようにしたものである。
以下に、本発明の一実施例を第１図により説明する。図
では真空容器１内に基板ホルダ２に支持された基板３及
びターゲット電極４から構成されたスパッタ装置を設け
る。ターゲット電極４は、ターゲット５．タゲット５の
背後に配置された永久磁石６．永久磁石６で発生する磁
場の帰路となる鉄心、永久磁石６及び鉄心７を固定した
支持板８、ターゲット５及び支持板８を固定するターゲ
ット電極容器９．ターゲット電極容器９を真空容器１に
絶縁支持する絶縁物１０、及び真空容器１に固、定され
たアースシールド１１よりなる。ターゲット５及び永久
磁石６はスパッタ中温度上昇を防ぐため冷却水管１２で
導びかれた水１３により冷却される。まず、排気口１４
に接続された図示しない排気装置により、真空容器内を
高真空にしたあと、給気口１５よりアルゴン等所望のガ
スを注入し、真空容器１内を所定のガス圧になるように
、ガス供給量及び排気量を調整する。その後、真空容器
１及び基板３に対し負となる直流電圧、又は高周波電圧
を図示しない電源装置によりターゲット電極４に印加す
る。そめ結果、放電プラズマが発生基板３及びターゲッ
ト５の間に発生する。
では真空容器１内に基板ホルダ２に支持された基板３及
びターゲット電極４から構成されたスパッタ装置を設け
る。ターゲット電極４は、ターゲット５．タゲット５の
背後に配置された永久磁石６．永久磁石６で発生する磁
場の帰路となる鉄心、永久磁石６及び鉄心７を固定した
支持板８、ターゲット５及び支持板８を固定するターゲ
ット電極容器９．ターゲット電極容器９を真空容器１に
絶縁支持する絶縁物１０、及び真空容器１に固、定され
たアースシールド１１よりなる。ターゲット５及び永久
磁石６はスパッタ中温度上昇を防ぐため冷却水管１２で
導びかれた水１３により冷却される。まず、排気口１４
に接続された図示しない排気装置により、真空容器内を
高真空にしたあと、給気口１５よりアルゴン等所望のガ
スを注入し、真空容器１内を所定のガス圧になるように
、ガス供給量及び排気量を調整する。その後、真空容器
１及び基板３に対し負となる直流電圧、又は高周波電圧
を図示しない電源装置によりターゲット電極４に印加す
る。そめ結果、放電プラズマが発生基板３及びターゲッ
ト５の間に発生する。
放電プラズマは永久磁石６の効果によりターゲット５の
前面で密となるいわゆるマグネトロンスパッタの効果に
より、ターゲット５の構成原子を真空容器１内にたたき
出す。この粒子の一部が基板３の表面に付着し、ターゲ
ット５の材料から成る薄膜を基板３の表面に形成できる
。
前面で密となるいわゆるマグネトロンスパッタの効果に
より、ターゲット５の構成原子を真空容器１内にたたき
出す。この粒子の一部が基板３の表面に付着し、ターゲ
ット５の材料から成る薄膜を基板３の表面に形成できる
。
ところで、ターゲット材料はこの作用により、成膜する
毎に消耗してゆくため、定期的に交換する必要がある。
毎に消耗してゆくため、定期的に交換する必要がある。
この際１本実施例ではターゲット電極４を真空容器から
取りはずし、第２図に示す手順で交換可能である。すな
わち、油圧操作台１６上にターゲット電極４をボルト１
７により固定し、図では省略したが支持板８をターゲッ
ト電極容器に固定するボルト等の固着手段をはずした後
、図示しない油圧ピストンにより、シャフト１８を押上
げることによりターゲット５と永久磁石６が釈放される
。ターゲット５はＯリング等の気密手段を介してボルト
等の固着手段でターゲット電極容器９に固定されている
が、この時点では永久磁石６の吸引力は働いていないの
で、上記ボルト等をはずすことにより簡単に交換できる
。組立ては前述の逆工程である。本構成ではターゲット
５が大面積のとき等吸引力が大きい場合に適している。
取りはずし、第２図に示す手順で交換可能である。すな
わち、油圧操作台１６上にターゲット電極４をボルト１
７により固定し、図では省略したが支持板８をターゲッ
ト電極容器に固定するボルト等の固着手段をはずした後
、図示しない油圧ピストンにより、シャフト１８を押上
げることによりターゲット５と永久磁石６が釈放される
。ターゲット５はＯリング等の気密手段を介してボルト
等の固着手段でターゲット電極容器９に固定されている
が、この時点では永久磁石６の吸引力は働いていないの
で、上記ボルト等をはずすことにより簡単に交換できる
。組立ては前述の逆工程である。本構成ではターゲット
５が大面積のとき等吸引力が大きい場合に適している。
第３図に異なる実施例を示す。（ａ）は支持板８を背後
から見たもので、支持板８を固定するボルト１９の穴の
他に、ねじ穴２０が設けられている。対向する（ｂ）の
ターゲット電極容器９にはボルト１９用ねじ穴２１とね
じ穴２０と対向する位置にガイド穴２２が設けられてい
る。（ｃ）にガイド穴２２の断面形状を示す。本実施例
では永久磁石の釈放は以下のようになされる。まず、ボ
ルト１９をはずし、図示しない比較的長いボルトをねじ
穴２０にねじ込む。これにより簡単に永久磁石の取りは
ずしが可能となる。このとき、ボルトはガイド穴２２に
案内され、Ｏリング溝２３に挿入されている０リングを
痛めるのを防止する。
から見たもので、支持板８を固定するボルト１９の穴の
他に、ねじ穴２０が設けられている。対向する（ｂ）の
ターゲット電極容器９にはボルト１９用ねじ穴２１とね
じ穴２０と対向する位置にガイド穴２２が設けられてい
る。（ｃ）にガイド穴２２の断面形状を示す。本実施例
では永久磁石の釈放は以下のようになされる。まず、ボ
ルト１９をはずし、図示しない比較的長いボルトをねじ
穴２０にねじ込む。これにより簡単に永久磁石の取りは
ずしが可能となる。このとき、ボルトはガイド穴２２に
案内され、Ｏリング溝２３に挿入されている０リングを
痛めるのを防止する。
本実施例は比較的小面積のターゲットで永久磁石の吸引
