JPS62190817A - Manufacturing method of voltage nonlinear element - Google Patents

Manufacturing method of voltage nonlinear element

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JPS62190817A
JPS62190817A JP61034654A JP3465486A JPS62190817A JP S62190817 A JPS62190817 A JP S62190817A JP 61034654 A JP61034654 A JP 61034654A JP 3465486 A JP3465486 A JP 3465486A JP S62190817 A JPS62190817 A JP S62190817A
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JP
Japan
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voltage
powder
zno
inorganic
fine powder
Prior art date
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Pending
Application number
JP61034654A
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Japanese (ja)
Inventor
康男 若畑
真二 原田
浩明 水野
勇 増山
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS62190817A publication Critical patent/JPS62190817A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は印加電圧によって抵抗値が変化する電圧非直線
性素子に関するもので、電圧安定化、異常電圧制御、さ
らにはマトリックス駆動の液晶。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a voltage nonlinear element whose resistance value changes depending on an applied voltage, and is used for voltage stabilization, abnormal voltage control, and matrix-driven liquid crystals.

KLなどの表示デバイスのスイッチング素子などに利用
されるものである。
It is used in switching elements of display devices such as KL.

従来の技術 従来の電圧非直線性素子は、酸化亜鉛(ZnO)に酸化
ビスマス(Bi203)+酸化コバルト(”203) 
+酸化マンガン(MnO2) 、酸化アンチモン(Sb
203)などの酸化物を添加して、1000〜1360
°Cで焼結したZnOバリスタなど1種々のものがある
Conventional technology A conventional voltage nonlinear element consists of zinc oxide (ZnO), bismuth oxide (Bi203) + cobalt oxide ("203)"
+ Manganese oxide (MnO2), antimony oxide (Sb)
1000-1360 by adding oxides such as 203)
There are various types such as ZnO varistors sintered at °C.

その中で、 ZnOバリスタは電圧非直線指数α、サー
ジ耐量が大きいことから、最も一般的に使われている。
Among them, ZnO varistors are the most commonly used because of their high voltage nonlinearity index α and high surge resistance.

(特公昭46−19472号公報参照)発明が解決しよ
うとする問題点 このような従来の電圧非直線性素子は、  ZnOバリ
スタを初めとして、素子厚みを薄く(数十μm以下)す
ることに限界があるため、バリスタ電圧(バリスタに電
流111tムを流した時の電圧v+mAで表される)を
低くすることに限界がアシ、低電圧用ICの保護素子や
低い電圧における電圧安定化素子として使えないもので
あった。また、上述したように焼成する際に1000°
C以上の高温プロセスを必要とするため、ガラス基板上
あるいは回路基板上に電圧非直線性素子を直接形成でき
ないという問題があった。さらに、従来のものは並列静
電容量が大きく、例えば液晶などのスイッチング素子と
しては不適当なものでちるなどの問題点を有していた。
(Refer to Japanese Patent Publication No. 46-19472) Problems to be Solved by the Invention Such conventional voltage nonlinear elements, including ZnO varistors, have limitations in making the element thickness thin (several tens of μm or less). Therefore, there is a limit to lowering the varistor voltage (expressed as the voltage v + mA when a current of 111 tm flows through the varistor), and it can be used as a protection element for low voltage ICs or as a voltage stabilizing element at low voltages. It was something that didn't exist. In addition, as mentioned above, when firing
Since this method requires a high-temperature process of C or higher, there is a problem in that a voltage nonlinear element cannot be directly formed on a glass substrate or a circuit board. Furthermore, conventional devices have a large parallel capacitance, making them unsuitable for use as switching elements for liquid crystals, for example, and causing problems.

問題点を解決するだめの手段 この問題点を解決するために本発明は、無機質半導体の
微粉末に無機または有機化合物を添加し1混合した後、
600〜1350°Cで熱処理を行い。
Means to Solve the Problem In order to solve this problem, the present invention adds an inorganic or organic compound to a fine powder of an inorganic semiconductor, and after mixing,
Heat treatment is performed at 600-1350°C.

