JPS6220108A - 磁気ヘツド及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘツド及びその製造方法Info
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- JPS6220108A JPS6220108A JP15812685A JP15812685A JPS6220108A JP S6220108 A JPS6220108 A JP S6220108A JP 15812685 A JP15812685 A JP 15812685A JP 15812685 A JP15812685 A JP 15812685A JP S6220108 A JPS6220108 A JP S6220108A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は高抗磁力記録媒体に好適な磁気ヘッドに関する
。
。
メタル粉塗布型テープあるいはメタル蒸着型テープに代
表される高抗磁力記録媒体に好適な磁気ヘッドとして、
ギャップを形成する主コアを金属磁性材料で構成したも
のが知られている。
表される高抗磁力記録媒体に好適な磁気ヘッドとして、
ギャップを形成する主コアを金属磁性材料で構成したも
のが知られている。
例えば特開昭56−169214号公報に記載のように
Fe −Al−Si材(以下センダストと称する)ヲ2
つの磁性フェライト7字面にスノくツタし、かつ互いに
接合して金属磁性材がテープ摺動面でX字状に配した構
造をなすものがある。斯る従来の磁気ヘッドは高抗磁力
記録媒体への記録に好適であるが、実用上2つの問題が
ある。すなわち1つはセンダスト材のスパッタ膜は柱状
晶となシ、V字先端部で柱状晶間の親和性が得られず、
結晶にクラックが入り良好な磁性膜作成が困難であるこ
と、他の1つはX字状に配したセンダスト膜のフェライ
トコア付着面の裏面にガラス等非磁性材の埋込みがない
ためテープ当接時にスペーシングを発生しやすい。
Fe −Al−Si材(以下センダストと称する)ヲ2
つの磁性フェライト7字面にスノくツタし、かつ互いに
接合して金属磁性材がテープ摺動面でX字状に配した構
造をなすものがある。斯る従来の磁気ヘッドは高抗磁力
記録媒体への記録に好適であるが、実用上2つの問題が
ある。すなわち1つはセンダスト材のスパッタ膜は柱状
晶となシ、V字先端部で柱状晶間の親和性が得られず、
結晶にクラックが入り良好な磁性膜作成が困難であるこ
と、他の1つはX字状に配したセンダスト膜のフェライ
トコア付着面の裏面にガラス等非磁性材の埋込みがない
ためテープ当接時にスペーシングを発生しやすい。
これらの問題を解決する方法として、例えば特開昭58
−155513号公報に記載のように金属磁性材料とし
てCo −N) −Zr系の非晶質材全適用する方法と
、特開昭58−179931号公報に記載のようにテー
プ走査方向と平行に7ヱライト基板。
−155513号公報に記載のように金属磁性材料とし
てCo −N) −Zr系の非晶質材全適用する方法と
、特開昭58−179931号公報に記載のようにテー
プ走査方向と平行に7ヱライト基板。
センダスト基板を順次積層された形をとる方法が提案さ
れている。
れている。
しかし、これらはいずれも前記問題の解決手段として有
効であるもそれぞれ次のような問題あることが分った。
効であるもそれぞれ次のような問題あることが分った。
すなわち前者は非晶質磁性材料により良好な記録を可能
とするが、材料の結晶化温度がセンダスト材に比べ低い
ので、製造工程での温度管理の難しさ、作業時間の長さ
が問題で安価な磁気ヘッドを供給できない。又後者は製
造工程は容易で安価に作れるが、磁気ギャップ部をフェ
ライトコアで保護しているため、センダストとフェライ
トのテープ相性の差によるテープ当接の劣化が発生した
。
とするが、材料の結晶化温度がセンダスト材に比べ低い
ので、製造工程での温度管理の難しさ、作業時間の長さ
が問題で安価な磁気ヘッドを供給できない。又後者は製
造工程は容易で安価に作れるが、磁気ギャップ部をフェ
ライトコアで保護しているため、センダストとフェライ
トのテープ相性の差によるテープ当接の劣化が発生した
。
本発明は上記問題点を除去し得る磁気ヘッドおよびその
製造方法を提供中ろことにある。
製造方法を提供中ろことにある。
