JPS62187143A - ガラスの加工方法 - Google Patents
ガラスの加工方法Info
- Publication number
- JPS62187143A JPS62187143A JP2781886A JP2781886A JPS62187143A JP S62187143 A JPS62187143 A JP S62187143A JP 2781886 A JP2781886 A JP 2781886A JP 2781886 A JP2781886 A JP 2781886A JP S62187143 A JPS62187143 A JP S62187143A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- photosensitive film
- glass
- light
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
ガラスの加工方法、特に光ディスクまたは光磁気ディス
ク用の溝付き基板の製造技術に関するものである。
ク用の溝付き基板の製造技術に関するものである。
［従来の技術］
溝付き基板には、グループ法と２Ｆ（フォトポリマー）
法との二方法がある。グループ法は、ポジ型レジストの
場合には２ガラス板に７オトレジスト（以下レジストと
記す）を塗布したのちレーザー光で渦巻きまたは同心円
のパターンを点図形の連続として描いたのちエツチング
等の方法により感光部分を除去しくネガ型レジストの場
合は非感光性部分を除去する）ガラスを露出させる。こ
のあとＲＩＥ （反応性イオンエツチング）などの方法
でガラスの露出部分をエツチング加工し所定のパターン
を得る。２Ｐ法は感光性樹脂を用いガラス面に凹凸の膜
面を積上げ構成する方法で、ガラスを除去するグループ
法とは原理的に異なる。
法との二方法がある。グループ法は、ポジ型レジストの
場合には２ガラス板に７オトレジスト（以下レジストと
記す）を塗布したのちレーザー光で渦巻きまたは同心円
のパターンを点図形の連続として描いたのちエツチング
等の方法により感光部分を除去しくネガ型レジストの場
合は非感光性部分を除去する）ガラスを露出させる。こ
のあとＲＩＥ （反応性イオンエツチング）などの方法
でガラスの露出部分をエツチング加工し所定のパターン
を得る。２Ｐ法は感光性樹脂を用いガラス面に凹凸の膜
面を積上げ構成する方法で、ガラスを除去するグループ
法とは原理的に異なる。
［発明の解決しようとする問題点］
溝パターンは通常中０．８μ腫、ピッチ１．６μ厘、深
さ０．０７μ鳳で、円板口径３．５”（インチ、以下同
じ）ないし５．２５″である。レーザー光線でこのパタ
ーンを描くのに約２０分を要す、この工程がガラスの溝
付き基板の製造速度を決定して生産効率がよくない、ま
た同機能を狙う２Ｐ法の場合はガラス表面にポリマーが
存在することで記録膜の耐久性の点で信頼性に乏しいこ
とと、材料コストの高い欠点があり、また射出成形でで
きるプラスチックの溝付き基板は信頼性および寸法精度
の点で問題があり、ガラスのもつ安定性に大きく及ばな
い。
さ０．０７μ鳳で、円板口径３．５”（インチ、以下同
じ）ないし５．２５″である。レーザー光線でこのパタ
ーンを描くのに約２０分を要す、この工程がガラスの溝
付き基板の製造速度を決定して生産効率がよくない、ま
た同機能を狙う２Ｐ法の場合はガラス表面にポリマーが
存在することで記録膜の耐久性の点で信頼性に乏しいこ
とと、材料コストの高い欠点があり、また射出成形でで
きるプラスチックの溝付き基板は信頼性および寸法精度
の点で問題があり、ガラスのもつ安定性に大きく及ばな
い。
［問題点を解決するための手段］
ミクロンオーダーないしそれ以下の微細寸法のパターン
をガラス面に形成するのに、１個の２次元パターンない
し複数個の２次元パターンの複合により所望のパターン
を、ガラス表面に設けた感光性膜面内に、電磁光学的な
方法で形成したのちエツチング等の方法により、ポジ型
レジストの場合はこの部分を除去しくネガ型レジストの
場合は非感光性部分を除去する）てガラスの露出面をつ
くり、次いでこの部分をＲＩＥなどの方法でエツチング
する。
をガラス面に形成するのに、１個の２次元パターンない
し複数個の２次元パターンの複合により所望のパターン
を、ガラス表面に設けた感光性膜面内に、電磁光学的な
方法で形成したのちエツチング等の方法により、ポジ型
レジストの場合はこの部分を除去しくネガ型レジストの
場合は非感光性部分を除去する）てガラスの露出面をつ
