JPS62190133A - β,β,β−トリフルオロエチルベンゼン誘導体の製造方法 - Google Patents
β,β,β−トリフルオロエチルベンゼン誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPS62190133A JPS62190133A JP61031616A JP3161686A JPS62190133A JP S62190133 A JPS62190133 A JP S62190133A JP 61031616 A JP61031616 A JP 61031616A JP 3161686 A JP3161686 A JP 3161686A JP S62190133 A JPS62190133 A JP S62190133A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- atom
- group
- fluorine atom
- derivative
- beta
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- AVSVJSGDSPDFLH-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroethylbenzene Chemical class FC(F)(F)CC1=CC=CC=C1 AVSVJSGDSPDFLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 11
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 10
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 21
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 claims description 8
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 7
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 7
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- -1 nitrous acid ester Chemical class 0.000 abstract description 7
- GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K antimony trifluoride Chemical compound F[Sb](F)F GUNJVIDCYZYFGV-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract description 5
- 229910021630 Antimony pentafluoride Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I antimony pentafluoride Chemical compound F[Sb](F)(F)(F)F VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I 0.000 abstract description 4
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N Nitrogen dioxide Chemical compound O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I antimony(5+);pentachloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)(Cl)(Cl)Cl VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I 0.000 abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 2
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 abstract 1
- 125000002490 anilino group Chemical class [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 abstract 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical group [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001448 anilines Chemical class 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 101000837841 Homo sapiens Transcription factor EB Proteins 0.000 description 5
