JPS621937B2

JPS621937B2 -

Info

Publication number: JPS621937B2
Application number: JP57110878A
Authority: JP
Inventors: Debowa Misheru
Original assignee: ROONU PUURAN SUPESHIARITE SHIMIIKU
Current assignee: ROONU PUURAN SUPESHIARITE SHIMIIKU
Priority date: 1982-01-21
Filing date: 1982-06-29
Publication date: 1987-01-16
Also published as: FR2519975B1; FR2519975A1; DE3263737D1; BR8203842A; EP0085265B1; JPS58124732A; ATE13419T1; EP0085265A1; US4446078A; CA1184938A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、α，α−ジフルオルアルコキシ又は
α，α−ジフルオルアルキルチオフエニルケトン
の製造方法を目的とする。従来技術では、この種の化合物の製造を記載す
る文献が知られている。特に、イソプロピルｐ−トリフルオルメトキシ
フエニルケトンの製造を記載するフランス公告特
許第2272079号をあげることができる。これによ
れば、ｐ−ブロムフエニル−トリフルオルメチル
エーテルとマグネシウムからグリニヤール試薬が
調製され、これをイソブチロニトリルと還流下に
反応せしめ、その生成物を加水分解すると所期の
ケトンが得られる。また、類似の方法を記載して
いるフランス公告特許第2194422号をあげること
ができる。この種の方法は、その工業的実施を魅力的なも
のにしない大きな不都合を与える。事実、工程数
が多く、また反応時間も長い。さらに、収率は、
30〜40％になるにすぎないので善くも悪くもな
い。他方、重要なことは、有機マグネシウム及び
それに伴う溶媒の使用が環境に対して危険なもの
であるということである。したがつて、プロセス
の経済性を悪くするような技術的実施計画に対し
ては留意する必要がある。さらに、従来技術では、AlCl₃のようなフリー
デル・クラフト触媒の存在下に芳香族化合物（ト
リフルオルメトキシベンゼン又はトリフルオルメ
チルチオベンゼンは除いて）のアシル化を記載す
る文献（例えば、Olah氏著「フリーデル・クラ
フツ及び関連反応、Part」1964年インターサ
イエンス・パブリツシヤー発行、第８頁以下を参
照）が知られている。しかし、本発明者の実験では、AlCl₃のような
フリーデル・クラフツ触媒は出発芳香族化合物が
OCF₃又はSCF₃基を含むときには有効でないこと
が示された。同様に、これらは分解する。また、典型的な触媒である硫酸の存在下では、
OCF₃及びSCF₃基も同様に分解する。本発明者は、ここに、従来技術では達成できな
かつた、ポリハロゲノアルコキシ置換基、特にト
リハロゲノメトキシ基又はポリハロゲノアルキル
チオ置換基、特にトリハロゲノメチルチオ基を有
する芳香族化合物に対するアシル化反応の実施を
可能ならしめる操作条件を見出した。したがつて、本発明は、ポリハロゲノアルコキ
シベンゼン又はポリハロゲノアルキルチオベンゼ
ンとカルボン酸又はその誘導体とを、反応室内の
三ふつ化ほう素の絶対圧が１バール以上であるよ
うな量の三ふつ化ほう素の存在下に及び溶媒とし
てのふつ化水素の存在下に反応させることを特徴
とするα，α−ジフルオルアルコキシ又はα，α
−ジフルオルアルキルチオフエニルケトンの製造
方法に関する。従来技術では、J.Org.Chem.Vo126、July、
1961、p.2401−2402中のBuu−Hoi、Xuong両氏
の文献に、ジ−及びトリフエノールやα−及びβ
−ナフトールとカルボン酸とを、フルオロほう酸
カリウムに発煙硫酸を反応させることにより生ず
