JPS6220134A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

産」しヒ０土」Ｌ飢夏一 本発明は磁気記録媒体に関し、特にリング型ヘッドを用
いる磁気記録媒体において、媒体の垂直成分のＳＦＤ　
（Ｓｗｉｔｃ’ｈｉｎｇ　　ＦｉｅｌｄＤｉｓｔｒｉｂ
ｕｔｉｏｎ）と面内成分のＳＦＤが特定の値を有するバ
リウムフェライト含有磁気記録媒体に関する。 これらのものが特定の範囲内にあるものはディスクでの
オーバーライド特性が改善されたものとなり、フロッピ
ーディスク、ハードディスク、デジタル媒体としてすぐ
れたものとなる。 来の　　　び　日が　゛　しようとする、３　貞現在、
磁気記録媒体は、オーディオ、ビデオ、コンピューター
、磁気ディスク、８　ｍ　／　ｍ等の分野で広範囲に使
用されるようになっており、将来ビデオフロッピー、高
密度フロッピー等の分野でも使用されることが予想され
、それに伴い、磁気記録媒体に記録する情報量も年々増
加の一途をたどり、そのため磁気記録媒体に対しては記
録密度の向上が益々要求されるようになってきている。 従来より、磁気テープなどの磁気記録媒体では。 磁気記録層中の針状磁性粉を長手方向に配向させる等し
て、磁気特性を向上させているが、針状磁性粉を長手方
向に配向させたものは低周波帯域では高い出力が得られ
る反面高密度記録には限界があるものであった。 又、このため最近では磁性粉末が平板状であり、垂直方
向に磁化容易軸を有するバリウムフェライト磁性粉末を
磁気記録層に使用した磁気記録媒体が提案されている（
特開昭５７−１９５３２８号公報）。 バリウムフェライト磁性粉の特徴として、その粒度分布
及び抗磁力（Ｈｃ）分布が悪いため、フロッピーディス
クに使用した場合オーバーライド特性が悪くなる。 塗布型テープにおいて、バリウムフェライトの特徴とし
ては、従来まで実績のあるリング型ヘッドが使用できる
ことであり、リング型ヘッドでも垂直成分をひろうこと
ができるといわれている。 そこで、垂直成分のＳＦＤが重要であると思われ、オー
バーライド特性も垂直成分のＳＦＤに依存すると思われ
ている。 そこでそれらについて追求してみた。 ル　１１、を解決するための手 本発明者等はリング型磁気ヘッドを使用するバリウムフ
ェライト含有磁気記録層を有する磁気記録媒体において
、磁気記録媒体の垂直方向のＳＦＤであるΔＨｃ／Ｈｃ
　　について注目して追求しＣよりも面内方向の△Ｈｃ
ｌ／　Ｈｃ’が重要なファクターであることがわかった
。そして垂直方向のＳＦＤΔＨｃ／Ｈｃ　　と面内方向
のＳＦＤであるΔＨｃ“／Ｈｃ／／が特定の値であると
き、すぐれたオーバーライド特性を有するものであるこ
とを見出し、本発明に到達したものである。 即ち、本発明はリング型磁気ヘッドを用いる磁気記録媒
体において、磁気記録媒体のＢ−ＨカーブのＨｃ変曲点
で△Ｈｃ　　／Ｈｃ　　＝４．５％以上（垂直成分のＳ
ＦＤ）、ΔＨｃ’／Ｈｃ’＝２％以下（面内成分のＳＦ
Ｄ）であるバリウムフェライト含有磁気記録媒体に関す
る。 ΔＨｃ　／　Ｈｃ　Ｓ　Ｆ　Ｄの測定は、第１図に示す
ように、磁気測定Ｂ−Ｈカーブの第２象限のＨｃ変曲点
の微分値を測定し、半値巾（ｈ／２）でのΔＨｃの値を
測定し、磁気記録媒体のＨｃで割る６ΔＨｃ　／　Ｈｃ
はそれぞれ垂直（上）、平行（１）を測定する。 バリウムフェライト磁性粉を含有する塗布型磁気記録層
を有する磁気テープにおいて、リング型ヘッドを用いた
場合、磁気記録媒体の垂直成分が使用できることが従来
から言われているが、そのオーバーライド特性を追求し
たところ、垂直成分よりも面内成分の方が逆に重要であ
ることが明らかとなった。 磁気記録媒体のＢ−Ｈカーブの第２象限の抗磁力（Ｈｃ
）の変曲点の微分値において、垂直成分のＳＦＤが悪い
ものほどオーバーライド特性がよく。 面内成分のＳＦＤがよいものほどオーバーライド特性が
良い事がわかったのである。この事は従来。 言われていたリング型ヘッドでバリウムフェライトの垂
直成分をひろうことができるといわれた事とは逆の現象
が生じており、リング型ヘッドを使用する塗布型の垂直
記録媒体においては面内成分も重要であることが明らか
となったのである。 これはリング型ヘッドを使用するからには垂直成分ばか
りでなく、面内成分が無視出来ないという事１面内成分
の方がより重要であるという事であろう。 リング型ヘッドとしてはフェライト、アモルファス、セ
ンダスト、Ｍ　ｎ　−Ｚ　ｎ単結晶（ＭｎＯ，ＺｎＯ１
Ｆｅｚ○３）、Ｎｉ−Ｚｎ単結晶（ＮｉＯ１Ｚｎ○、Ｆ
　ｅ２ｏ３）等が使用できる。 特に、フェライトヘッドを使用した場合、Ｈｃが低いも
のが使用できる利点がある。特にＨｃ１０００以下のも
のが好ましい。 本発明において、前記垂直方向のＳＦＤが４゜５％以上
で面内方向のＳＦＤが２％以下の場合はオーバーライド
特性が良く、デジタル媒体として使用出来る。さらに好
ましいのは４．８％以上、１．５％以下である。 本発明で使用するバリウムフェライト磁性粉は六方晶系
板状のものであり、化学式Ｂａ０・６Ｆｅ２０３で表わ
され、この外、この化学式のＢａ及びＦａの一部がＴｉ
、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｚｎ＋　Ｉｎ。 Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｎｉ等の
金属で置換されたものも含まれる。 バリウムフェライト磁性粉は直径０．２．ｗｍ以下、好
ましくは０．１５μｍ以下、更に好ましくは０．１Ｐｍ
以下、板状比６以上、更に好ましくは８以上である。こ
の場合、板状比の上限値には特に制限はないが、通常３
０以下である。ここで平均粒径とは、電子顕微鏡写真〔
走査型顕微鏡（ＳＥＭ）および透過型顕微鏡（ＴＥＭ）
）によって、例えば六方晶系バリウムフェライト粒子の
断面５０個程度を観察し、粒径についての測定値を平均
したものである。平均厚みも電子顕微鏡写真による測定
値の平均である。また板状比とは平均粒径／平均厚の値
である。あるいは平均厚はＸ線回折の半値巾によって測
定することも出来る。バリウムフェライトは六方晶系板
状であるため、針状磁性粉と比べて表面粗度への影響が
大きくなり、上記の径及び板状比よりも大きくなると表
面粗度の低下が激しく好ましくない。粒径が前記のよう
な範囲にある場合は垂直成分が充分に利用され、かつ磁
性層の表面平滑性が良好となり、ノイズも充分に低く、
高密度記録が達成できる。 バリウムフェライトの製法としては、セラミック法、共
沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法。 ガラス結晶化法、アルコキシド法、プラズマジェット法
等があり、いずれの方法も利用できることは言うまでも
ない。 その他ＣＯ含有酸化鉄粉、？Ｆｅ２Ｏ３粉、Ｆｅ３Ｏ４
粉、Ｃｏフェライト粉、メタル粉末等も利用できる。 本発明の磁気記録層には通常用いられる有機バインダー
、無機顔料、潤滑剤、その他、分散剤、帯電防止剤等を
常法に従って用いることができる。 本発明の磁気記録層で用いる有機バインダーは、従来、
磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬化性又
は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、得られ
る塗膜強度等の点がら硬化型、特に放射線硬化型の樹脂
が好ましい。 熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量が１０，０００〜２００，０００、重合度が約２０
０〜２，０００程度のもので１例えば塩化ビニール−酢
酸ビニール共重合体（カルボン酸導入のものも含む）、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニール−塩化ビ
ニリデン共重合体、塩化ビニール−アクリロニトリル共
重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、ア
クリル酸エステル−スチレン共重合体、メタクリル酸エ
ステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エス
テル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル
−スチレン共重合体、ウレタンニジストマー、ナイロン
−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂
、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリ
ル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、
ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セルロース
誘導体（セルロースアセテート、セルロースダイアセテ
ート、セルローストリアセテート、セルロースプロピオ
ネート、ニトロセルロース等）、スチレン−ブタジェン
共重合体、ポリエステル樹脂、グロロビニルエーテルー
アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成
ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物が使用される
。 熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は２００，０００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹
脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好
ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂
。 アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン
樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とインシアネートプレ
ポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデヒ
ド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリ
フェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミ
ン樹脂、及びこれらの混合物である。 バインダーは放射線硬化型化合物を硬化したものを用い
ることが好ましい。 放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有すアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結
合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の
、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。そ
の池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を有
する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は多塩基酸成分１
種以上と多価アルコール成分１種以上にマレイン酸、フ
マル酸等を加え常法、すなわち触媒の存在下で、１８０
〜２００″Ｃ１窒素雰囲気下、脱水あるいは脱アルコー
ル反応の後、２４０〜２８０°Ｃまで昇温し、０．５〜
１ｍ＋ｏＨｇの減圧下、縮合反応により得ることができ
る。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時の架橋
、放射線硬化性等から酸成分中１〜４０モル％５好まし
くは１０〜３０モル％である。　− 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 （１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール
−末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体、たとえばＵＣＣ社
製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣ，ＶＹＢＧＸ、ＶＥＲＲ，ＶＹＥ
Ｓ、ＶＭＣＡ、ＶＡＧＨ等が挙げられ、このものに後述
の手法により、アクリル系二重結合、マレイン酸系二重
結合、アリル系二重結合を導入して放射線感応変性を行
う。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１゜２プロピレングリコール、
■、３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１，