- 102100028502 Transcription factor EB Human genes 0.000 description 5
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- ODNBVEIAQAZNNM-UHFFFAOYSA-N 1-(6-chloroimidazo[1,2-b]pyridazin-3-yl)ethanone Chemical compound C1=CC(Cl)=NN2C(C(=O)C)=CN=C21 ODNBVEIAQAZNNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- NIXOIRLDFIPNLJ-UHFFFAOYSA-M magnesium;benzene;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].C1=CC=[C-]C=C1 NIXOIRLDFIPNLJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N phenylacetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC=C1 WLJVXDMOQOGPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- IOGXOCVLYRDXLW-UHFFFAOYSA-N tert-butyl nitrite Chemical compound CC(C)(C)ON=O IOGXOCVLYRDXLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 125000001478 1-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 4-nitroaniline Chemical compound NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 TYMLOMAKGOJONV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQJPBYFTQAANLE-UHFFFAOYSA-N Butyl nitrite Chemical compound CCCCON=O JQJPBYFTQAANLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQZWEECEMNQSTG-UHFFFAOYSA-N Ethyl nitrite Chemical compound CCON=O QQZWEECEMNQSTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYXNDYLVSSEVMV-UHFFFAOYSA-F F[Sb](F)F.Cl[Sb](Cl)(Cl)(Cl)Cl Chemical compound F[Sb](F)F.Cl[Sb](Cl)(Cl)(Cl)Cl MYXNDYLVSSEVMV-UHFFFAOYSA-F 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001539 acetonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K antimony trichloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)Cl FAPDDOBMIUGHIN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- OWFXIOWLTKNBAP-UHFFFAOYSA-N isoamyl nitrite Chemical compound CC(C)CCON=O OWFXIOWLTKNBAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- CSDTZUBPSYWZDX-UHFFFAOYSA-N n-pentyl nitrite Chemical compound CCCCCON=O CSDTZUBPSYWZDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 229960003424 phenylacetic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000003279 phenylacetic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N sec-butyl