るガスの存在下で縮合させることによつてこれら
のフエノールから誘導されるフエノールケトンの
合成が記載されていることが知られている。この
ガスは、主としてフルオロスルホン酸のような他
の化合物の他に三ふつ化ほう素とふつ化水素を含
有する。この文献によれば、ふつ化水素は、三ふ
つ化ほう素の凝縮性を除去する。しかし、この刊
行物に記載された反応はキシレンのような溶媒中
で行なわれることに注目されたい。さらに、関与
する芳香族化合物がフエノール、したがつて活性
な置換基（OH）を含むベンゼンであることに注
目すべきである。しかし、このような方法は、溶
媒がカルボン酸、その先駆物質又はその誘導体と
反応し、そしてポリハロゲノアルコキシ又はポリ
ハロゲノアルキルチオベンゼンがキシレンよりも
活性でないという点で、α，α−ジフルオルアル
コキシ又はジフルオルアルキルチオフエニルケト
ンの製造には適用することができない。さらに、フルオロほう酸カリウムに発煙硫酸を
作用させることにより生ずるガスは、本発明に従
う方法に用いられる三ふつ化ほう素−ふつ化水素
酸の組合せと同一視することはできない。事実、
本発明では液体状態のふつ化水素が溶媒の役割を
果すが、上記の文献ではふつ化水素はガス状であ
るのである。本発明において、ポリハロゲノアルコキシベン
ゼン又はポリハロゲノアルキルチオベンゼンと
は、一方においては、これらの化合物自体を、そ
して他方においてはベンゼン核を置換する基が存
在するそれらの対応同族体を意味する。さらに、詳しくは、本発明が係るポリハロゲノ
アルコキシベンゼン又はポリハロゲノアルキルチ
オベンゼンは、次の一般式〔ここで、X₁及びX₂は、同一又は異なつてい
てよく、Cl、Br、Ｉ又はＦを表わし、 X₃、X₄及びX₅は、同一又は異なつていてよ
く、Ｈ、Cl、Br、Ｉ又はＦを表わし、ｎは０以上から５以下までの間の整数であり、
（０ｎ５）、ＡはＯ又はＳであり、 R₁は水素、１〜６個の炭素原子を有するアル
キル基、Cl、Br、Ｉ及びＦよりなる群から選ば
れる基を表わす〕を有する。ｎ＝０又は１であり且つX₁、X₂及びX₃が同一
である式の化合物は、本発明に特に関係があ
る。これらの中でも、X₁、X₂及びX₃がふつ素で
ある化合物が好ましくは用いられる。式の化合物の例としては、下記の化合物をあ
げることができる。トリフルオルメトキシベンゼ
ン、トリフルオルメチルチオベンゼン、ｏ−、ｍ
−及びｐ−クロルトリフルオルメトキシベンゼ
ン、ｏ−、ｍ−及びｐ−クロルトリフルオルメチ
ルチオベンゼン、ｏ−、ｍ−及びｐ−ブロムトリ
フルオルメチルチオベンゼン、ｏ−、ｍ−及びｐ
−ブロムトリフルオルメトキシベンゼン、ｏ−、
ｍ−及びｐ−メチルトリフルオルメトキシベンゼ
ン、ｏ−、ｍ−及びｐ−メチルトリフルオルメチ
ルチオベンゼン、ジフルオルブロムメトキシベン
ゼン、ジフルオルブロムメチルチオベンゼン、ジ
クロルフルオルメトキシベンゼン、ジクロルフル
オルメチルチオベンゼン、ジフルオルクロルメト
キシベンゼン、ジフルオルクロルメチルチオベン
ゼン、α，α，β，β，β−ペンタクロルエトキ
シベンゼン、α，α，β，β，β−ペンタクロル
エチルチオベンゼン、ジフルオルメトキシベンゼ
ン、ジフルオルメチルチオベンゼン、α，α，
β，β−テトラフルオルエトキシベンゼン、α，
α，β，β−テトラフルオルエチルチオベンゼ
ン、α，α，β，β−テトラフルオル−β−ブロ
ムエトキシベンゼン、α，α，β，β−テトラフ
ルオル−β−ブロムエチルチオベンゼンα，α−
ジフルオル−β，β，β−トリクロルエトキシベ
ンゼン。また、本発明において、カルボン酸又はその誘
導体は、次の一般式 R₂−COX₆ （）〔ここで、R₂は脂肪族又は芳香族基を表わ
し、X₆はハロゲン、OH又はOCOR₂（ここでR₂
は前記の意味を有する）を表わす〕に相当する。式において、R₂はアルキル、フエニル、ア
ルキルフエニル、又はハロゲン、若しくはトリフ
ルオルメチル基を含むフエニル基を表わす。このような化合物の例としては、塩化アセチ