くり、次いでこの部分をＲＩＥなどの方法でエツチング
する。
前記電磁光学的な方法としては、ＵＶ光（紫外光、波長
的３００〜４００ｎｍ）あるいはＤｅｅｐＵ Ｖ光（遠
紫外光、波長約２００〜３００ｎ層）による照射を採用
することができる。
的３００〜４００ｎｍ）あるいはＤｅｅｐＵ Ｖ光（遠
紫外光、波長約２００〜３００ｎ層）による照射を採用
することができる。
［実施例１
実施例１
露光装置：キャノンＰ Ｌ Ａ−５２１３マスク配位モ
ード：ソフトコンタクト 光源： ｓｏｏｗ高圧水銀灯、入＝ ２９ｈｍマスク：
ＤＮＰ解像力チャート４″ （０，５゜０．７５．１
．０μ層のポジおよびネガパターン付） ガラス：ソーダライムガラス、板厚２■■レジスト（感
光性ＩＩ） ：東京応化製０ＤＵＲ１０００、０，４μ
層厚 露光： ４９．５８．１１３． ｆ１９ （謹Ｊ／ｃ■
２）現像：東京応化製１０１０現像液で２３℃、 ２ｍ
１ｎ。
ード：ソフトコンタクト 光源： ｓｏｏｗ高圧水銀灯、入＝ ２９ｈｍマスク：
ＤＮＰ解像力チャート４″ （０，５゜０．７５．１
．０μ層のポジおよびネガパターン付） ガラス：ソーダライムガラス、板厚２■■レジスト（感
光性ＩＩ） ：東京応化製０ＤＵＲ１０００、０，４μ
層厚 露光： ４９．５８．１１３． ｆ１９ （謹Ｊ／ｃ■
２）現像：東京応化製１０１０現像液で２３℃、 ２ｍ
１ｎ。
リンス二東京応化製リンサー、２３℃、１１ｎ。
０．５終■の線巾のパターンを形成するのに、５３ｍＪ
／ｃ肩２の露光が最適なことを光学顕微鏡による観察で
得た。この条件でパターンを形成したガラスをＲＩＥ装
置にかけ同寸法のパターンをガラス表面に形成した。ガ
ラスのＲＩＥ加工は次の要領で行った。
／ｃ肩２の露光が最適なことを光学顕微鏡による観察で
得た。この条件でパターンを形成したガラスをＲＩＥ装
置にかけ同寸法のパターンをガラス表面に形成した。ガ
ラスのＲＩＥ加工は次の要領で行った。
ＲＩＥ装置：キヤノンＧＩＲ−２８０
エツチング条件：
ガス ０２Ｆ６３０ ｃｍ３／５ｉｎＨｅ ８０
／／ 圧力 １００ Ｐａ 電力 ３０〇一 時間 １層ｉｎ。
／／ 圧力 １００ Ｐａ 電力 ３０〇一 時間 １層ｉｎ。
この結果、線巾はマスクと同一で深さ７００人のパター
ンをガラス表面上に形成できた。
ンをガラス表面上に形成できた。
実施例２
露光装置：キャノンＭ Ｐ Ａ −５００ＦＡマスク配
位モード：ソフトコンタクト 光源： ５００ｗ高圧水銀灯 入＝ ２９０ｍｍマス
ク： ＤＮＰ解像力チャート４″（０，５゜０．７５．
１．０μ層のポジおよびネガパターン付） ガラス：ソーダライムガラス、°板厚２■■レジスト（
感光性膜） ： Ａｓ２Ｓ３．０．ＩＪＡｌｌ厚霧光
： １００ｍＪ／ｃｒｎ’ 現像： ＮａＯＨおよびＮａ２ＨＰＯ４の水溶液（ＰＨ
＝１１．８） 、 ２３℃、 ２＋＋ｉｎ。
位モード：ソフトコンタクト 光源： ５００ｗ高圧水銀灯 入＝ ２９０ｍｍマス
ク： ＤＮＰ解像力チャート４″（０，５゜０．７５．
１．０μ層のポジおよびネガパターン付） ガラス：ソーダライムガラス、°板厚２■■レジスト（
感光性膜） ： Ａｓ２Ｓ３．０．ＩＪＡｌｌ厚霧光
： １００ｍＪ／ｃｒｎ’ 現像： ＮａＯＨおよびＮａ２ＨＰＯ４の水溶液（ＰＨ
＝１１．８） 、 ２３℃、 ２＋＋ｉｎ。
０．５μｍの線巾のパターンを形成し、このガラスをＲ
ＩＥ装置にかけ同寸法のパターンを７００人の深さにガ
ラス表面に形成できた、ＲＩＥの加工条件は実施例の１
に同じ。
ＩＥ装置にかけ同寸法のパターンを７００人の深さにガ
ラス表面に形成できた、ＲＩＥの加工条件は実施例の１
に同じ。
［発明の効果］
１、本発明によれば１個の２次元パターンによる全面の
同時露光または複数個の２次元パターンの複合自合成に
よりパターンをガラス面に形成することができるのでパ
ターンの寸法精度が極めて高い、グループ法や２Ｐ法に
おけるレーザー光による直接描画の場合には被露光物ま
たは光源の駆動が必要であるが、機械動作には寸法誤差
を生じやすく、精度を確保するのに著しく精巧な機械装
置を必要とするのに対し、本発明の方法は極めて有利で
ある。
同時露光または複数個の２次元パターンの複合自合成に
よりパターンをガラス面に形成することができるのでパ
ターンの寸法精度が極めて高い、グループ法や２Ｐ法に
おけるレーザー光による直接描画の場合には被露光物ま
たは光源の駆動が必要であるが、機械動作には寸法誤差
を生じやすく、精度を確保するのに著しく精巧な機械装
置を必要とするのに対し、本発明の方法は極めて有利で