acetate Chemical compound CCC(C)OC(C)=O DCKVNWZUADLDEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000002966 serum Anatomy 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QHMQWEPBXSHHLH-UHFFFAOYSA-N sulfur tetrafluoride Chemical compound FS(F)(F)F QHMQWEPBXSHHLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012414 tert-butyl nitrite Substances 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、農薬・医薬・染料など中間原料として有用な
後記一般式(I[)で表わされるβ、β、β−トリフル
オロエチルベンゼン誘導体(以下T、FEBと略す)の
製造方法に関し、詳しくは後記一般式(I)で表わされ
るβ、β、β−トリクロロエチルベンゼン誘導体く以下
TCEBと略す)を特定の三弗化アンチモン混合物と反
応させるTFEBの製造方法、さらt二は後記一般式(
III)で表わされるアニリン誘導体を溶媒及び塩化第
二銅の存在下に亜硝酸エステル及び塩化ビニリデンと反
応させてTCEBを得、次いで前記と同様の弗素化反応
を行なうTFEBの製造方法に関する。
後記一般式(I[)で表わされるβ、β、β−トリフル
オロエチルベンゼン誘導体(以下T、FEBと略す)の
製造方法に関し、詳しくは後記一般式(I)で表わされ
るβ、β、β−トリクロロエチルベンゼン誘導体く以下
TCEBと略す)を特定の三弗化アンチモン混合物と反
応させるTFEBの製造方法、さらt二は後記一般式(
III)で表わされるアニリン誘導体を溶媒及び塩化第
二銅の存在下に亜硝酸エステル及び塩化ビニリデンと反
応させてTCEBを得、次いで前記と同様の弗素化反応
を行なうTFEBの製造方法に関する。
(先行技術及び発明に至った経緯)
従来、β、β、β−トリフルオロエチルベンゼンを調製
する方法として、文献工種々の方法が提案されている。
する方法として、文献工種々の方法が提案されている。
例えば(1)フェニル酢酸と四弗化イオウとを反応させ
る方法(ケミカル・アブストラクト、83巻、758頁
J9118r、1975)、(2)PhCRCρCF、
(Ph=フェニル基、R=H,CQ)を還元する方法(
ケミカル・アブストラクト、89巻、558頁、89
: 42607 W、1978)、(3)PhMgBr
(Ph=フェニル基)から4工程を経る方法(ジャーナ
ル・オブ・オーガニック・ケミストリー、39巻、7号
、87B−881頁、1974)、(4)CF、CH2
IとPhI(Ph=フェニル基)とを活性銅触媒の存在
下で反応させる方法(ケミカル・アブストラクト、71
巻、91048b、1969)などがあるが、これらは
いずれち工業的に実施するには問題がある。
る方法(ケミカル・アブストラクト、83巻、758頁
J9118r、1975)、(2)PhCRCρCF、
(Ph=フェニル基、R=H,CQ)を還元する方法(
ケミカル・アブストラクト、89巻、558頁、89
: 42607 W、1978)、(3)PhMgBr
(Ph=フェニル基)から4工程を経る方法(ジャーナ
ル・オブ・オーガニック・ケミストリー、39巻、7号
、87B−881頁、1974)、(4)CF、CH2
IとPhI(Ph=フェニル基)とを活性銅触媒の存在
下で反応させる方法(ケミカル・アブストラクト、71
巻、91048b、1969)などがあるが、これらは
いずれち工業的に実施するには問題がある。
本発明者等は、工業的に有利なTFEBの製法を見出す
べく、検討を始め、TCEBに着目して、まず弗素化の
常法であるジメチルホルムアミド中KFを用いる方法を
試みたが、所望の結果が得られず、さらに検討を重ね、
TCEBを特定の三弗化アンチモン混合物と反応させる
と容易にTFEBが得られるという知見を得、次に前記
反応の畠発物質であるTCEBを有利に調製する方法に
ついても検討を重ね、アニリン誘導体を溶媒及び塩化第
二銅の存在下に亜硝酸エステル及び塩化ビニリデンと反
応させると有利にTCEBが得られるという知見を同時
に得、本発明を完成した。
べく、検討を始め、TCEBに着目して、まず弗素化の
常法であるジメチルホルムアミド中KFを用いる方法を
試みたが、所望の結果が得られず、さらに検討を重ね、
TCEBを特定の三弗化アンチモン混合物と反応させる
と容易にTFEBが得られるという知見を得、次に前記
反応の畠発物質であるTCEBを有利に調製する方法に
ついても検討を重ね、アニリン誘導体を溶媒及び塩化第
二銅の存在下に亜硝酸エステル及び塩化ビニリデンと反
応させると有利にTCEBが得られるという知見を同時
に得、本発明を完成した。
(発明の開示)
すなわち、本願の第一の発明は、一般式(I);(式中