４ブタンジオール、１．６ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチル
グリコール、１，４シクロヘキサンジメタツールのよう
な多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和
ポリエステル樹脂又はこれらのポリエステル樹脂をＳＯ
３Ｎａ等で変性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）が例
として挙げられ、これらも同様にして放射線感応変性を
行う。 （３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体で、こ
れら樹脂中に含まれる水酸基に対し後述の手法により放
射線感応変性を行う。 （４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（エピ
コート１５２．１５４．８２８．１００１．１００４．
１００７）、ダウケミカル製（Ｄ　Ｅ　Ｎ４３１、Ｄ　
Ｅ　Ｒ７３２、Ｄ　Ｅ　Ｒ５１１、ＤＥＲ３３１）　、
大日本インキ製（エピクロン４００，８００）、更に上
記エポキシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノキシ
樹脂（ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣ，ＰＫＨＨ）、臭素化ビスフ
ェノールＡとエピクロルヒドリンとの共重合体、大日本
インキ化学工業製（エビクロン１４５．１５２．１５３
．１１２０）等があり、又これらにカルボン酸基を含有
するものも含まれる。これら樹脂中に含まれるエポキシ
基を利用して放射線感応変性を行う。 （５）ｍ維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である、
樹脂中の水酸基を活用して後述の方法により放射線感応
変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体（ＰＶＰオ
レフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含
有するアクリルエステル及びメタクリルエステルを重合
成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有効で
ある。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、及び基体フィルム、例
えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、２．４−）−ルエンジイソシアネート、２，６−ト
ルエンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシア
ネート、１，４−キシレンジイソシアネート、１，５−
ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシ
アネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３．３’
−ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、
３，３′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、４
，４′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、インフオロンジイソシアネート、
ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジュ
ールＬ、デスモジュールＮ等の各種多価イソシアネート
と、線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチル
グリコール、１，４−シクロヘキサンジメタツールの様
な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸の様な飽和
多塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエーテ
ル（ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール）やカプロラクタム
、ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒドロキシル
含有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類の縮
重合物より成るポリウレタンエラストマー、プレポリマ
ーが有効である。 これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基又は水酸基と、アクリル系二重結合又はアリル系二重
結合等を有する単量体とを反応させることにより、放射
線感応性に変性することは非常に効果的である。又、末
端に極性基として０Ｈ１ＣＯＯＨ等を含有するものも含
む。 さらに不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるい
はジグリセリド等、インシアネート基と反応する活性水
素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を
有する単量体も含まれる。 （２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアベトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレシ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー１４３２　Ｊ等のエラストマーは、特に
ブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ
架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。 （３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。Ｒ
−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっ
ている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加
することにより放射線感応性を高めることが可能であり
、バインダーとして更に有利となる。 またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。 その他、熱可塑性エラストマー及びそのプレポリマーの
系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム、
塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化
物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エポキシ変
性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡バイ
ロン３３００）等のエラストマーも下記に述べる放射線
感応変性処理を施こすことにより有効に利用できる。 オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、１．６−ヘキサングリコールジアク
リレート、１．６−ヘキサングリコールジアクリレート
、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリメタクリレート、多官能オリゴエス
テルアクリレート（アロニツクスＭ−７１００、Ｍ−５
４００，５５００，５７００等、東亜合成）、ウレタン
エラストマーにツボラン４０４０）のアクリル変性体、
あるいはこれらのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入され
たもの、トリメチロールプロパンジアクリレート（メタ
クリレート）、フェノールエチレンオキシド付加物のア
クリレート（メタクリレート−）、下記一般式で示され
るペンタエリスリトール縮合環にアクリル基（メタクリ
ル基）またはε−カプロラクトンアクリル基のついた化
合物、 式中、ｍ＝１、ａ＝２．ｂ＝４の化合物（以下、特殊ペ
ンタエリスリトール縮合物Ａという）。 ｍ＝１、ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｂという）、ｍ＝１．ａ＝６．ｂ＝
ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物Ｃ
という）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物りという）、及び下記一
般式で示される特殊アクリレート類等が挙げられる。 （１）　（Ｃ）１２　；ＣＨＣＯＯＣＨ）　３ＣＣＨｚ
ＯＨ（特殊アクリレートＡ） （２）（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ）３ＣＣＨ２ＣＨ３（
特殊アクリレートＢ） （３）（ＣＨ２ＣＨ２０（ＯＣ３Ｈ７）ｎ　　０ＣＨ２
３３ｃｃ）Ｉ２ｃｌ（３（特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） ＣＨ２ＣＨユＣ００ＣＨ＝　ＣＨ２ （特殊アクリレートＦ） （７）　　　　　　　　　　　Ｃ）Ｉ、　Ｃ００ＣＨ＝
　Ｃｌ−１゜■ ＣＨ３−（ＣＨ２）ｎ−Ｃ００ＣＨ２−Ｃ−ＣＨ２０Ｈ
（ｎ　”＝　１６）　　　　　　ＣＨ，Ｃ００Ｃ）Ｉ　
＝　ＣＨ（特殊アクリレートＧ） （８）ＣＨｊＣＩＩＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）　４−
Ｃ０ＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝　ＣＨ。 （特殊アクリレートエ） （特殊アクリレートＪ） （１１）　　　　Ａ　　　　　Ａ Ａ　−（Ｘ−Ｙ）　ｎＸ−Ａ Ａニアクリル酸、Ｘ：多価アルコール Ｙ：多塩基酸　　　（特殊アクリレートＫ）次に、放射
線感応性バインダー合成例を説明する。 ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度ｎ＝５００）
７５０部とトルエン１２５０部、シクロへキサノン５０
０部を５１の４つロフラスコに仕込み加熱溶解し、８０
℃昇温後トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキシエ
チルメタクリレートアダクト※を６１．４部加え、更に
オクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．０１
２部を加え８０°ＣでＮ２気流中、ＮＣ０反応率が９０
％となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチル
エチルケトン１２５０部を加え希釈する。

【×トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＨＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つロフラスコ内で
８０℃に加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０部
、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０５
部を反応缶内の温度が８０〜８５°Ｃとなるように冷却
コントロールしながら滴下終了後８０℃で３時間攪拌し
反応を完結させる。反応終了後取り出して冷却後白色ペ
ースト状のＴＤＩの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積木化学製ＢＭ−８１００部をトルエン
１９１．２部、シクロへキサノン７１６４部と共に５１
の４つロフラスコに仕込み加熱溶解し８０℃昇温後ＴＤ
Ｉの２ＨＥＭＡアダクト×を７．４部加え、更にオクチ
ル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１５部を
加え、８０℃でＮ２気流中ＮＧＯ反応率が９０％以上と
なるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチ
ルケトンにて希釈する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡製バイロンＲＶ−２００
）、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン
１１６部に加熱溶解し８０°Ｃ昇温後ＴＤＩの２ＨＥＭ
Ａアダクト×を３．５５部加え、オクチル酸スズ０．０
０７部、ハイドロキノン０．００７部を加え、８０℃、
Ｎ２気流中ＮＧＯ反応率が９０％以上となるまで反応せ
しめる。 ｄ）０工ポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）、４
００部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に
加熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００
６部、ハイドロキノン０゜００３部を添加し８０°Ｃと
し、アクリル酸６９部を満月し８０℃で酸価５以下とな
るまで反応せしめる。 Ｏフェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨＳＵＣＣ社製
　分子量３０，０００）６００部、メチルエチルケトン
１８００部を３１の４ツロフラスコに仕込み、加熱溶解
し、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２ヒド
ロキシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加え、
更にオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．
０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＣ０反応率が
９０％となるまで反応せしめる。このフェノキシ変性体
の分子量は３５，０００．１分子当りの二重結合は１個
である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニツポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０゜０７部、オクチル酸スズ０．
００９部を反応缶に入れ、８０℃に加熱溶解後ＴＤＩ４
３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるように
冷却しながら滴下し、滴下終了後８０℃で反応率９５％
以上となるまで反応せしめる・ ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２）（ＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．
００７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ
、８０℃に加熱溶解後ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温
度が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴
下終了後８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せし
める。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー） シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジェンポリＢＤリクイットレジンＲ−１５，２５０
部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．００７
部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、８０
℃に加熱溶解後ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度が８
０〜９０°Ｃとなるように冷却しながら滴下し５滴下終
了後８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せしめる
。 高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間に架
橋を起こすものが知られている。分子間に架橋を起こす
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、−ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミ
ド、ポリ塩化ビニル。 ポリエステル、ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニル
アルコール、ポリアクロレインがある。この様な架橋型
ポリマーであれば上記のような変性を特に施さなくても
、架橋反応が起るので、前記変性体の他に、これらの樹
脂はそのまま放射線架橋用として使用可能である。 更にまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤型
の樹脂であっても短時間で硬化することができるので、
この様な樹脂を用いることができる。 このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。またオンラインで行えるので生産性が良く
なる。 磁性粉／バインダーは、重量比で１／１〜９／１、特に
２／１〜８／１であることが好ましい。 このような割合とするのは１７１未満では飽和磁束密度
が低くなり、９／１を超えると分散不良により表面粗度
が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。 本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用されろ、溶
剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性およ
び相溶性等を考慮して適宜選択される。 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノール
、エタノール、プロパツール、ブタノール等のアルコー
ル類；ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等
のエステル類；イソプロピルエーテル、エチルエーテル
、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチル
エーテル、ジオキサン等のエーテル類＝ベンゼン、トル