ル、酢酸、無水酢酸、塩化ベンゾイル、安息香
酸、無水安息香酸、塩化ｏ−クロルベンゾイル、
塩化ｐ−クロルベンゾイル、塩化ｐ−フルオルベ
ンゾイル、ふつ化ｐ−トリフルオルメチルベンゾ
イル、ふつ化ｏ−トリフルオルメチルベンゾイ
ル、塩化イソブチロイル、イソ酪酸、プロパン
酸、塩化プロパノイル、塩化ｐ−トルイルをあげ
ることができる。本発明の方法は、好ましくは、ふつ化水素対式
の化合物のモル比が５〜50であるような量のふ
つ化水素を用いて実施される。さらに好ましく
は、この比は10〜30である。用いられるふつ化水素は無水である。水性ふつ
化水素酸の使用は、HF・BF₃・H₂O
（H₃O⁺BF₄ ^-）の形で三ふつ化ほう素の無駄な消費
をもたらす。式との化合物は、ほぼ等モル量で用いられ
る。しかし、前者を僅かに過剰で用いるのが望ま
しいであろう。三ふつ化ほう素は、反応器内のBF₃の絶対圧が
６〜20バールであるような量で用いるのが特に好
ましい。圧力が高くなれば、反応速度も大きくな
る。20バールよりも高い圧力は本発明の範囲から
排除するわけではないが、特別の利益をもたらす
ものでもない。したがつて、当業者ならば圧力を
プロセスの経済性に順応させよう。本発明の方法は、好ましく−20℃〜150℃の温
度で実施される。反応時間は、一般には数時間である。本発明の方法により得られるα，α−ジフルオ
ルアルコキシ又はα，α−ジフルオルアルキルチ
オフエニルケトンは、次の一般式（ここで、Ａ、R₁、R₂、X₃、X₄、X₅及びｎは
前記の意味を有する）を有する。 HF媒体中で行われる反応の場合、式の化合
物において、ｎ＝０であり且つX₃がハロゲンで
あるときは、得られる化合物はＡ−CF₃置換基を
含む（Ａ−CCl₃、Ａ−CBr₃、Ａ−Cl₃、Ａ−
CF₂Br、Ａ−CCl₂F₁、Ａ−CF₂ClなどはＡ−CF₃
に変換される）。ｎ＝０であり且つX₃がＨである
ときは、得られる化合物はＡ−CF₂H置換基を含
む。ｎが０よりも大であるときは、置換基X₁及
びX₂の一つは、それが最初からふつ素原子でな
ければ、ふつ素原子で変えられる。Ａ−CF₂C_oX₃（X₄）_o（X₅）_o及びR₁基に対する
−COR₂基の位置は、有機化学において周知の置
換法則に従う。本発明の方法で得られるケトンは、特に、製薬
又は植物の成長を促進し著しくは病気を防除する
活性を有する化合物の合成中間体として用いられ
る。本発明の方法により製造できる化合物の例とし
ては、４−トリフルオルメトキシ−2′−クロルベ
ンゾフエノン、４−トリフルオルメトキシ−4′−
クロルベンゾフエノン、４−トリフルオルメトキ
シベンゾフエノン、４−トリフルオルメトキシア
セトフエノン、４−トリフルオルメトキシイソブ
チロフエノン、４−トリフルオルメトキシ−4′−
フルオルベンゾフエノン、４−トリフルオルメト
キシ−4′−トリフルオルメチルベンゾフエノン、
４−トリフルオルメトキシ−2′−トリフルオルメ
チルベンゾフエノン、２−トリフルオルメトキシ
−４−クロル−4′−フルオルベンゾフエノン、３
−トリフルオルメトキシ−4′，６−ジクロルベン
ゾフエノン、２−トリフルオルメトキシ−4′，５
−ジクロルベンゾフエノン、４−ジフルオルメト
キシ−4′−フルオルベンゾフエノン、４−（α，
α−ジフルオル−β，β，β−トリクロルエトキ
シ）−4′−クロルベンゾフエノン、４−α，α，
β，β−テトラフルオルエトキシ−4′−フルオル
ベンゾフエノン、４−（α，α，β，β−テトラ
フルオル−β−ブロムエトキシ）−2′−フルオル
ベンゾフエノンがあげられる。同様に、これらの
化合物のチオ同族体をあげることができる。本発明を下記の例により詳述する。これらは本
発明を何ら制限するものではない。例１磁気撹拌系を備えた不銹製反応器に０℃附近で
100mlの無水HF、23.6ｇ（0.3モル）の塩化アセ
チル及び32.4ｇ（0.2モル）のトリフルオルメト
キシベンゼンを導入する。反応器を閉じ、次いで
ガス状三ふつ化ほう素（BF₃）を６バールの一定
圧となるまで導入する。次いでかきまぜながら周