、R1は水素原子、弗素原子で置換されてもよいアルキ
ル基、弗素原子で置換されてもよいアルコキシ基、ニト
ロ基又はシアノ基であり、R2は水素原子、ハロゲン原
子、弗素原子で置換されてもよいアルキル基、弗素原子
で置換されてもよいアルコキシ基、ニトロ基又はシアノ
基であり、R1はハロゲン原子であり、■は0或いは1
〜3の整数である)で表わされるβ、β、β−トリクロ
ロエチルベンゼン誘導体を、SbF、と5bCQ、、C
Q2又は5l)F。
、R1は水素原子、弗素原子で置換されてもよいアルキ
ル基、弗素原子で置換されてもよいアルコキシ基、ニト
ロ基又はシアノ基であり、R2は水素原子、ハロゲン原
子、弗素原子で置換されてもよいアルキル基、弗素原子
で置換されてもよいアルコキシ基、ニトロ基又はシアノ
基であり、R1はハロゲン原子であり、■は0或いは1
〜3の整数である)で表わされるβ、β、β−トリクロ
ロエチルベンゼン誘導体を、SbF、と5bCQ、、C
Q2又は5l)F。
子、弗素原子、塩素原子、弗素原子で置換されてもよい
アルキル基、弗素原子で置換されてもよいアルコキシ基
、二Yロ基又はシア7基であり、R′、は弗素原子又は
塩素原子である)で表わされるβ、β、β−トリフルオ
ロエチルベンゼン誘導体を得ることを特徴とする、β、
β、β−トリフルオロエチルベンゼン誘導体の製造方法
であり、本願の第二(式中、R,、R2、R,及びmは
前述の通りである)で表わされるアニリン誘導体を溶媒
及び塩化第二銅の存在下に亜硝酸エステル及び塩化ビニ
リデンと反応させて、(式中、R1、R2、R3及び粕
は前述の通りである)で表わされるβ、β、β−トリク
ロロエチルベンゼン誘導体を得、次いで得られたβ、β
、β−トリクロロエチルベンゼン誘導体を、SbF、と
5bCQ5、CO2又はSbF5との混合物と反応させ
て、一般式(■); で表わされるβ、β、β−トリフルオロエチルベンゼン
誘導体を得ることを特徴とする、β、β、β−トリフル
オロエチルベンゼン誘導体の製造方法である。
アルキル基、弗素原子で置換されてもよいアルコキシ基
、二Yロ基又はシア7基であり、R′、は弗素原子又は
塩素原子である)で表わされるβ、β、β−トリフルオ
ロエチルベンゼン誘導体を得ることを特徴とする、β、
β、β−トリフルオロエチルベンゼン誘導体の製造方法
であり、本願の第二(式中、R,、R2、R,及びmは
前述の通りである)で表わされるアニリン誘導体を溶媒
及び塩化第二銅の存在下に亜硝酸エステル及び塩化ビニ
リデンと反応させて、(式中、R1、R2、R3及び粕
は前述の通りである)で表わされるβ、β、β−トリク
ロロエチルベンゼン誘導体を得、次いで得られたβ、β
、β−トリクロロエチルベンゼン誘導体を、SbF、と
5bCQ5、CO2又はSbF5との混合物と反応させ
て、一般式(■); で表わされるβ、β、β−トリフルオロエチルベンゼン
誘導体を得ることを特徴とする、β、β、β−トリフル
オロエチルベンゼン誘導体の製造方法である。
前記一般式(1)及び(III)中のR2及びR3のノ
10デン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子
、沃素原子が挙げられ、また一般式(I)、(II)及
び(I[I)中のR,、R2及びR゛2のアルキル基と
しては炭素数1〜6のものが好ましく、弗素原子で置換
されてもよいアルキル基としては、例えばメチル基、モ
ノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオ
ロメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙
げられ、さらにR1、R2及びR12のアルコキシ基と
しては炭素数1〜6のものが好ましく、弗素原子で置換
されてもよいアルコキシ基としては、メトキシ基、トリ
フルオロメトキシ基、エトキシ基などが挙げられる。
10デン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子
、沃素原子が挙げられ、また一般式(I)、(II)及
び(I[I)中のR,、R2及びR゛2のアルキル基と
しては炭素数1〜6のものが好ましく、弗素原子で置換
されてもよいアルキル基としては、例えばメチル基、モ
ノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオ
ロメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙
げられ、さらにR1、R2及びR12のアルコキシ基と
しては炭素数1〜6のものが好ましく、弗素原子で置換
されてもよいアルコキシ基としては、メトキシ基、トリ
フルオロメトキシ基、エトキシ基などが挙げられる。
本願第1の発明の実施において、予めSbF、と5l)
CI2s、CO2又はSbF5とを混合しておくのが好
ましく、例えば予め調製された混合物にTCEBを加え
、通常、室温〜還流温度、望ましくは40〜70℃で、
0.5〜10時間反応させる。このSbF、と5bCQ
6、CO2又はSbF、との混合物の′w!4製方法と