エン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類
；テトラヒドロフラン、フルフラール等のフラン類；メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼン等の塩素化炭化水素、その化ジメチルホルムアミド
等が単一溶剤またはこれらの混合溶剤として使用される
。 これらの溶剤はバインダーに対して１０〜１００００ｗ
ｔ％、特に１００〜５０００ｗｔ％の割合で用いる。 磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。 無機顔料としては、１）導電性のあるカーボンブラック
、グラファイト、また２）無機充填剤としてＳ　ｉ　０
２　、　Ｔ　ｉ　０２　、　Ａ　Ｉ　２０３　、　Ｃｒ
　２　’０ＳｉＣ，Ｃａ○、ＣａＣＯ３，酸化亜鉛、ゲ
ーサイト、’２ｒＦｅ２０３、タルク、カオリン、Ｃａ
ＳＯ４、窒化硼素、フッ化黒鉛、二硫化モリブデン。 ＺｎＳ等がある。またこの他、次のような微粒子顔料（
エアロジルタイプ、コロイダルタイプ）：５ｉ０２．Ａ
ｌ２Ｏ３，ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、Ｙ２０３
　、ＣａＣ２、Ｆｅ３Ｏ４，Ｆｅ２Ｏ３，ＺｒＳｉＯ４
，５ｂ２０　、ＳｎＯ等も用いられる。これら微粒子顔
料は、例えばＳｉＯ２の場合、■無水硅酸の超微粒子コ
ロイド溶液（スノーテックス、水系、メタノールシリカ
ゾル等、８産化学）、■精製四塩化ケイ素の燃焼によっ
て製造される超微粒子状無水シリカ（標準品１００Ａ）
（アエロジル、日本アエロジル株式会社）などが挙げら
れる。又、前記■の超微粒子コロイド溶液及び■と同様
の気相法で製造される超微粒子状の酸化アルミニウム、
並びに酸化チタン及び前述の微粒子顔料が使用され得る
。この様な無機顔料の使用量は１）に関してはバインダ
ー１００重量部に対して１〜３０重量部、又２）に関し
ては１〜３０重量部が適当であり、これらがあまり多く
なると、塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが
多くなるという欠点がある。 また、無機顔料の径については１）に関しては０．１．
ｍｍ以下、さらにはＱ、０５．”ｍ以下が好ましく、２
）に関しては０．７μｍ以下、さらには０．Ｏ５Ｐｍ以
下が好ましい。 磁性層には分散剤が含まれていてもよい。 分散剤としては有機チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニン
などの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；
高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリ
ジンその他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン酸
、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン
酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類等
の両性活性剤などが使用される。 磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。 潤滑剤としては従来この種の磁気記録媒体に用いられる
潤滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂
肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性
剤等を用いることができるが、脂肪酸および／又は脂肪
酸エステルを用いるのが好ましい。 脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、
ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣＯＯ
Ｈ，Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪酸
エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂肪
酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪酸と該
脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が２１〜２３個より成
る一価のアルコールとから成る脂肪酸エステル等が使用
され、又前記脂肪酸のアルカリ金屑又はアルカリ土類金
属からなる金厘石鹸、レシチン等が使用される。 シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解置
換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等によ
って得られるものが使用される。 潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ３ ＣＨ２＝ＣＨＣ００Ｒ−、ＣＨ２＝Ｃ−ＣＯＯＲ１ＣＨ
２＝ＣＨ−ＣＨ２，ＧＯＯＲｌ ＣＨ２＝　ＣＨＣＯＮ　ＨＣＨ２０ＣＯＲ１ＣＨ２０Ｃ
ＯＣＨ＝　ＣＨ２、ＲＣＯＯＣＨ＝　ＣＨ２。 電 ＣＨＯＣＯＲＣＨ。 ＣＨ２０ＣＯＲＲＣＯＯＣ＝ＣＨ２、 ＲＣＯＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖又は
分枝状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は７
以上、好ましくは１２以上２３以下であり、これらは弗
素置換体とすることもできる。弗素置換体としては ＣｎＦ２ｎ＋１−１　Ｃｎ　Ｆ２ｎ＋ｌ　　（ＣＨ＝　
　）ｍ　−（但し、　ｍ＝１〜５）、　　　Ｒ ＣｎＦ２ｎ＋ＩＳ　Ｏ２ＮＣＨ，ＣＨ２−１等がある。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。 潤滑剤の入っていない磁気記録層は摩擦係数が高いため
画像のゆらぎが生じ、ジッターが発生し易いと共に、特
に高温走行下で摩擦係数が高いため磁気記録層の削れが
発生し易く、巻きみだれを生じ易いものである。又、デ
ィスク媒体では耐久走行性が劣ったり、塗膜ケズレが発
生したりする。 分散剤および潤滑剤はバインダーに対して０゜１〜２０