囲温度で３時間反応させる。反応後、反応器を大
気圧まで減圧させ、次いで反応混合物を200ｇの
砕氷上に往下させる。次いで、そのように得られ
た不物質混合物を200c.c.の塩化メチレンで抽出す
る。有機相を200c.c.の水で３回、200c.c.の３％か性
カリ水溶液で１回、そして200c.c.の水で洗う。そ
のように処理した有機相を硫酸マグネシウムで乾
燥し、溶媒を減圧蒸留により除去する。このよう
にして、37.2ｇ（収率91％）のｐ−トリフルオル
メトキシアセトフエノンを96.3％純度で得た。例２下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇトリフルオルメトキシベンゼン
32.4ｇ 0.2モル塩化ｏ−クロルベンゾイル 35ｇ 0.2モル三ふつ化ほう素６バール 20℃ 温度 20℃ 時間１時間 53.3ｇ（収率88.7％）の液状４−トリフルオル
メトキシ−2′−クロルベンゾフエノンを95.5％で
得た。例３下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇトリフルオルメトキシベンゼン
32.4ｇ 0.2モル塩化イソブチロイル 23ｇ 0.216モル三ふつ化ほう素 10バール 20℃ 温度 20℃ 時間 20時間 27.8ｇ（収率60％）の液状ｐ−トリフルオルメ
トキシイソブチロフエノンを70％純度で得た。１
回の蒸留で17ｇのｐ−トリフルオルメトキシイソ
ブチロフエノンが99.5％純度で得られた（BP＝
105℃／10mmHg）。例４下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇトリフルオルメトキシベンゼン
32.4ｇ 0.2モル塩化ｐ−クロルベンゾイル 35ｇ 0.2モル三ふつ化ほう素 10バール 20℃ 温度５℃ 時間３時間 55.1ｇ（収率91.7％）の４−トリフルオルメト
キシ−4′−クロルベンゾフエノンを98.2％の純度
で得た。融点74.5〜75℃（MeOH）。例５下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇトリフルオルメトキシベンゼン
32.4ｇ 0.2モル塩化ｐ−フルオルベンゾイル 31.7ｇ 0.2モル三ふつ化ほう素８バール 20℃ 温度 20℃ 時間 24時間 52.2ｇ（収率92％）の４−トリフルオルメトキ
シ−4′−フルオルベンゾフエノンを99％純度で得
た。融点42〜43℃（MeOH）。例６下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇトリフルオルメトキシベンゼン
32.4ｇ 0.2モル無水安息香酸 22.6ｇ 0.1モル三ふつ化ほう素 10バール 20℃ 温度 40℃ 時間２時間 45.8ｇ（収率86％）の４−トリフルオルメトキ
シベンゾフエノンを95％純度で得た。例７下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇトリフルオルメトキシベンゼン
32.4ｇ 0.2モル安息香酸 24.4ｇ 0.2モル三ふつ化ほう素 10バール 20℃ 温度 50℃ 時間３時間 40.3ｇ（収率75.7％）の４−トリフルオルメト
キシベンゾフエノンを96％純度で得た。例８下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇトリフルオルメトキシベンゼン
32.4ｇ 0.2モルふつ化ｐ−トリフルオルメチルベンゾイル
38.4ｇ 0.2モル三ふつ化ほう素６バール 20℃ 温度 30℃ 時間１時間 48ｇ（収率71.8％）の４−トリフルオルメチル
−4′−トリフルオルメトキシベンゾフエノンを
99.2％純度で得た。融点61.5〜62℃（MeOH）。例９下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇトリフルオルメトキシベンゼン
32.4ｇ 0.2モルふつ化ｏ−トリフルオルメチルベンゾイル