しては、例えばSbF、を減圧乾燥後、反応容器内を不
活性ガスで置換し、水冷下5bCff5或いはSbF、
を加えるか、又はSbF、を減圧乾燥後、反応容器内を
不活性ガスで置換し、水冷下CQ2ffスを吹込んで、
室温附近で0.1〜0.5時間攪拌、次いで10〜65
°Cで0.1〜0.5時間攪拌することによって得られ
る。
CI2s、CO2又はSbF5とを混合しておくのが好
ましく、例えば予め調製された混合物にTCEBを加え
、通常、室温〜還流温度、望ましくは40〜70℃で、
0.5〜10時間反応させる。このSbF、と5bCQ
6、CO2又はSbF、との混合物の′w!4製方法と
しては、例えばSbF、を減圧乾燥後、反応容器内を不
活性ガスで置換し、水冷下5bCff5或いはSbF、
を加えるか、又はSbF、を減圧乾燥後、反応容器内を
不活性ガスで置換し、水冷下CQ2ffスを吹込んで、
室温附近で0.1〜0.5時間攪拌、次いで10〜65
°Cで0.1〜0.5時間攪拌することによって得られ
る。
SbF、と5bCQ5、CO2又はSbF、とのモル比
は反応原料、反応条件により異なり一概にはいえないが
例えばSbF、1モルに対してSbCρ5、Ca2又は
SbF、を1l6モル以上、望ましくは115〜2/3
モノにであり、この上限は経済性にもとすいて定められ
る。またTCEB1モルに対するSbF、又はSbCρ
1、Ca2或いはSbF。
は反応原料、反応条件により異なり一概にはいえないが
例えばSbF、1モルに対してSbCρ5、Ca2又は
SbF、を1l6モル以上、望ましくは115〜2/3
モノにであり、この上限は経済性にもとすいて定められ
る。またTCEB1モルに対するSbF、又はSbCρ
1、Ca2或いはSbF。
のモル比は、弗素化される原子数により異なるので一概
にはいえないが、例えば弗素化される原子数が3の場合
、TCEB 1モルに対してSbF、は3〜9モル、
5bccs、Ca2或いはS b F sは0.5〜2
.5モルである。
にはいえないが、例えば弗素化される原子数が3の場合
、TCEB 1モルに対してSbF、は3〜9モル、
5bccs、Ca2或いはS b F sは0.5〜2
.5モルである。
次に、本願第2の発明の実施において、例えば、塩化第
二銅を予め減圧乾燥し、反応容器内を不活性ガスで置換
し、溶媒、亜硝酸エステル及び塩化ビニルデンを加え、
さらにアニ+7ン誘導体、場合により溶媒に溶解したも
のを添加或いは滴下して、通常、50°C以下、望まし
くは一20℃〜30℃で、0.5〜10時間反応させる
。この反応により、TCEBが得られ、次いで前述の本
願第1の発明方法が施され、TFEBが得られる。ここ
で本願第2の発明の前段反応について説明する。ここで
用いられる亜硝酸エステルとしては、亜硝酸エチルエス
テル、亜硝酸ノルマルブチルニスチル、亜硝酸ターシャ
リ−ブチルエステル、亜硝酸イソアミルエステル、亜硝
酸ノルマルアミルエステルなどが用いられ、この使用量
は通常アニリン誘導体1モルに対して1〜2モル、望ま
しくは1.5〜1.6モルであり、溶媒としては、アセ
トニトリル、ベンゾニトリル、プロピオニトリルなどの
ニトリル類、アセトン、メチルイソブチルケトン、メチ
ルエチルヶシンなどのケトン類などの本反応に対して不
活性な溶媒が用いられ、この使用量は通常アニリン誘導
体1モルに対して2〜3ρ程度でよい。また、塩化ビニ
リデンの使用量は通常アニリン誘導体1モルに対して1
5〜30モル、望ましくは15〜25モルであり、無水
塩化第二銅の使用量は通常アニリン誘導体1モルに対し
て1〜3モル程度でよい。
二銅を予め減圧乾燥し、反応容器内を不活性ガスで置換
し、溶媒、亜硝酸エステル及び塩化ビニルデンを加え、
さらにアニ+7ン誘導体、場合により溶媒に溶解したも
のを添加或いは滴下して、通常、50°C以下、望まし
くは一20℃〜30℃で、0.5〜10時間反応させる
。この反応により、TCEBが得られ、次いで前述の本
願第1の発明方法が施され、TFEBが得られる。ここ
で本願第2の発明の前段反応について説明する。ここで
用いられる亜硝酸エステルとしては、亜硝酸エチルエス
テル、亜硝酸ノルマルブチルニスチル、亜硝酸ターシャ
リ−ブチルエステル、亜硝酸イソアミルエステル、亜硝
酸ノルマルアミルエステルなどが用いられ、この使用量
は通常アニリン誘導体1モルに対して1〜2モル、望ま
しくは1.5〜1.6モルであり、溶媒としては、アセ
トニトリル、ベンゾニトリル、プロピオニトリルなどの
ニトリル類、アセトン、メチルイソブチルケトン、メチ
ルエチルヶシンなどのケトン類などの本反応に対して不
活性な溶媒が用いられ、この使用量は通常アニリン誘導
体1モルに対して2〜3ρ程度でよい。また、塩化ビニ
リデンの使用量は通常アニリン誘導体1モルに対して1
5〜30モル、望ましくは15〜25モルであり、無水
塩化第二銅の使用量は通常アニリン誘導体1モルに対し
て1〜3モル程度でよい。
次に本発明方法をより詳しく説明するために、以下に実
施例を記載するが、これらは本発明方法を限定するもの
でない。
施例を記載するが、これらは本発明方法を限定するもの
でない。