重量％含ませるのがよい。 バインダー量が多すぎるとブロッキングが出、バインダ
ーが少なすぎるとカレンダ一工程での付着が発生して好
ましくない。 なお本発明の磁気記録層の塗布乾燥後の厚みは０．１〜
１０Ｐｍの範囲が一般的である。 磁性層の潤滑剤、有機バインダーが放射線硬化型の場合
、その架橋に使用する活性エネルギー線としては、放射
線加速器を線源とした電子線、Ｃ０６０を線源としたン
ー線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線源
としたＸ線あるいは紫外線等が使用される。 特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。 本発明に使用される非磁性基材としては、ポリエチレン
テレブタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等
のポリオレフィン類、セルローストリアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
サルホン、ポリエチレンナフタレート、芳香族アラミド
、芳香族ポリエステル、アルミニウム等の金属板、ガラ
ス板等が使用されるが、これらに限定されるものではな
い。これらの中では、特にポリエステル、ポリアミド、
ポリイミド等を用いることが好ましい。 本発明の磁気記録媒体では支持体の両面に磁性層を設け
てもよい。特にフロッピーディスクの場合は両面に磁性
層を設けているものが好ましい。 また本発明の磁気記録媒体は必要に応じてバックコート
およびトップコートを設けてもよい。 これらのうちバックコートは、バインダー、顔料および
潤滑剤からなる組成とするのがよい。 バインダーとしては、前述の磁性層に用いた放射線硬化
性樹脂を使用することができるが、例えば（Ａ）放射線
により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個以上有する、
分子量５，０００〜１００゜ＯｏＯのプラスチック状化
合物、（Ｂ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合
を１個以上有するか、または放射線硬化性を有しない１
分子量３゜０００〜１００，０００のゴム状化合物、お
よび（Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を
１個以上有する、分子量２００〜３，０００の化合物を
、（Ａ）２０〜７０重量％、（Ｂ）２０〜８０重量％、
（Ｃ：）１０〜４０重量％の割合で用いた組合せが好ま
しい。 また熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂も用いることがで
き、これらは平均分子量２００，０００以下のものが好
ましい。 特に好ましいものは１ｗｔ維素樹脂（硝化綿等）、塩化
ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレ
タンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）であ
る。 顔料としては、前述の磁性層に用いた無機顔料を使用す
ることができる。そのなかの１）に関してバインダー１
００重量部に対して２０〜３００重量部、２）に関して
は１０〜３００重量部含ませることが好ましい。 潤滑剤としては前述の磁性層に用いたものが使用できる
。なかでも脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用い
るのが好ましい。 本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバースロ
ールコート、エアーナイフコート、エアードクターコー
ト、ブレードコート、キスコート、スプレィコートなど
の手法を用いて塗布し、磁性粉の磁化容易方向が磁性層
に対して垂直方向となるように配向処理を行って乾燥し
、好ましくは常法に従い放射線硬化すればよい。 そして必要に応じてバックコートおよびトップコートを
設ければよい。 配向処理は、常法に従う。 配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁場が代表
的なものとして用いられ、それらのものの各種組合せ、
例えば垂直と水平の組合せ、永久磁石または直流磁場と
交流磁場の組合せ、機械的配向や機械的配向と上記の組
合せ等、種々のものが用いられる。 そして磁場外で磁性粒子が反磁場のために配向したもの
が乱れ、配向性の低下を生じないよう磁場内で乾燥させ
、反磁場が働いてもそれらの影響が出ないよう、磁場内
である程度乾燥させ、磁性粉が動かないようにする必要
がある。 磁場強度としては１０００〜６０００Ｇが好ましい。こ
の場合、本発明では、板状比が６以上と配向しやすいた
め、１０００〜４０００Ｇ程度でも十分目的にかなうも
のとなる。 本発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や下記に示すよう
な塗膜のアンダーコート層を設けることもできる。これ
らは併用してもよい。 塗膜のアンダーコート層には、前述したような放射線硬
化型化合物とカーボンブラックおよび／または界面活性
剤を含有させることが好ましい。 用いるカーボンブラックはファーネス、チャンネル、ア
セチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造さ
れたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネス
ブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディス
クブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい。 カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいが
、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して１０
〜１００ｍμｍ、特に好ましくは１０〜８０　ｍ　）−
ｍである。更に粒子径について言えば、粒子径１００ｍ
μｍを超えるとアンダーコート層面の表面粗度が悪くな
り、磁性層塗布後の型持低下の原因となる。また１０ｍ
μｍ未満では分散がうまくいかず、やはりアンダーコー
トの表面粗度が悪くなる。 カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり１本発明ではグラファイト化カ