本発明の要点は、先端エツジを有する2つの磁性フェラ
イトコアの7字面のいずれか一方の面に金属磁性材料金
被着させ、この2つの金属磁性材料を一文字状またはへ
の字状に互に接合させて磁気ギャップを形成すると共に
、磁気ギャップの両サイドに接合用ガラスを配した構造
を特徴とするものである。
イトコアの7字面のいずれか一方の面に金属磁性材料金
被着させ、この2つの金属磁性材料を一文字状またはへ
の字状に互に接合させて磁気ギャップを形成すると共に
、磁気ギャップの両サイドに接合用ガラスを配した構造
を特徴とするものである。
以下、本発明の一実施例ft第1図、第2図により説明
する。第1図は本発明の磁気ヘッド1の斜視図、第2図
はそのテープ摺吻面2から見た正面図である。
する。第1図は本発明の磁気ヘッド1の斜視図、第2図
はそのテープ摺吻面2から見た正面図である。
同図において、磁気ヘッド1はヘッドギャップ311I
:形成した補助コア4,5と該補助コアを挟持してなる
主コア6.7から構成されている。
:形成した補助コア4,5と該補助コアを挟持してなる
主コア6.7から構成されている。
磁気ギャップ3は補助コア4,5の上下半分の斜視面4
a 、 5aに形成された主コア6.7間に非磁性材(
図示せず)を配して形成され、テープ摺動面2に露出す
るごとく接合し構成されている。
a 、 5aに形成された主コア6.7間に非磁性材(
図示せず)を配して形成され、テープ摺動面2に露出す
るごとく接合し構成されている。
補助:174.5はMn −Nn 、 Ni−Zn等の
比抵抗の高い磁性フェライトを用い、主コア6.7は補
助コア4,5よりも飽和磁束密度が高く、磁歪が0附近
の高透磁率金属磁性材料を用いている。具体的にはPe
−Al −Si系センダスト合金、Fe−Ni系のパ
ーマロイ合金、Co 、 Fe f主成分とする磁性ア
モルファス合金を挙げることができるが、ここで後述す
るにセンダスト合金が最も有効である。
比抵抗の高い磁性フェライトを用い、主コア6.7は補
助コア4,5よりも飽和磁束密度が高く、磁歪が0附近
の高透磁率金属磁性材料を用いている。具体的にはPe
−Al −Si系センダスト合金、Fe−Ni系のパ
ーマロイ合金、Co 、 Fe f主成分とする磁性ア
モルファス合金を挙げることができるが、ここで後述す
るにセンダスト合金が最も有効である。
主コア6.7は磁気ギャップ3を構成すると共に補助コ
ア4,5の傾斜面4a 、 5aに物理蒸着法で接合さ
せてあり、主コア6.7と補助コア4.5の接合面積が
十分大きく、磁気抵抗の少ない効率の良い磁路を構成し
ている。又、主コア6.7と補助コア4,5の2つの境
界4a 。
ア4,5の傾斜面4a 、 5aに物理蒸着法で接合さ
せてあり、主コア6.7と補助コア4.5の接合面積が
十分大きく、磁気抵抗の少ない効率の良い磁路を構成し
ている。又、主コア6.7と補助コア4,5の2つの境
界4a 。
5b間は疑似ギャップとして作動し得るが、磁気ギャッ
プ3に対して大きく傾斜させてあり、コンタ効果を無視
できる程度に低減できる。実質、磁気ギャップ3に対し
θ=30@〜70° にしである。主コア6.7の厚さ
hはθに関係し、例えば磁気ギャップ3の幅Twlzs
μmとするとh=10〜20μmで良い。hは薄いほど
うす流損失が少なくθは小はど再生効率が良いが、サイ
ドリーディング効果、コンタ効果との業ね合いから主コ
ア6.7材に応じて定めれば良い。なお第3図に示す様
な主コア10 、11を非出性材12゜16ヲ介して積
層させた方法を用いれば、よシ再生効率の向上が望める
。この非磁性材12.13は5i02. Al2O3,
Ta305. Zr0z等、物理蒸着可能なものであれ
ばいずれでも良く、かつ数百Aの厚さにしている。
プ3に対して大きく傾斜させてあり、コンタ効果を無視
できる程度に低減できる。実質、磁気ギャップ3に対し
θ=30@〜70° にしである。主コア6.7の厚さ
hはθに関係し、例えば磁気ギャップ3の幅Twlzs
μmとするとh=10〜20μmで良い。hは薄いほど
うす流損失が少なくθは小はど再生効率が良いが、サイ
ドリーディング効果、コンタ効果との業ね合いから主コ
ア6.7材に応じて定めれば良い。なお第3図に示す様
な主コア10 、11を非出性材12゜16ヲ介して積
層させた方法を用いれば、よシ再生効率の向上が望める
。この非磁性材12.13は5i02. Al2O3,