無機質半導体微粉末の表面に無機質絶縁被膜を形成させ
ると共に、その絶縁被膜を表面に有した微粉末状の上記
無機質半導体の全部またはほとんどがそれぞれ複数個集
まった状態となるようにし、その後微粉末状の無機質半
導体が複数個集まった状態の粉末または一部に上記微粉
末を含む粉末に絶縁性の有機接着剤かまたはガラス粉末
と有機バイングーを加え、ペイント状にし、次いで上記
ペイントを電極を配した絶縁基板上に印刷、スプレーま
たは浸漬などによって塗布した後、熱処理を行って硬化
させることを特徴とするものである。
An inorganic insulating film is formed on the surface of the inorganic semiconductor fine powder, and all or most of the finely powdered inorganic semiconductors having the insulating film on the surface are gathered together, and then the fine powder is formed. An insulating organic adhesive or glass powder and an organic binder are added to a powder in which a plurality of inorganic semiconductors are assembled or a part of the powder contains the above-mentioned fine powder to form a paint, and then the above-mentioned paint is applied to an electrode. It is characterized in that it is applied onto an insulating substrate by printing, spraying, dipping, etc., and then heat-treated to harden it.

作用 この方法によれば、低電流域においても電圧非直線指数
αの大きなものが得られ、かつ電極間距離を狭く(数十
μm以下)して素子を形成することができ、低電圧化に
適した素子がきわめて容易に得られることとなる。また
、塗布したペイントを低い温度で硬化させて作ることが
できるため、回路基板上に素子を直接形成することがで
き。
Effect: According to this method, a large voltage non-linearity index α can be obtained even in a low current range, and an element can be formed with a narrow distance between electrodes (several tens of μm or less), making it possible to reduce the voltage. A suitable element can be obtained very easily. Additionally, since it can be made by curing the applied paint at low temperatures, it is possible to form elements directly on the circuit board.

ZnOバリスタなどでは考えられない幅広い用途が期待
できるものである。さらに、得られた素子は微粉末状の
半導体物質を固めたものであるため1それぞれの半導体
物質の微粉末間は点接触となり、接触面積が小さいこと
から並列静電容量の小さなものが得られ、液晶などのデ
バイスのスイッチング素子として最適な素子が提供でき
ることとなる。
It can be expected to have a wide range of applications that cannot be imagined with ZnO varistors or the like. Furthermore, since the obtained device is made of solidified semiconductor material in the form of fine powder, there is point contact between the fine powders of each semiconductor material, and since the contact area is small, a device with a small parallel capacitance can be obtained. , it is possible to provide an element that is optimal as a switching element for devices such as liquid crystals.

実施例 以下、本発明を実施例にもとすいて詳細に説明する。Example Hereinafter, the present invention will be explained in detail using examples.