38.4ｇ 0.2モル三ふつ化ほう素６バール 20℃ 温度 30℃ 時間２時間 61ｇ（収率91.3％）の液状２−トリフルオルメ
チル−4′−トリフルオルメトキシベンゾフエノン
を95％純度で得た。例 10 下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 130ｇトリフルオルメトキシベンゼン
32.4ｇ 0.2モル塩化イソブチロイル 23.5ｇ 0.22モル三ふつ化ほう素 23バール０℃ 温度 −10℃ 時間 18時間 38.5ｇ（収率90％）のｐ−トリフルオルメトキ
シイソブチロフエノンを96％純度で得た。例 11 無水ふつ化水素 300ｇトリフルオルメトキシベンゼン
97.2ｇ 0.6モル塩化イソブチロイル 64ｇ 0.6モル三ふつ化ほう素 15バール −15℃ 温度 −15℃ 時間 18時間 102.6ｇ（収率80％）のｐ−トリフルオルメト
キシイソブチロフエノンを95％純度で得た。この例では、15℃で減圧（100mmHg）蒸留によ
るHF溶媒の除去を行つた。例 12 下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇトリフルオルメチルチオベンゼン
17.8ｇ 0.1モル塩化ｐ−フルオルベンゾイル 15.8ｇ 0.1モル三ふつ化ほう素 10バール 20℃ 温度 20℃ 時間４時間 27ｇ（収率92％）の４−トリフルオルメチルチ
オ−4′−フルオルベンゾフエノンを93％純度で得
た。例 13 下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇトリクロルメトキシベンゼン 42.3ｇ 0.2モル塩化ｐ−フルオルベンゾイル 31.7ｇ 0.2モル三ふつ化ほう素 10バール 20℃ 温度 50℃ 時間２時間 50.2ｇ（収率88.5％）の４−トリフルオルメト
キシ−4′−フルオルベンゾフエノンを94％純度で
得た。反応中にCl−Ｆ交換より生ずる塩化水素の発
生に帰因する圧力増加が認められた。例 14 下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇジフルオルブロムメトキシベンゼン
44.6ｇ 0.2モル塩化ｐ−クロルベンゾイル 35ｇ 0.2モル三ふつ化ほう素 10バール 20℃ 温度 20℃ 時間３時間 53ｇ（収率85％）の４−トリフルオルメトキシ
−4′−クロルベンゾフエノンを94％純度で得た。反応中にBr−Ｆ交換より生ずる臭化水素の発
生に帰因する圧力増加が認められた。例 15 下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇトリクロルメチルチオベンゼン
22.77ｇ 0.1モル塩化ｐ−フルオルベンゾイル 15.8ｇ 0.1モル三ふつ化ほう素 15バール 20℃ 温度 50℃ 時間８時間 25ｇ（収率85％）の４−トリフルオルメチルチ
オ−４−フルオルベンゾフエノンを91％純度で得
た。反応中にCl−Ｆ交換より生ずる塩化水素の発
生に帰因する圧力増加が認められた。例 16 下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇｐ−クロルトリフルオルメトキシベンゼン
19.7ｇ 0.1モル塩化ｐ−クロルベンゾイル 17.5ｇ 0.1モル三ふつ化ほう素６バール 20℃ 温度 120℃ 時間 18時間 8.7ｇ（収率26％）の３−トリフルオルメトキ
シ−4′，６−ジクロルベンゾフエノンと２−トリ
フルオルメトキシ−4′，５−ジクロルベンゾフエ
ノンとの粗混合物を得た。例 17 下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 100ｇ α，α−ジフルオルメトキシベンゼン
28.8ｇ 0.2モル塩化ｐ−フルオルベンゾイル 31.7ｇ 0.2モル三ふつ化ほう素 10バール 20℃ 温度 30℃ 時間３時間 45.5ｇ（収率85％）の粗製４−ジフルオルメト