Ta305. Zr0z等、物理蒸着可能なものであれ
ばいずれでも良く、かつ数百Aの厚さにしている。
磁気ギャップ5線上のテープ走査方向14と直交する方
向15の両サイド、つまり主コア6.7と補助コア5,
4とで構成される上下の凹部には非磁性のガラス材46
、17 i配しである。これは2つの補助コア4.5
金融着させると共に、磁気ギャップ3でのテープ当接を
スペーシングなく行なわせるに必要なものである。この
ガラス材16 、17は融着に容易で、テープによる摩
耗性の良いほう酸系鉛ガラス、アルミナシリコン系鉛ガ
ラスを用いている。このガラス材16゜17の融点は主
コア6 、7 (10、11)の磁気特性を維持する温
度以下にする0例えばCo 、 Fe系磁性アモルファ
ス合金では結晶化温度の500℃以下であるのに対し、
センダストでは850℃以下であれば良い。前記ガラス
材16 、17は通常500℃以上では多種有シ、テー
プ相性からの選定で容易であるが、500℃以下では鉛
含有85%1以上の高鉛含有はう酸系ガラス(約400
℃)程度である。一方この高鉛含有はう酸系ガラスはテ
ープに対し耐摩耗性が低く、過大摩耗を起こし実質16
、17部にガラスがない状態まで発生させるのでテー
プ当接の不安定さを起こす。
向15の両サイド、つまり主コア6.7と補助コア5,
4とで構成される上下の凹部には非磁性のガラス材46
、17 i配しである。これは2つの補助コア4.5
金融着させると共に、磁気ギャップ3でのテープ当接を
スペーシングなく行なわせるに必要なものである。この
ガラス材16 、17は融着に容易で、テープによる摩
耗性の良いほう酸系鉛ガラス、アルミナシリコン系鉛ガ
ラスを用いている。このガラス材16゜17の融点は主
コア6 、7 (10、11)の磁気特性を維持する温
度以下にする0例えばCo 、 Fe系磁性アモルファ
ス合金では結晶化温度の500℃以下であるのに対し、
センダストでは850℃以下であれば良い。前記ガラス
材16 、17は通常500℃以上では多種有シ、テー
プ相性からの選定で容易であるが、500℃以下では鉛
含有85%1以上の高鉛含有はう酸系ガラス(約400
℃)程度である。一方この高鉛含有はう酸系ガラスはテ
ープに対し耐摩耗性が低く、過大摩耗を起こし実質16
、17部にガラスがない状態まで発生させるのでテー
プ当接の不安定さを起こす。
そこでテープ相性から鉛含有80%wt以下のほう酸系
ガラスやアルミナシリコン系ガラスが7壕しく、融点で
は500℃以上のものとなり、前記主コアとしては磁性
アモルファス合金よりセンダストの方が望ましい。
ガラスやアルミナシリコン系ガラスが7壕しく、融点で
は500℃以上のものとなり、前記主コアとしては磁性
アモルファス合金よりセンダストの方が望ましい。
主コア6 、7 (10、11)にセンダスト、ガラス
材とし、て鉛含有s o 、9(Wt以下のほう酸系ガ
ラスを用いた場合、磁気ギャップ3の形成は温度700
〜800℃で数分で完了する。磁性アモルファス合金を
用いた場合は400℃で数十分の形成時間が必要である
ので、主コア6 、7 (10,11)としてはセンダ
ストが加工管理か容易で、短時間でり4作可能である。
材とし、て鉛含有s o 、9(Wt以下のほう酸系ガ
ラスを用いた場合、磁気ギャップ3の形成は温度700
〜800℃で数分で完了する。磁性アモルファス合金を
用いた場合は400℃で数十分の形成時間が必要である
ので、主コア6 、7 (10,11)としてはセンダ
ストが加工管理か容易で、短時間でり4作可能である。
又、ガラス材16 、17としてテープ相性の良いもの
の選定が可能となり、テープ当接の劣化を起さない。
の選定が可能となり、テープ当接の劣化を起さない。
なお8け巻線府を示し、該窓には映像信号を通電する巻
線9を施しである。
線9を施しである。
第4図は第2図に示す磁気ヘッドの製造方法と示す工程
図である。以下その工程を順を追りて説明する。まず (イ) Mn−Znフェライト基板5にW形の溝20
1回転砥石あるいは電解エツチングで作る。
図である。以下その工程を順を追りて説明する。まず (イ) Mn−Znフェライト基板5にW形の溝20
1回転砥石あるいは電解エツチングで作る。
(ロ)W形溝20に金属磁性材料をスパッタリング−。
イオンブレーティング等、薄膜形成技術で形成する。
(ハ) 巻線用窓8を回転砥石で形成する。この工程で