第1図は本発明の製造方法による製造工程の一実施例を
示している。まず1粒子径が0.06〜1μmの微粒子
状の酸化亜鉛を700〜1300′Cで焼成した後、そ
の焼結されたZnOを0.5〜50μmの粒子径(平均
粒子径1〜10μm)に粉砕し、そのZnO微粉末に酸
化コバルトを0.05〜10mo1%添加し、600〜
136o0Cで10〜60分間、熱処理し、そのZnO
微粉末表面に酸化コバルトの絶縁被膜を形成した。この
時、微粉末状のZnOの表面にはCO□03絶縁被膜が
ほぼ数十〜数百への厚さで薄く形成されていることが認
められた。次いで、このようにして作成したC’20!
l絶縁被膜が表面についたZnO微粉末は弱い力で互い
に接着しているので、これを乳鉢あるいはポットミルで
ほぐし、上記ZnO微粉末がそれぞれ複数個集まった微
粉末群の状態とした(以下、この状態のものを粉末状と
いう)。この時、一部に上記ZnO微粉末が単独で存在
しても差支えないものであり、このようなZnO微粉末
を一部に含んでの状態のものも粉末状という。次に、上
記のようにして得られたCO□03絶縁被膜が表面に形
成された粉末状のZnOに、粉末間の結合を図る結合剤
(バインダー)としてポリイミド樹脂を添加し、混合し
た。ここで、結合剤としてはポリイミド樹脂の固形分矛
;溶剤(例えばn−メチル−2−ピロリドン)に対して
Swt%となるように薄めたものとし、それをZnO粉
末と例えば等重量で混合し、ペイント状とした。次いで
、上記のようにして得られたペイントを第3図に示すよ
うにITO(インジウム・スズ酸化物)電極1の設けら
れたガラス基板3上に例えばスクリーン印刷で塗布し、
その上に同じ(ITO電極2の設けられたガラス基板4
を載置し、28o〜4oO°Cで30分間、大気中で硬
化させ、電極1.2間に電圧非直線性素子5を設けた。
FIG. 1 shows an embodiment of the manufacturing process according to the manufacturing method of the present invention. First, fine particulate zinc oxide with a particle size of 0.06 to 1 μm is fired at 700 to 1300'C, and then the sintered ZnO is heated to a particle size of 0.5 to 50 μm (average particle size of 1 to 10 μm). 0.05 to 10 mo1% of cobalt oxide was added to the ZnO fine powder,
Heat treated at 136 o 0 C for 10 to 60 minutes, and
An insulating film of cobalt oxide was formed on the surface of the fine powder. At this time, it was observed that a thin CO□03 insulating film was formed on the surface of the finely powdered ZnO to a thickness of approximately several tens to several hundreds. Next, C'20! created in this way!
Since the ZnO fine powders with the insulating coating attached to their surfaces adhere to each other with weak force, they were loosened in a mortar or pot mill to form a fine powder group in which multiple pieces of each of the above ZnO fine powders were gathered (hereinafter, this (The state is called powder). At this time, there is no problem even if the ZnO fine powder is present alone in a part, and a state containing such ZnO fine powder in a part is also referred to as powder. Next, a polyimide resin was added as a binder for bonding the powders to the powdered ZnO on which the CO□03 insulation film obtained as described above was formed and mixed. Here, the binder is a solid content of polyimide resin; it is diluted to Swt% with respect to the solvent (for example, n-methyl-2-pyrrolidone), and it is mixed with ZnO powder in an equal weight, for example. , in the form of paint. Next, the paint obtained as described above is applied, for example, by screen printing, onto a glass substrate 3 provided with an ITO (indium tin oxide) electrode 1, as shown in FIG.
On top of that is the same (glass substrate 4 provided with ITO electrode 2)
was placed and cured in the air at 28° to 40° C. for 30 minutes, and a voltage nonlinear element 5 was provided between the electrodes 1.2.

第2図は、電圧非直線性素子5の拡大断面図であり、6
はZnO粉末、7はZnO粉末6の表面に施されたCO
□0.絶縁被膜、8はそれらZnO粉末6間を機械的に
結合している結合剤であり、この結合剤8でもってZn
O粉末6の間は互いに固められている。第4図はITO
電極1&、1bが設けられたガラス基板3a上に電圧非
直線性素子6を構成した場合を示している。
FIG. 2 is an enlarged sectional view of the voltage nonlinear element 5, and 6
7 is the ZnO powder, and 7 is the CO applied to the surface of the ZnO powder 6.
□0. The insulating coating 8 is a binder that mechanically binds the ZnO powders 6 together, and this binder 8
The O powders 6 are solidified together. Figure 4 shows ITO
A case is shown in which a voltage nonlinear element 6 is constructed on a glass substrate 3a provided with electrodes 1&, 1b.

次に、上記のようにして作成された電圧非直線性素子の
電圧−電流特性について説明する。まず、第6図は第3
図の構成における電圧−電流特性を従来のZnOバリス
タのそれと比較して示している。
Next, the voltage-current characteristics of the voltage nonlinear element created as described above will be explained. First, Figure 6 shows the 3rd
The voltage-current characteristics of the configuration shown in the figure are compared with those of a conventional ZnO varistor.