実施例1
50−の三ツロフラスコ(三方フック付ジムロート、シ
ーラムキャップ、粉末ロート付帯)に三弗化アンチモン
2.54gをとり、減圧乾燥後、フラスコ内をアルゴン
で置換し、氷冷下に五塩化アンチモン0.6m12を加
乏、室温で15分間攪拌し、次いで、加熱してこの錯体
を65°Cで15分間攪拌して、三弗化アンチモン−五
塩化アンチモンの錯体を得た。この錯体にp−ニトロ−
β、β、β−トリクロロエチルベンゼン802.5+n
8を65°Cで少量ずつ加え、1時間反応させた。
ーラムキャップ、粉末ロート付帯)に三弗化アンチモン
2.54gをとり、減圧乾燥後、フラスコ内をアルゴン
で置換し、氷冷下に五塩化アンチモン0.6m12を加
乏、室温で15分間攪拌し、次いで、加熱してこの錯体
を65°Cで15分間攪拌して、三弗化アンチモン−五
塩化アンチモンの錯体を得た。この錯体にp−ニトロ−
β、β、β−トリクロロエチルベンゼン802.5+n
8を65°Cで少量ずつ加え、1時間反応させた。
反応終了後、反応物を水冷下まで冷却し、エーテルと水
の混合液(エーテル25−土水20m(りを加え、十分
攪拌した後、セライト濾過した。得られた濾液に20%
塩酸を20−加え、エーテル層を分離し、このエーテル
層を20%塩酸・水・炭酸水素ナトリウム水溶液・水・
飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した
後、エーテルを減圧留去し、得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶離液:ノルマルヘキサン
)で精製して、融点65.5〜66.5℃のp−ニトロ
−β、β、β−トリフルオロエチルベンゼン261.6
mg(収率41%)を得た。
の混合液(エーテル25−土水20m(りを加え、十分
攪拌した後、セライト濾過した。得られた濾液に20%
塩酸を20−加え、エーテル層を分離し、このエーテル
層を20%塩酸・水・炭酸水素ナトリウム水溶液・水・
飽和食塩水の順で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した
後、エーテルを減圧留去し、得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶離液:ノルマルヘキサン
)で精製して、融点65.5〜66.5℃のp−ニトロ
−β、β、β−トリフルオロエチルベンゼン261.6
mg(収率41%)を得た。
実施例2〜6
前記実施例1の場合に準じて、下記第1表の条件で反応
させ、第1表に示す結果を得た。
させ、第1表に示す結果を得た。
第1表
クロロエチ フルオロエ
ルベンゼン チルベンゼ
3.19 ン 46(注1)
収率の下欄の()内の数値(m8)は、前記実施例1の
場合と同様の畳量である。
収率の下欄の()内の数値(m8)は、前記実施例1の
場合と同様の畳量である。
なお、TCEBとして、釦−トリフルオロメチル−β、
β。
β。
β−トリクロロエチルベンゼン或いはp−メチル−β、
β、β−トリクロロエチルベンゼンを用いて前記実施例
1〜6に準じて反応させると、これらとほぼ同等の結果
が得られる6実施例7 100−の三ツロフラスコ(三方コック付ジムロート、
滴下ロート、温度計付帯)に無水塩化第二銅3.23g
をとり、減圧乾燥後、7ラスフ内をアルゴンで置換し、
無水アセトニトリル40mQ’、亜硝酸ターシャリ−ブ
チルエステル3.61IIQ及び塩化ビニリデン24−
を加え、これらを激しく攪拌し、次いで論−トリフルオ
ロメチルアニリン、、3.22gのアセトニトリル1〇
−溶液を10分間に亘って滴下し、室温でガスの発生が
止まる主で50分間反応させた。
β、β−トリクロロエチルベンゼンを用いて前記実施例
1〜6に準じて反応させると、これらとほぼ同等の結果
が得られる6実施例7 100−の三ツロフラスコ(三方コック付ジムロート、
滴下ロート、温度計付帯)に無水塩化第二銅3.23g
をとり、減圧乾燥後、7ラスフ内をアルゴンで置換し、
無水アセトニトリル40mQ’、亜硝酸ターシャリ−ブ
チルエステル3.61IIQ及び塩化ビニリデン24−
を加え、これらを激しく攪拌し、次いで論−トリフルオ
ロメチルアニリン、、3.22gのアセトニトリル1〇
−溶液を10分間に亘って滴下し、室温でガスの発生が
止まる主で50分間反応させた。
反応終了後、反応物を20%塩酸200−に注ぎ、エー
テル1501110で2回抽出した。抽出層を20%塩
酸で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶離液:ノルマルヘキサン)でvIm!
L、て、m−)リフルオロメチル−β、β、β−トリク
ロロエチルベンゼン3.22g(収率58%)を得た。
テル1501110で2回抽出した。抽出層を20%塩
酸で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒
を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(溶離液:ノルマルヘキサン)でvIm!