力の小さい場合に適する。
力の小さい場合に適する。
第４図はカム機構部２４を設けたレバー２５を設置しワ
ンタッチで引きはずしが出来る様にしたものである。ボ
ルト１９をはずした後、取手２６を矢印２７方向に操作
することにより、ピン２８で支持板８に固定されたカム
機構２４で容易に引きはずしか出来る。取付は時は、ボ
ルト１９に対向するネジ穴にガイド捧を挿入しておくの
が良い。
ンタッチで引きはずしが出来る様にしたものである。ボ
ルト１９をはずした後、取手２６を矢印２７方向に操作
することにより、ピン２８で支持板８に固定されたカム
機構２４で容易に引きはずしか出来る。取付は時は、ボ
ルト１９に対向するネジ穴にガイド捧を挿入しておくの
が良い。
本発明によれば、ターゲットの交換時に、永久磁石によ
る外力が働かないので、ターゲットの構成が簡単になる
。
る外力が働かないので、ターゲットの構成が簡単になる
。
第１図は本発明の一実施例の断面図、第２図は本発明の
一実施例で動作状態を示す断面図、第３図および第４図
は異なる実施例を示す部品図である。 ５・・・ターゲット、３・・・基板、６・・・永久磁石
、１・・・真空容器。
一実施例で動作状態を示す断面図、第３図および第４図
は異なる実施例を示す部品図である。 ５・・・ターゲット、３・・・基板、６・・・永久磁石
、１・・・真空容器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ターゲットと、成膜すべき母材となる基板と、前記
ターゲットの背後に配置した永久磁石とを真空容器内に
保持したものにおいて、 前記ターゲットと前記永久磁石とをそれぞれ独立に着脱
可能としたことを特徴とするスパッタ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14036385A JPS621867A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | スパツタ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14036385A JPS621867A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | スパツタ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS621867A true JPS621867A (ja) | 1987-01-07 |
Family
ID=15267080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14036385A Pending JPS621867A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | スパツタ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS621867A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5286361A (en) * | 1992-10-19 | 1994-02-15 | Regents Of The University Of California | Magnetically attached sputter targets |
| JP2006161078A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Ulvac Japan Ltd | 強磁性体ターゲット交換冶具及び交換方法 |
| JP2011102432A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-05-26 | Canon Anelva Corp | 磁性ターゲット交換装置及び磁性ターゲット交換方法 |
| JP2012149340A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-08-09 | Canon Anelva Corp | スパッタリング装置 |
-
1985
- 1985-06-28 JP JP14036385A patent/JPS621867A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5286361A (en) * | 1992-10-19 | 1994-02-15 | Regents Of The University Of California | Magnetically attached sputter targets |
| JP2006161078A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Ulvac Japan Ltd | 強磁性体ターゲット交換冶具及び交換方法 |
| JP2011102432A (ja) * | 2009-10-14 | 2011-05-26 | Canon Anelva Corp | 磁性ターゲット交換装置及び磁性ターゲット交換方法 |
| JP2012149340A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-08-09 | Canon Anelva Corp | スパッタリング装置 |
| US9299544B2 (en) | 2010-12-28 | 2016-03-29 | Canon Anelva Corporation | Sputtering apparatus |
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