はフロント部5aとリア部5bの金属磁性膜7を繋げる
様、巻線窓8深さmを小さくする方が望ましい。
はフロント部5aとリア部5bの金属磁性膜7を繋げる
様、巻線窓8深さmを小さくする方が望ましい。
に) W溝の頂稜部21a 、 21b 、 21cと
谷底部22.+、22b 、 22cの金属磁性膜7を
回転砥石にて除去する。この工程で頂稜部21a 、
21b 、 lcと谷底部22a 、 22b 、 2
2Cでの磁気特性劣化部を削除する。
谷底部22.+、22b 、 22cの金属磁性膜7を
回転砥石にて除去する。この工程で頂稜部21a 、
21b 、 lcと谷底部22a 、 22b 、 2
2Cでの磁気特性劣化部を削除する。
(ホ) 磁気ギャップ形成面25a 、 23b 、
23c fラップ加工によシ作る。
23c fラップ加工によシ作る。
(へ) カラス材16 、17を溝22a 、 22b
、 22cに流し込む。ガラス材16 、17は前記
した鉛はう酸系ガラス、アルミナシリコン系ガラスを使
用する。ガラス材16 、17の流し込み後、ラップ工
程をほどこし、さらに磁気ギャップ6材として5tOz
k 0.1〜0.3μm蒸着させる。
、 22cに流し込む。ガラス材16 、17は前記
した鉛はう酸系ガラス、アルミナシリコン系ガラスを使
用する。ガラス材16 、17の流し込み後、ラップ工
程をほどこし、さらに磁気ギャップ6材として5tOz
k 0.1〜0.3μm蒸着させる。
(ト) 2つの補助コア4.57に互に当接、加熱圧着
させる。前記(イ)〜(へ)の工程は、補助コア5の例
を示しているが、補助コア4は巻線窓8がない以外、同
じ工程である。さらに矢印24゜25方向にスライスす
る。このさいスライス方向を補助コア4.5に対し傾け
て、磁気ギャップ3のアジマス角を得る。
させる。前記(イ)〜(へ)の工程は、補助コア5の例
を示しているが、補助コア4は巻線窓8がない以外、同
じ工程である。さらに矢印24゜25方向にスライスす
る。このさいスライス方向を補助コア4.5に対し傾け
て、磁気ギャップ3のアジマス角を得る。
以上(イ)〜(ト)の工程終了後、巻線9を施せば第1
図に示す磁気ヘッドが作成できる。フェライト基板5の
長さf 20 mInのブロックとすると、1ブロツク
あたり約40チツプの大量生産が可能である。
図に示す磁気ヘッドが作成できる。フェライト基板5の
長さf 20 mInのブロックとすると、1ブロツク
あたり約40チツプの大量生産が可能である。
第5図はヘリカルスキャンのビデオテープレコーダに適
用して好適で、特にテープタッチを良好にした本発明の
他の磁気ヘッドを示す図であって、(イ)はテープ摺動
面を示す正面図、(ロ)はその要部断面図である。
用して好適で、特にテープタッチを良好にした本発明の
他の磁気ヘッドを示す図であって、(イ)はテープ摺動
面を示す正面図、(ロ)はその要部断面図である。
同図において補助コア4,5、主コア30.31は、前
記実施例と同様にそれぞれ磁性フェライト、金属磁性材
料を使用しである。主コア30゜61は磁気ギャップ3
を介してV字形に配しである。金属磁性材料はセンダス
ト、ガラス材16゜17は鉛含有80%wt以下のほう
酸系ガラスを用いている。各材料のテープ摩耗は、ガラ
ス材〉主コア〉補助コアの順で大きい。斯る実施例では
第5図(ロ)に示すように、補助コア4,5のエツジ部
4d 、 5dが最頂点32になるように構成しである
。磁気ギャップ3は補助コア4,5の厚さの中心部に配
してあり、最頂点32はコア厚中心よりずれている。
記実施例と同様にそれぞれ磁性フェライト、金属磁性材
料を使用しである。主コア30゜61は磁気ギャップ3
を介してV字形に配しである。金属磁性材料はセンダス
ト、ガラス材16゜17は鉛含有80%wt以下のほう
酸系ガラスを用いている。各材料のテープ摩耗は、ガラ
ス材〉主コア〉補助コアの順で大きい。斯る実施例では
第5図(ロ)に示すように、補助コア4,5のエツジ部
4d 、 5dが最頂点32になるように構成しである
。磁気ギャップ3は補助コア4,5の厚さの中心部に配
してあり、最頂点32はコア厚中心よりずれている。
ヘリカルスキャンでは第6図に示すようにテープ64の
下端33に磁気ヘッドが突入する際テープのはね上げ現
象により同図に示す如くテープ当接が起きる。すなわち
磁気ギャップ3に対しテープ幅方向の上方34の方で接
