JPS6220115A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明はホトリソグラフィー技術を用いて作製される薄
膜磁気ヘッドに係り、とくに入出力用コイルの断線、抵
抗変動などがない、信頼性に優れた薄膜ヘッドに関する
。

〔発明の背景〕

薄膜磁気ヘッドは、たとえば特開昭５５−８４０２０号
に示されるように、非磁性セラミック支持体（基板）上
に、パーマロイなどからなる磁性ポールピース層（下部
磁極、上部磁極）、信号入出力用のコイル、絶縁層など
から形成された立体的な構造を有する。コイルは下部磁
極上と基板上にまたがって形成される。すなわち、下部
磁極の厚みに相当する段差の上下にわたって、コイルが
形成される。この段差近傍部分では導体にストレスが加
わりやすく断線が生じたり、使用中に抵抗変化が生じる
などの不良の原因となっている。

磁気ディスク装置などの記録密度の増大にしたがって、
高出力、低雑音の薄膜磁気ヘッドの開発が必要になって
いる。このようなヘッドを実現するには、できるだけ短
い磁路の中に多巻の断面積大（抵抗小）のコイルを作る
必要がある。すなわち、導体幅を小さく、導体厚みを大
きくする必要があるが、このような条件ではとくに段差
近傍で断線が生じやすい。

〔発明の目的〕

本発明の目的は断線や抵抗変動の少ない高信頼性の薄膜
磁気ヘッドを提供することにある。

〔発明の概要〕

下部磁極パターン端部上の段差にまたがって形成される
コイル導体のパターン幅を、その近傍におけるパターン
幅よりも大きくしておくことにより、ストレスの集中を
緩和させ、断線および抵抗変動を防ぐ。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を第１図により説明する。

第１図は薄膜ヘッドの上面図（ａ）、断面図（ｂ）およ
び拡大図（ｃ）を示す。なお、（ｂ）の断面はＡ−Ａ’
部の断面で下部磁極パターン端部近傍上の導体を示す。

本発明と直接関係しない従来公知の部分上部磁極等につ
いては省略して示しである。コイルの導体１は下部磁極
２上および基板３上にまたがって形成される。下部磁極
２パタ一ン端部上に形成された導体パターンの幅Ｗ１は
その近傍の下部磁極２上すなわち段差上に形成された導
体パターンの幅Ｗ３および、その近傍の基板３上すなわ
ち段差下に形成された導体パターンの幅Ｗ２よりも広い
。

第２図は従来の薄膜ヘッドの段差部の導体パターンを示
した例で、この例では、Ｗ、＜Ｗ２．　Ｗ。

となっている。導体コイルを形成する代表的な作製法と
しては、たとえば銅をスパッタ法蒸着法などで被着し、
この上にホトレジストパターンを形成しイオンミリング
法でエツチングする方法が一般的である。この方法では
ホトレジストパターンを形成する際、段差の傾射部で露
光時の光のまわり込みが生じ、微細パターンを形成する
ために用いられる解像度の高いポジ型レジストパターン
はマスクの寸法よりも細ってしまう。したがって通常の
方法で導体コイルを作製しようとすると、Ｗ工＜Ｗ、、
　Ｗ、となってしまう。あらかじめマスク寸法を段差部
で他の部分よりも広くとっておけば、Ｗ１≧Ｗ２．Ｗ、
とすることも可能だが、マスクのこのようなパターンを
広げた部分を実際に基板３上に形成されたパターンに正
確に合わせることは困難であるし１、微細なコイルパタ
ーンを作ることもむずかしい。ポジ型レジストのかねり
にネガ型レジストを用いれば段差部でのパターンの細り
は解決できるが、解像度が悪いため、やはり微細なコイ
ルパターンを作ることが固型で、ヘッドの高性能（高記
録密度）化に対する要求にこたえることができない。ま
た、他の作製法としてはレジス１−フレームを用いてメ
ッキで銅コイルパターンを形成する方法があるが、これ
は一般にメッキ法で形成した導体（銅）の比抵抗が高い
（条件によるが約１．５倍〜２倍大きい）ため、コイル
抵抗が高く、すなわちヘッド雑音が大きくなるため、や
は゛リヘッドの高性能化という点で望ましくない。