本発明の素子は、まず酸化亜鉛を了oo°Cで焼成し、
これにCO□03を0.5 mo1%添加したものを9
00’C,60分間熱処理した後、この平均粒子径5〜
1oμmのZnO粉末と結合剤とを等重量で混合したも
のにおいて1素子面積を1−1電極間距離を30μmと
した場合における特性を示している。さて、電圧非直線
性素子の電圧τ電流特性は、よく知られているように近
似的に次式で示されている。
The device of the present invention is produced by first firing zinc oxide at 00°C,
To this, 0.5 mo1% of CO□03 was added and 9
After heat treatment at 00'C for 60 minutes, the average particle size was 5~
The graph shows the characteristics when the area of one element is set to 1-1 and the distance between the electrodes is 30 μm in a mixture of 1 μm ZnO powder and a binder in equal weights. Now, as is well known, the voltage τ current characteristic of a voltage nonlinear element is approximately expressed by the following equation.

I=KVa ここで、工は素子に流れる電流、Vは素子の電極間の電
圧、Kは固有抵抗の抵抗値に相当する定数、αは上述し
た電圧非直線特性の指数を示しており1この電圧非直線
指数αは大きい程、電圧非直線性が優れていることにな
る。
I=KVa Here, E is the current flowing through the element, V is the voltage between the electrodes of the element, K is a constant corresponding to the resistance value of the specific resistance, and α is the exponent of the voltage nonlinear characteristic mentioned above. The larger the voltage nonlinearity index α is, the better the voltage nonlinearity is.

第6図の特性に示されるように、特性Bで示される従来
のZnOバリスタは低電流域において電圧非直線指数α
が小さく+10A以下の電流では良好な電圧非直線性素
子としての機能を発揮し得ない。一方、特性人で示され
る本発明の素子では低電流域においても電圧非直線指数
αが大きく、1o 程度度の電流域でも十分に電圧非直
線性素子としての機能を発揮することができることを示
している。また、通常、 znoバリスタにおいてはバ
リスタ特性を表わすのに、例えば素子に1m人の電流を
流した時の電極間に現れる電圧をバリスタ電圧v1.!
I人と呼び、このバリスタ電圧v、IIIAと上記電圧
非直線指数αとを使用している。本発明の素子では、上
述したように、低電流域においても電圧非直線指数αが
大きく、バリスタ電圧を第5図に示すように例えばv、
1ムで表わすことができる。
As shown in the characteristics in Figure 6, the conventional ZnO varistor shown in characteristic B has a voltage nonlinearity index α in the low current range
If the voltage is small and the current is less than +10 A, it cannot function as a good voltage nonlinear element. On the other hand, the voltage nonlinearity index α of the device of the present invention shown by the characteristics is large even in the low current range, indicating that it can sufficiently function as a voltage nonlinearity device even in the current range of about 1o. ing. Furthermore, in order to express the varistor characteristics of a ZNO varistor, for example, the voltage that appears between the electrodes when a current of 1 m is applied to the element is expressed as the varistor voltage v1. !
This varistor voltage v, IIIA and the voltage non-linearity index α are used. As mentioned above, in the device of the present invention, the voltage nonlinearity index α is large even in the low current range, and the varistor voltage is changed to v, for example, as shown in FIG.
It can be expressed in 1 mm.

このように本発明において、バリスタ電圧を低いものと
することができるのは、電極間距離を狭くして素子を形
成することができるためである。
In this way, in the present invention, the varistor voltage can be made low because the element can be formed by narrowing the distance between the electrodes.

また、本発明素子において低電流域でも電圧非直線指数
αが大きい理由は、現在のところ理由は明確とはなって
いないが、粉末状の半導体物質(zno)を結合剤でも
って固めたものであるため、それぞれの半導体物質の間
は点接触となり1接触面積が小さいこと、また結合剤が
絶縁性のため。
Furthermore, the reason why the voltage nonlinearity index α is large even in the low current range in the device of the present invention is not clear at present, but it is because the powdered semiconductor material (zno) is hardened with a binder. Because of this, there is a point contact between each semiconductor material, and the area of contact is small, and because the bonding agent is insulating.

漏れ電流が小さくなっていることによるものと考えられ
る。
This is thought to be due to the decrease in leakage current.