触が大きく、下端33での接触が少ない、これに対し第
5図に示す磁気ヘッドの如く非対象断面形状とすること
で、テープ下端部33でのテープタッチが良好で、ヘリ
カルスキャンビデオテープレコーダに適用する上で最良
の構造となり、テープタッチスペーシングのない良好な
テープタッチが得られる。
下端33に磁気ヘッドが突入する際テープのはね上げ現
象により同図に示す如くテープ当接が起きる。すなわち
磁気ギャップ3に対しテープ幅方向の上方34の方で接
触が大きく、下端33での接触が少ない、これに対し第
5図に示す磁気ヘッドの如く非対象断面形状とすること
で、テープ下端部33でのテープタッチが良好で、ヘリ
カルスキャンビデオテープレコーダに適用する上で最良
の構造となり、テープタッチスペーシングのない良好な
テープタッチが得られる。
第7図は第5図の応用例を示すものであって、主コア5
0 、31 f:第5図に示す実施例と同じく形成し、
主コア30 、31より薄い第2の主コア65゜36ヲ
更に設け、主コアと補助コア4,5との接合面MRヲ大
きくして効率を良くしたものである。
0 、31 f:第5図に示す実施例と同じく形成し、
主コア30 、31より薄い第2の主コア65゜36ヲ
更に設け、主コアと補助コア4,5との接合面MRヲ大
きくして効率を良くしたものである。
この実施例においても第5図の実施例と同様に良好なテ
ープ当接が確保できる上に再生効率の良い磁気ヘッドが
得られる。
ープ当接が確保できる上に再生効率の良い磁気ヘッドが
得られる。
第8図は第5図に示す磁気ヘッドの製造方法を示す工程
図である。以下その製造工程について順を追って説明す
る。
図である。以下その製造工程について順を追って説明す
る。
(イ) Mn−Znフェライト基板5,4にW形の溝
20a 、 20b 、 20cを形成し、しかる後、
金属磁性膜7’iスパツタする。
20a 、 20b 、 20cを形成し、しかる後、
金属磁性膜7’iスパツタする。
(ロ)巻線窓8を形成後、第4図(ハ)、に)に示す工
程行う。
程行う。
(ホ)前記(イ)の工程を終えた金属磁性膜をスパッタ
した磁性フェライト基板4の頂稜部40a。
した磁性フェライト基板4の頂稜部40a。
40b 、 40C及び谷底部41a 、 41b 、
41cを回転砥石で除去する。
41cを回転砥石で除去する。
(へ)磁気ギャップ形成面42a 、 42b 、 4
2c fラップ加工する。
2c fラップ加工する。
(ト) ガラス材43a 、 43b 、 43Cを
流し込む。ガラス材は前記鉛はう酸系ガラス、アルミナ
シリコン系ガラスを使用する。
流し込む。ガラス材は前記鉛はう酸系ガラス、アルミナ
シリコン系ガラスを使用する。
(ト)前記に)と(イ)のブロックを互に当接加熱圧接
し、加熱圧液抜矢印44 、45方向に切断する。
し、加熱圧液抜矢印44 、45方向に切断する。
以上述べた本発明の磁気ヘッドの補助コア4゜5は磁性
フェライトが望ましいが、高融点ガラス材あルイはAl
O、ZrO2,Mgo−Sin2. Tie□。
フェライトが望ましいが、高融点ガラス材あルイはAl
O、ZrO2,Mgo−Sin2. Tie□。
Mn−N1p2等、高融点で金属磁性膜との親和性が有
り、かつ熱膨張係数が等しいものであれば、非硼性材で
も製造可能である。
り、かつ熱膨張係数が等しいものであれば、非硼性材で
も製造可能である。
以上、説明した本発明によれば、主コア’t −文字ま
たはV字状等に形成したことにより、金属磁性材料とし
てセンダストヲ使用することが可能となり、これにより
製造工程中の温度管理が容易で、かつ高温作業が可能と
なり安価な磁気ヘッドを供給することが可能である。
たはV字状等に形成したことにより、金属磁性材料とし
てセンダストヲ使用することが可能となり、これにより
製造工程中の温度管理が容易で、かつ高温作業が可能と
なり安価な磁気ヘッドを供給することが可能である。
また本発明によれば、その製造も容易であり、ヘリカル
スキャンのビデオテープレコーダに適した磁気ヘッドが
得られる。
スキャンのビデオテープレコーダに適した磁気ヘッドが
得られる。
なお本発明によれば、サイドリーディング効果、コンタ
効果、うす流損等を材料に応じて任意に設定可能である
。
効果、うす流損等を材料に応じて任意に設定可能である
。
第1図は本発明の磁気ヘッドの概観斜視図、第2図はそ