ある。
２、本発明によれば、ガラス面に塗布したレジスト膜へ
の露光はマスクを使う方法により数秒の短時間で行うこ
とができる。一方上記レーザー光による直接描画では数
十分の時間を要するので、本発明の方法は著しく生産性
で優れる。
の露光はマスクを使う方法により数秒の短時間で行うこ
とができる。一方上記レーザー光による直接描画では数
十分の時間を要するので、本発明の方法は著しく生産性
で優れる。
Claims (3)
- （１）ミクロンオーダーないしそれ以下の微細寸法のパ
ターンをガラス面に形成する方法において、１個の２次
元パターンないし複数個の２次元パターンの複合により
、２次元の所望のパターンを、ガラス表面に設けた感光
性膜に電磁光学的な方法で露光して形成させたのち、エ
ッチング等の方法により （イ）該感光性膜がポジ型感光性膜の場合は前記所望の
パターンの形成部分を除去し あるいは、 （ロ）該感光性膜がネガ型感光性膜の場合は前記所望の
パターンの形成部分以外の感 光性膜部分を除去し てガラスの露出部分をつくり、次いで該露出部分をＲＩ
Ｅ（反応性イオンエッチング）、プラズマエッチングな
どの方法によりエッチングすることを特徴とするガラス
の加工方 法。 - （２）前記所望のパターンを前記感光性膜に電磁光学的
な方法で露光して形成させるに際し、フォトマスクをコ
ンタクトまたはプロキシミティの方法で配置し、ＵＶ光
またはＤｅｅｐＵＶ光（遠紫外光）を用いることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載のガラス加工方法。 - （３）前記感光性膜として、０．０１〜０．３μｍの範
囲の厚さに設けた非晶質カルコゲナイドの蒸着膜を用い
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のガラス
の加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2781886A JPS62187143A (ja) | 1986-02-13 | 1986-02-13 | ガラスの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2781886A JPS62187143A (ja) | 1986-02-13 | 1986-02-13 | ガラスの加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62187143A true JPS62187143A (ja) | 1987-08-15 |
Family
ID=12231541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2781886A Pending JPS62187143A (ja) | 1986-02-13 | 1986-02-13 | ガラスの加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62187143A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2608589A1 (fr) * | 1986-12-23 | 1988-06-24 | Glaverbel | Article en verre portant un dessin grave et procede pour fabriquer un tel article |
-
1986
- 1986-02-13 JP JP2781886A patent/JPS62187143A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2608589A1 (fr) * | 1986-12-23 | 1988-06-24 | Glaverbel | Article en verre portant un dessin grave et procede pour fabriquer un tel article |
| BE1003081A3 (fr) * | 1986-12-23 | 1991-11-19 | Glaverbel | Article en verre portant un dessin grave et procede pour fabriquer un tel article. |
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