ここで、第6図の特性は上述したように電極間距離を3
0μmとした素子についてのものであるが、これはZn
O粉末の平均粒子径が5〜10μmという比較的大きな
粒子径のためにこれ以上狭くすることができないからで
ある。すなわち、  ZnO粉末の平均粒子径が0.3
〜3μmのものを使えば、電極間距離が10μm程度も
しくはそれ以下の素子を作ることができるのであり、そ
の場合においても第6図に示すような良好な特性が得ら
れることを本発明者らは実験により確認した。
Here, the characteristics shown in FIG. 6 are as follows when the distance between the electrodes is 3
This is for an element with a thickness of 0 μm;
This is because the average particle diameter of the O powder is relatively large, 5 to 10 μm, and cannot be made any narrower. That is, the average particle diameter of ZnO powder is 0.3
The inventors have found that if a material with a diameter of ~3 μm is used, it is possible to create an element with an interelectrode distance of approximately 10 μm or less, and even in that case, good characteristics as shown in FIG. 6 can be obtained. was confirmed by experiment.

第6図は本発明において、酸化コバルトの添加量を変え
た場合のバリスタ電圧v、1人、電圧非直線指数αおよ
び並列静電容量Cの変化する様子を示している。ここで
1酸化亜鉛の焼成温度など、その他の条件は第5図の場
合の条件と同一とした。
FIG. 6 shows how the varistor voltage v, the voltage nonlinearity index α, and the parallel capacitance C change when the amount of cobalt oxide added is changed in the present invention. Here, other conditions such as the firing temperature of zinc monoxide were the same as those in the case of FIG.

第6図に示されるように、本発明素子においては並列静
電容量が従来のZnOバリスタが100o〜20000
PFであるのに対して非常に小さいものとなっている。
As shown in FIG. 6, in the device of the present invention, the parallel capacitance of the conventional ZnO varistor is 100° to 20,000°.
Although it is a PF, it is very small.

この並列静電容1Cが本発明素子において小さい理由は
、上述したように半導体物質間の接触面積が小さいこと
によるものである。
The reason why this parallel capacitance 1C is small in the device of the present invention is that the contact area between the semiconductor materials is small, as described above.

また、下記に示す第1表は、本発明において酸化コバル
トの添加量と熱処理温度を変えた場合のバリスタ電圧7
18人、電圧非直線指数αおよび並列静電容量Cの変化
する様子を示した表である。
Table 1 below shows the varistor voltage 7 when the amount of cobalt oxide added and the heat treatment temperature are changed in the present invention.
18 is a table showing how the voltage non-linearity index α and the parallel capacitance C change.

(以下金 白) 上記第1表および第6図より明らかなように。(Hereinafter referred to as gold and white) As is clear from Table 1 and FIG. 6 above.

各特性値は酸化コバルトの添加量と熱処理温度に依存し
ていることがわかる。ここで、酸化コバルトの添加量は
O,OS〜3m01%で特に良好な特性を示した。また
、熱処理温度は酸化コバルトの添加量にもよるが、60
0〜1350’Cの範囲で良好な特性を示した。この熱
処理温度が上記温度範囲以外、例えば600°C未満で
は十分な絶縁被膜の形成が困難であることや1350°
Cを超えた温度では電圧非直線指数αが必要とする値以
下になるなどの原因で良好な特性が得られないのである
It can be seen that each characteristic value depends on the amount of cobalt oxide added and the heat treatment temperature. Here, particularly good characteristics were exhibited when the amount of cobalt oxide added was O,OS~3m01%. In addition, the heat treatment temperature depends on the amount of cobalt oxide added, but
It showed good characteristics in the range of 0 to 1350'C. If the heat treatment temperature is outside the above temperature range, for example below 600°C, it may be difficult to form a sufficient insulating film;
At temperatures exceeding C, good characteristics cannot be obtained because the voltage nonlinearity index α becomes less than the required value.