のテープ摺動面図を示す正面図、第3図は本発明の他の
実施例を示す正面図、第4図は第1図に示す磁気ヘッド
の製造工程図、第5図、第7図は本発明の更に他の実施
例を示す正面図、第6図は本発明の説明に供する図、第
8図は第5図に示す磁気ヘッドの製造工程図である。 符号の説明 5:磁気ギャップ 6 、7 、10 、11 、50 、31 :主コア
4.5:補助コア 16 、17 :接合用ガラス 代理人弁理士 小 川 勝 iパ− 第1図 第2図 窮5図
のテープ摺動面図を示す正面図、第3図は本発明の他の
実施例を示す正面図、第4図は第1図に示す磁気ヘッド
の製造工程図、第5図、第7図は本発明の更に他の実施
例を示す正面図、第6図は本発明の説明に供する図、第
8図は第5図に示す磁気ヘッドの製造工程図である。 符号の説明 5:磁気ギャップ 6 、7 、10 、11 、50 、31 :主コア
4.5:補助コア 16 、17 :接合用ガラス 代理人弁理士 小 川 勝 iパ− 第1図 第2図 窮5図
Claims (6)
- (1)磁性合金からなりヘッドギャップを構成してなる
第1、第2の主コアと、該主コアに対し飽和磁束密度の
小さな第1、第2の補助コアとからなり、該補助コアに
テープ摺動用の中央部から両端部方向にのびた傾斜面を
形成し、該傾斜面の一方の面に金属磁性材料からなる前
記主コアを形成し、該主コアを一文字状またはV字状に
構成すると共にヘッドギャップの両サイドに接合用ガラ
スを配したことを特徴とする磁気ヘッド。 - (2)前記第1、第2の主コアがFe−Al−Si合金
からなり、前記接合用ガラスが融点850℃以下の低融
点ガラスからなり、前記第1、第2の補助コアがMn−
Znフェライトからなることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の磁気ヘッド。 - (3)テープ摺動面に前記第1、第2の主コアをV字状
に露出せしめ、前記ヘッドギャップをテープ摺動面に露
出した前記第1、第2の補助コア厚さの中心部に配した
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の磁気ヘッ
ド。 - (4)前記第1、第2の補助コアの傾斜面の両面に金属
磁性材料を形成すると共に、該金属磁性材料の厚さを両
面で変え、ヘッドギャップを介してV字状に接合させた
金属磁性材料の厚さを他方面の厚さより大きくしたこと
を特徴とする特許請求の範囲第3項記載の磁気ヘッド。 - (5)ヘッドギャップ部の磁気ヘッド断面において、テ
ープ摺動面の補助コア厚さ中心よりも、テープ幅方向の
下端側に最頂点部をづらしたことを特徴とする特許請求
の範囲第3項記載の磁気ヘッド。 - (6)W溝を有する第1、第2補助コアに第1、第2主
コアをスパッタする工程と、前記W溝の頂稜部と谷底部
を除去する工程と、前記W溝部に融着ガラスを流し込む
工程と、前記第1、第2の補助コアを加熱圧着する工程
と、前記第1、第2主コアと前記第1、第2補助コアを
一体で切断する工程と、巻線窓を形成する工程を含む磁
気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15812685A JPS6220108A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15812685A JPS6220108A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6220108A true JPS6220108A (ja) | 1987-01-28 |
Family
ID=15664856
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15812685A Pending JPS6220108A (ja) | 1985-07-19 | 1985-07-19 | 磁気ヘツド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6220108A (ja) |
-
1985
- 1985-07-19 JP JP15812685A patent/JPS6220108A/ja active Pending
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