したがって、本実施例ではいわゆるリフトオフ法（米国
特許第３，８７３，３６１号などにその例が開示されて
いる）として知られる方法を用い、クロムと銅とを連続
的に蒸着して導体パターンを形成した。このような方法
では抵抗の低い（約１．８μΩ備以下）微細パターンを
容易に形成でき、公知の方法でホトレジスト条件を選ぶ
ことによってＷｌとＷ２．Ｗ、との関係が異なる種種の
薄膜ヘッドを作製できる。なおりロムは一般に銅コイル
と下地絶縁層との密着性を改善するための中間層として
用いるもので、チタン、アルミニウム等でも良く、場合
によっては中間層は必ずしも介在させる必要はない。

第３図は本発明の効果を示す、信頼性試験の結果である
。Ｗ２＝Ｗ、＝３μｍとし、導体厚み２μｍ、下部磁極
の厚み２．５μｍのときに、Ｗｌを変えてパターンを形
成して、信頼性試験を行った。信頼性試験は通電電流を
約４０　ｍ　Ａ、周囲温度を２５０”Ｃとしたとき、断
線または抵抗値変動が生じるまでの時間ｔＣ，ｈ）を測
定して行った。

Ｗ□／Ｗ２＜１．０５　　となると寿命は短くなりとく
にＷ、／Ｗ２＜０．９５　では寿命は急激に短かくなる
ことがわかる。

コイル導体のパターン幅、厚み、下部磁極の厚みなどを
種々変えて同様の試験を行った結果、はぼ同様の結果が
得られたが、とくに最小線幅が５μｍ以下になると本発
明の効果が顕著であった。

また１μｍ以下ではパターンの形成が固型であり、実用
的ではないので１〜５μｍの最小線幅が本発明のときに
有効な範囲である。またコイル導体の厚みは１μｍ以上
あることが実用的である。段差となる下部磁極の厚み、
また、ヘッド構造によってはそれに相当する段差の大き
さは１μｍあるとき、本発明の効果が顕著である。

薄膜ヘッドの構造は本実施例で示したものに限定される
わけではなく、コイル導体が何らかのパターン上にその
端部にまたがって１段差のある部分に形成される場合に
は本発明が適用できることはいうまでもない。

〔発明の効果〕

本発明によれば、段差部分にまたがって形成されるコイ
ル導体の幅をその近傍の幅よりも大きくするので、信頼
性の高い薄膜ヘッドのコイルパターンを得ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す図であり、特に（ａ）
上面図、（ｂ）断面図および（ｃ）拡大図であり、第２
図は従来の薄膜磁気ヘッドの段差にまたがって形成され
たコイル導体を示す上面図、第３図は本発明の詳細な説
明するための図である。 １・・・導体、２・・下部磁極、３・・・基板、４・・
・絶縁層。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に下部磁極、入出力コイル、上部磁極絶縁層
   などを形成してなる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記下部
   磁極パターン端部上などの段差にまたがつて形成された
   コイル導体のパターン幅が、その近傍のパターン幅より
   も大きいことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 ２、特許請求の範囲第１項の薄膜磁気ヘッドにおいて、
   前記入出力コイルが形成されている下部磁極端部上の段
   差は１μｍ以上であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド
   。 ３、特許請求の範囲第１項の薄膜磁気ヘッドにおいて、
   コイル導体パターンの最小線幅が５μｍ以下、１μｍ以
   上であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 ４、特許請求の範囲第１項の薄膜磁気ヘッドにおいて、
   コイル導体パターンの厚みが１μｍ以上であることを特
   徴とする薄膜磁気ヘッド。