なお、上記の実施例においては、半導体物質としては、
  ZnOを例にとり説明したが、それ以外の半導体物
質であっても差支えないことはもちろんである。また、
同様に絶縁被膜を構成する材料としては、  Co20
.に限られることはなく、ム/、Ti。
In addition, in the above embodiment, the semiconductor material is
Although ZnO has been described as an example, it goes without saying that other semiconductor materials may be used. Also,
Similarly, the material constituting the insulating film is Co20
.. but not limited to Mu/, Ti.

Sr、Mg、Ni、Cr、Si  などの金属酸化物ま
たはこれら金属の有機金属化合物などでもよいものであ
り、それらを単独または組合せて使用することができる
ものでちる。
Metal oxides such as Sr, Mg, Ni, Cr, and Si or organometallic compounds of these metals may be used, and these may be used alone or in combination.

さらに、粉末状の半導体物質を固める結合剤としては、
ポリイミド樹脂以外の絶縁性の有機接着剤でもよく、熱
硬化性樹脂、たとえばフェノール樹脂、フラン樹脂、エ
リア樹脂、メラミン樹脂。
Furthermore, as a binder for solidifying powdered semiconductor materials,
Insulating organic adhesives other than polyimide resins may also be used, such as thermosetting resins such as phenolic resins, furan resins, area resins, and melamine resins.

不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ケイ素樹脂などでも良
いものであり、さらにはガラス粉末と有機バインダーと
を組合せた形で用いてもよいものである。
Unsaturated polyester resins, diallyl phthalate resins, epoxy resins, polyurethane resins, silicone resins, and the like may also be used, and furthermore, a combination of glass powder and an organic binder may be used.

また、上記の実施例では素子の形成をスフIJ +ン印
刷法により行ったが、それ以外の塗布法、例えばスプレ
ー、浸漬などの方法で行ってもよいものである。
Further, in the above embodiments, the elements were formed by the double IJ+ printing method, but other coating methods such as spraying, dipping, etc. may be used.

さらにまた、上記実施例による製造方法では。Furthermore, in the manufacturing method according to the above embodiment.

まず最初に無機質半導体である微粒子状のZnOを熱処
理、粉砕し、粉末とした後に、絶縁性の無機質化合物で
あるCo20sを添加し、その後熱処理を行ったが、こ
れは無機質半導体の微粉末に直接無機質化合物を添加す
るようにし、上記無機質半導体微粒子の焼成、粉砕とい
う処理工程を省略しても差支えないものである。
First, fine-particle ZnO, which is an inorganic semiconductor, was heat-treated and pulverized to form a powder. Co20s, an insulating inorganic compound, was then added and then heat-treated. It is possible to add an inorganic compound and omit the processing steps of firing and pulverizing the inorganic semiconductor fine particles.