L、て、m−)リフルオロメチル−β、β、β−トリク
ロロエチルベンゼン3.22g(収率58%)を得た。
これを前記実施例1〜6に準じて反応させてm4リフル
オロメチル−β、β、β−トリフルオロエチルベンゼン
ヲ得ル。
オロメチル−β、β、β−トリフルオロエチルベンゼン
ヲ得ル。
実施例8
500mOの三ツロフラスコ(三方フック付ジムロート
、滴下ロート、温度計付帯)に無水塩化第二銅11.4
38をとり、減圧乾燥後、フラスコ内をアルゴンで置換
し、無水アセトニトリル90mg、亜硝酸ターシャリ−
ブチルエステル13−及び塩化ビニリデン152−を加
え、これらを激しく攪拌し、次いでp−ニトロアニリン
9.868のアセトニリル72−溶液を1時間に亘って
滴下し、室温でガスの発生が止まるまで1.25時間反
応させた。
、滴下ロート、温度計付帯)に無水塩化第二銅11.4
38をとり、減圧乾燥後、フラスコ内をアルゴンで置換
し、無水アセトニトリル90mg、亜硝酸ターシャリ−
ブチルエステル13−及び塩化ビニリデン152−を加
え、これらを激しく攪拌し、次いでp−ニトロアニリン
9.868のアセトニリル72−溶液を1時間に亘って
滴下し、室温でガスの発生が止まるまで1.25時間反
応させた。
反応終了後、反応物を20%塩酸400m12に注ぎ、
エーテル200−で2回抽出した。抽出層を20%塩酸
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶離液;ノルマルヘキサン/エーテル=1
0/1)で精製して、p−ニトロ−β、β、β−トリク
ロロエチルベンゼン11.53g(収率64%)を得た
。これを前記実施例1〜6に準じて反応させてp−ニト
ロ−β、β、β−トリフルオロエチルベンゼンを得る。
エーテル200−で2回抽出した。抽出層を20%塩酸
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶離液;ノルマルヘキサン/エーテル=1
0/1)で精製して、p−ニトロ−β、β、β−トリク
ロロエチルベンゼン11.53g(収率64%)を得た
。これを前記実施例1〜6に準じて反応させてp−ニト
ロ−β、β、β−トリフルオロエチルベンゼンを得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式;▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は水素原子、弗素原子で置換されてもよ
いアルキル基、弗素原子で置換されてもよいアルコキシ
基、ニトロ基又はシアノ基であり、R_2は水素原子、
ハロゲン原子、弗素原子で置換されてもよいアルキル基
、弗素原子で置換されてもよいアルコキシ基、ニトロ基
又はシアノ基であり、R_3はハロゲン原子であり、m
は0或いは1〜3の製数である)で表わされるβ,β,
β−トリクロロエチルベンゼン誘導体を、SbF_3と
SbCl_5、Cl_2又はSbF_5との混合物と反
応させて、一般式; ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びmは前述の通りであり、R′_2は
水素原子、弗素原子、塩素原子、弗素原子で置換されて
もよいアルキル基、弗素原子で置換されてもよいアルコ
キシ基、ニトロ基又はシアノ基であり、R′_3は弗素
原子又は塩素原子である)で表わされるβ,β,β−ト
リフルオロエチルベンゼン誘導体を得ることを特徴とす
る、β,β,β−トリフルオロエチルベンゼン誘導体の
製造方法。 2、一般式;▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は水素原子、弗素原子で置換されてもよ
いアルキル基、弗素原子で置換されてもよいアルコキシ
基、ニトロ基又はシアノ基であり、R_2は水素原子、
ハロゲン原子、弗素原子で置換されてもよいアルキル基
、弗素原子で置換されてもよいアルコキシ基、ニトロ基
又はシアノ基であり、R_3はハロゲン原子であり、m
は0或いは1〜3の整数である)で表わされるアニリン
誘導体を溶媒及び塩化第二銅の存在下に亜硝酸エステル
及び塩化ビニリデンと反応させて、一般式;▲数式、化
学式、表等があります▼ (式中、R_1、R_2、R_3及びmは前述の通りで
ある)で表わされるβ,β,β−トリクロロエチルベン
ゼン誘導体を得、次いで得られたβ,β,β−トリクロ
ロエチルベンゼン誘導体を、SbF_3とSbCl_5
、Cl_2又はSbF_5との混合物と反応させて、一
般式;▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びmは前述の通りであり、R′_2は
水素原子、弗素原子、塩素原子、弗素原子で置換されて
もよいアルキル基、弗素原子で置換されてもよいアルコ
キシ基、ニトロ基又はシアノ基であり、R′_3は弗素
原子又は塩素原子である)で表わされるβ,β,β−ト