キシ−4′−フルオルベンゾフエノンを得た。例 18 下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 50ｇ α，α，β，β，β−ペンタクロルエトキシベ
ンゼン５ｇ 0.017モル塩化ｐ−クロルベンゾイル３ｇ 0.017モル三ふつ化ほう素６バール 20℃ 温度 20℃ 時間４時間６ｇ（収率88％）の粗製４−（α，α−ジフル
オル−β，β，β−トリクロルエトキシ）−4′−
クロルベンゾフエノンを得た。例 19 下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 20ｇ α，α，β，β−テトラフルオルエチルチオベンゼン１ｇ 0.005モル塩化ｐ−フルオルベンゾイル0.7ｇ 0.005モル三ふつ化ほう素 12バール 20℃ 温度０℃ 時間３時間 1.2ｇ（収率72％）の粗製４−（α，α，β，β
−テトラフルオルエチルチオ）−4′−フルオルベ
ンゾフエノンを得た。例 20 下記の化合物と条件を用いて例１におけるよう
に実施する。無水ふつ化水素 30ｇ α，α，β，β−テトラフルオル− β−ブロムエチルチオベンゼン２ｇ 0.007
モル塩化ｏ−フルオルベンゾイル1.5ｇ 0.009モル三ふつ化ほう素 12バール 20℃ 温度０℃ 時間４時間 2.1ｇ（収率75％）の粗製４−（α，α，β，β
−テトラフルオル−β−ブロムエチルチオ）−
2′−フルオルベンゾフエノンを得た。参考例 AlCl₃との接触によるC₆H₅ACF₃の分解 C₆H₅ACF₃を溶媒（CCl₄又はC₆H₅F）に溶解
し、次いでAlCl₃を早く又はゆつくりと導入す
る。ガスクロマトグラフイーによつて分解を追跡
する。次のような結果が得られた。【表】

Claims

【特許請求の範囲】１次式〔ここで、X₁及びX₂は、同一又は異なつてい
てよく、Cl、Br、Ｉ又はＦを表わし、 X₃、X₄及びX₅は、同一又は異なつていてよ
く、Ｈ、Cl、Br、Ｉ又はＦを表わし、ｎは０以
上から５以下までの間の整数であり、ＡはＯ又はＳであり、 R₁は水素、１〜６個の炭素原子を有するアル
キル基、Cl、Br、Ｉ又はＦを表わす〕のポリハロゲノアルコキシベンゼン又はポリハロ
ゲノアルキルチオベンゼンと次式 R₂−COX₆ （）〔ここで、R₂がアルキル基、フエニル基、ア
ルキルフエニル基、又はハロゲン若しくはトリフ
ルオルメチル置換基を含むフエニル基を表わし、 X₆はハロゲン、OH又はOCOR₂（R₂は前記の
意味を有する）を表わす〕のカルボン酸又はその誘導体とを、反応室内の三
ふつ化ほう素の絶対圧が１バール以上であるよう
な量の三ふつ化ほう素の存在下に及び溶媒として
のふつ化水素の存在下に反応させることを特徴と
する次の一般式（ここで、X′₃はｎ＝０のときはＨ又はＦを表
わし、ｎが１〜５のときはX₃を表わし、Ａ、
R₁、R₂、X₃、X₄、X₅及びｎは前記の意味を有す
る）のα，α−ジフルオルアルコキシ又はα，α
−ジフルオルアルキルチオフエニルケトンの製造
方法。２式において、ｎ＝０又は１であり、X₁、
X₂及びX₃が同一であることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の方法。３ X₁、X₂及びX₃がふつ素を表わすことを特徴
とする特許請求の範囲第２項記載の方法。４ふつ化水素対式の化合物のモル比が５〜50
であるような量のふつ化水素が用いられることを
特徴とする前記特許請求の範囲第１〜３項のいず
れかに記載の方法。５用いられるふつ化水素が無水ふつ化水素であ
ることを特徴とする前記特許請求の範囲第１〜４
項のいずれかに記載の方法。６式との化合物がほぼ等モル量で用いられ
ることを特徴とする前記特許請求の範囲第１〜５
項のいずれかに記載の方法。７反応室内のBF₃の絶対圧が６〜20バールであ
るような量の三ふつ化ほう素が用いられることを
特徴とする前記特許請求の範囲第１〜６項のいず
れかに記載の方法。８ −20℃〜150℃の温度で実施されることを特
徴とする前記特許請求の範囲第１〜７項のいずれ
かに記載の方法。