発明の効果 以上の説明より明らかなように本発明方法により得られ
た電圧非直線性素子は、低電流域における電圧非直線指
数αが大きく、また並列静電容量の小さな素子が得られ
ることから、消費電流の小サイ液晶、ICI、などのデ
バイスのスイッチング素子として最適な素子を提供でき
るものである。また、電極間距離を狭くして素子を形成
することができるため、バリスタ電圧の低いものが得ら
れ、上記電圧非直線指数αが大きいことと相まって従来
のZnOバリスタでは対応することのできなかった低電
圧用ICの保護素子や低い電圧における電圧安定化素子
として使用することができる。さらに、塗布したペイン
トを低い温度で硬化させて簡単にして作ることができる
ため、回路基板上やガラス基板上に素子を直接形成する
ことができるものである。このように種々の特徴を有す
る本発明の電圧非直線性素子は、今までのZnOバリス
タなどでは考えられない幅広い用途が期待できるもので
ちり、その産業性は大なるものである。
Effects of the Invention As is clear from the above explanation, the voltage nonlinear element obtained by the method of the present invention has a large voltage nonlinearity index α in the low current region, and also has a small parallel capacitance. It is possible to provide an element that is most suitable as a switching element for devices such as , small-sized liquid crystal, ICI, etc. with small current consumption. In addition, since the device can be formed with a narrow distance between the electrodes, a low varistor voltage can be obtained, which, combined with the large voltage nonlinearity index α mentioned above, cannot be achieved with conventional ZnO varistors. It can be used as a protection element for low voltage ICs or as a voltage stabilizing element at low voltages. Furthermore, since the applied paint can be cured at low temperatures and easily manufactured, elements can be directly formed on circuit boards or glass substrates. The voltage non-linear element of the present invention having such various characteristics can be expected to have a wide range of applications unimaginable for conventional ZnO varistors, and has great industrial potential.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明方法による電圧非直線性素子の製造方法
の工程を示す図1第2図は本発明方法により得られた電
圧非直線性素子の一実施例を示す拡大断面図、第3図お
よび第4図はそれぞれ本発明の素子をガラス基板上に設
けた実施例を示す断面図、第6図は本発明方法により得
られた素子と従来のZnOバリスタの電圧−電流特性を
示す図、第6図は本発明方法による素子においてCo2
O3の添加量を変えた場合の電圧非直線指数α、バリス
タ電圧v111人および並列静電容量Cの変化する様子
を示す図である。 1.1&、1t)、2−・・・−ITO電極、3.31
゜4・・・・・・ガラス基板、6・・・・・・電圧非直
線性素子、6・・・・・・ZnO粉末、7・・・・・・
Co20.絶縁被膜、8・・・・・・結合剤。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 第3図 第5図 一士を圧(Vジ
FIG. 1 shows the steps of a method for manufacturing a voltage nonlinear element according to the method of the present invention. FIG. 2 is an enlarged sectional view showing an example of a voltage nonlinear element obtained by the method of the present invention. 4 and 4 are cross-sectional views showing examples in which the device of the present invention is provided on a glass substrate, respectively, and FIG. 6 is a diagram showing the voltage-current characteristics of the device obtained by the method of the present invention and a conventional ZnO varistor. , FIG. 6 shows Co2 in the device according to the method of the present invention.
FIG. 6 is a diagram showing how the voltage non-linearity index α, the varistor voltage v111, and the parallel capacitance C change when the amount of O3 added is changed. 1.1&, 1t), 2-...-ITO electrode, 3.31
゜4...Glass substrate, 6...Voltage nonlinear element, 6...ZnO powder, 7...
Co20. Insulating coating, 8...Binding agent. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person No. 1
Figure 2 Figure 3 Figure 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  無機質半導体の微粉末に無機または有機化合物を添加
し、混合した後、600〜1350℃で熱処理を行い、
無機質半導体微粉末の表面に無機質絶縁被膜を形成させ
ると共に、その絶縁被膜を表面に有した微粉末状の上記
無機質半導体の全部またはほとんどがそれぞれ複数個集
まった状態となるようにし、その後微粉末状の無機質半
導体が複数個集まった状態の粉末または一部に上記微粉
末を含む粉末に絶縁性の有機接着剤かまたはガラス粉末
と有機バインダーを加え、ペイント状にし、次いで上記
ペイントを電極を配した絶縁基板上に印刷、スプレーま
たは浸漬などによって塗布した後、熱処理を行って硬化
させることを特徴とする電圧非直線性素子の製造方法。
After adding an inorganic or organic compound to a fine powder of an inorganic semiconductor and mixing, heat treatment is performed at 600 to 1350°C,
An inorganic insulating film is formed on the surface of the inorganic semiconductor fine powder, and all or most of the finely powdered inorganic semiconductors having the insulating film on the surface are gathered together, and then the fine powder is formed. An insulating organic adhesive or a glass powder and an organic binder are added to a powder in which a plurality of inorganic semiconductors are assembled or a part of the powder includes the above-mentioned fine powder to form a paint, and then the above-mentioned paint is applied to an electrode. A method for manufacturing a voltage nonlinear element, which comprises applying the coating onto an insulating substrate by printing, spraying, dipping, etc., and then heat-treating and curing the coating.
JP61034654A 1986-02-18 1986-02-18 Manufacturing method of voltage nonlinear element Pending JPS62190817A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009008096A (en) * 2008-09-29 2009-01-15 Kojima Press Co Ltd Oil separator for blow-by gas

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