リフルオロエチルベンゼン誘導体を得ることを特徴とす
る、β,β,β−トリフルオロエチルベンゼン誘導体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61031616A JPS62190133A (ja) | 1986-02-15 | 1986-02-15 | β,β,β−トリフルオロエチルベンゼン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61031616A JPS62190133A (ja) | 1986-02-15 | 1986-02-15 | β,β,β−トリフルオロエチルベンゼン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62190133A true JPS62190133A (ja) | 1987-08-20 |
Family
ID=12336143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61031616A Pending JPS62190133A (ja) | 1986-02-15 | 1986-02-15 | β,β,β−トリフルオロエチルベンゼン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62190133A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1061334C (zh) * | 1998-06-02 | 2001-01-31 | 中国科学院上海有机化学研究所 | 不饱和键三氟乙基化化合物的制备方法 |
-
1986
- 1986-02-15 JP JP61031616A patent/JPS62190133A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1061334C (zh) * | 1998-06-02 | 2001-01-31 | 中国科学院上海有机化学研究所 | 不饱和键三氟乙基化化合物的制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS62190133A (ja) | β,β,β−トリフルオロエチルベンゼン誘導体の製造方法 | |
| US6127583A (en) | Process for preparing acetylene derivative from a ketone compound | |
| JP3459892B2 (ja) | フッ素系界面活性化合物及びその製造方法 | |
| JP3101721B2 (ja) | 芳香族弗素化合物の製造法 | |
| JPS5824430B2 (ja) | フルオルベンゾニトリル類の製造方法 | |
| JPS6135979B2 (ja) | ||
| JPH0579672B2 (ja) | ||
| JP7636688B2 (ja) | フッ素含有芳香族化合物の製造方法 | |
| JPS60139657A (ja) | 置換α‐ブロモアセトアミドの製法 | |
| JP2769532B2 (ja) | 含フッ素芳香族ジアミン | |
| JP3526777B2 (ja) | アセチレン誘導体の製造方法 | |
| JPH0672918A (ja) | ヨウ素化ベンジルジフェニルおよびその製法 | |
| JPS5838261A (ja) | 新規な1,3−二置換イミダゾ−ル誘導体及びその製造方法 | |
| JPS61122240A (ja) | ハロゲン化された3,3‐ジメチル‐5‐ヘキセン‐2‐オンの製造方法 | |
| CN107880039B (zh) | 一种吡啶并[1,2-a][1,3,5]-三嗪-4-酮化合物的制备方法 | |
| JPH10120674A (ja) | 2−メチル−3−(3,4−メチレンジオキシフェニル)アクリルアルデヒドの製法 | |
| JP3531039B2 (ja) | 1,4−ジフルオロベンゼン誘導体 | |
| JP3772263B2 (ja) | 5−メトキシインドリン誘導体の製造方法 | |
| JPH10130178A (ja) | gem−ジフルオロオレフィン類の製造方法、同製造方法に用いるジルコノセン、及びその製造方法 | |
| JP4956760B2 (ja) | 3−ブロモ安息香酸またはそのアルキルエステルの製造方法 | |
| JPH02178255A (ja) | 新規なハロゲン化トリフルオロメチルベンゼン | |
| JPS61205237A (ja) | ハロゲノニトロベンゼン誘導体とその製造方法 | |
| JPS5951251A (ja) | ベンジルシアニド類の製法 | |
| JPS604821B2 (ja) | ピラゾ−ル誘導体の製造法 | |
| JPH0124781B2 (ja) |