ーボンブラックも用いることができる。 このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。 アンダーコート層の厚さはＩＯＡ〜２　Ｐｍ程度とする
ことが好ましい。 叉皇■ 実施例にて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は
これらに限定さ九るものでないことは言うまでもない。 特性は以下のようにして評価した。 （１）板状比 電子顕微鏡写真〔走査形顕微鏡（ＳＥＭ）および透過形
顕微鏡（ＴＥＭ）］によって六方晶系のバリウムフェラ
イト粒子５０個について断面を観察し、六角形の粒径に
ついての測定値を平均して求めた平均粒径と厚さについ
ての測定値を平均して求めた平均厚みとから平均粒径／
平均厚みを算出し、板状比とした。 あるいはＸ線回折による２θの半値巾によってこれらの
値を測定することも８来る。 （２）垂直配向度 磁気テープの垂直方向の角形比Ｂ　ｒ　／　Ｂ　ｍを測
定し、反磁場補正を行った。 （３）ΔＨｃ　／　Ｈｃ　Ｓ　Ｆ　Ｄ 磁気測定Ｂ−Ｈカーブの第２象限のＨｃ変曲点の微分値
を測定し、半値巾（ｈ／２）でのΔＨｃの値を測定し、
媒体のＨｃで割る。それぞれ垂直成分（上）、平行成分
（／／）を測定する。 （４）線記録密度Ｄ５−０　（ＫＦＲＰ　Ｉ）回転数３
０Ｏｒ、ｐ、ｍ、、ヘッドミツエライトヘッド、ギャッ
プ０．３．ｍｍにて低記録密度領域での出力（Ｅ）が高
記録密度領域でＥ／２となる線記録密度Ｄｇθ（ＫＦＲ
ＰＩ）を測定した。 （５）オーバーライド特性 媒体上１２ＫＦＲＰＩの短形波を書き込み、その上に４
８ＫＦＲＰＩを重ね書きし、出力差を測定する。出力差
が大の方がオーバーライドが良い。 実施例１ 厚さ７５　Ｐｍのポリエステル（ＰＥＴ）フィルムの表
面と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層
を設層した。 アンダーコート層　　　　　　　　　　　重量部カーボ
ンブラック　２０ｍとｍ　　　　　　５０（Ａ）アクリ
ル変性基ビー酢ビービニルアルコール共重合体　分子量
４５．ＯＯ’０　　　　　４０（Ｂ）アクリル変性ポリ
ウレタンエラストマー分子量２０．０００　　　　　　
　　　４０（Ｃ）多官能アクリレート　分子量１．００
０ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　２ステ
アリン酸ブチル　　　　　　　　　　　２混合溶剤（Ｍ
ＩＢＫ／トルｘ、ｔ＝　１／１）　　３００上記組成物
をボールミル中５時間分散させ、上記のポリエステル（
ＰＥＴ）フィルム上に乾燥厚０．７部ｍになるように塗
布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロカーテンフイ
プ電子線加速装置を用いて加速電圧１５０ＫｅＶ、電極
電流１０ｍＡ、吸収線量５Ｍｒａｄ、Ｎ２ガス中で電子
線をアンダーコート層に照射した。 このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し、種々
のサンプルを作製した。 すなわち、まず最初に、第１表に示すタップ密度の六方
晶系バリウムフェライトＡ　（Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ、２０１
ｇのＢａ、Ｆｅを一部置換したものを水熱合成法で合成
）を用いて以下のようにして磁性塗料を作成した。 １！ＩＬ（放射線硬化型磁性層）　　　　重量部バリウ
ムフェライト　粒径可変　　　　１２０カーボンブラツ
ク　３０ｍＰ　　　　　　１０ベーＡｌ２Ｏ３粉末（０
，５Ｐ粉状）　　　２溶剤（’ＭＥＫ／トルエン５０１
５０）　　　　　ｌ　ＯＯ上記組成物をボールミル中に
て３時間混合し。 六方晶系板状バリウムフェライトを良く湿潤させる。次
に 塩ビー酢ビービニルアルコール共重合体（マレイン酸含
有）分子量４０．０００　　６部（固型分換算）アクリ
ル二重結合導入塩酢ビ共重合体（マレイン酸含有）分子
量２０．０００　１２部（固型分換算）アクリル二重結
合導入ポリエーテルウレタンエラストマー　分子量４０
．０００　９部（固型分換算）ペンタエリスリトールト
リアクリレート　３部溶剤（ＭＥＫ／トルエン　５０１
５０）　　　２００部ステアリン酸　　　　　　　　　
　　　　　４部ステアリン酸ブチル　　　　　　　　　
　２部のバインダーの混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入し
、再び４２時間分散させる。 この様にして得られた磁性塗料を上記アンダーコート層
上に塗布し、永久磁石（３０００ガウス）上で乾燥させ
ながら垂直配向させ、その後、連続して赤外線ランプま
たは熱風により溶剤を乾燥させた（これらは同時に並用
してもよい）後、表面平滑化処理後、ＥＳＩ社製エレク
トロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して、加速電
圧１５０ＫｅＶ、電極電流２０ｍＡ、全照射量５　Ｍ　
ｒ　ａ　ｄの条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照射し
、塗膜を硬化させた。硬化後の塗膜厚は磁性層１．５）
−ｂｒｒＬであった。なお、この膜厚の測定は電子マイ
クロメーターで行った。これらの塗膜をフィルムの両面
に形成し１両面コートとした。 このようにして作成したサンプルの特性を第１表に示す
。 第１表のとおり、オーバーライド特性が、垂直ＳＦＤ４
．５％以上、面内ＳＦＤ２％以下のものが良好な事がわ
かる。フロッピー特性として、なお２６ｄＢ以上（現在
のフロッピー規格）あれば問題ないと判断される。 このように面内成分のＳＦＤが重要ポイントであること
がわかる。 上記のものはフェライトヘッドでの結果である。 Ｈｃｌｌｏｏのもので１−６と同様なものを作成したと
ころ、上４．７．／／２．０であった。フェライトヘッ
ドで通常Ｈｃ８００程度のものが消磁出来ると言われて
いるが、Ｈｃ１０００程度のもの迄は広げても消磁可で
、１０００を超えたものが消磁出来ない為であろう。 また第２表に示すように、実施例１−４のものについて
比較として現行の高密度フロッピーと比較すると１粒径
０．１５．ｗｍ以下のものが線記録密度上好ましいが、
実用に耐え得る範囲では粒径０．２．ｗｍ迄のものが使
用できる。 第　　２　　表 比：Ｃｏ７Ｆ８２０３．Ｈｃ６５０ 表面粗度についても０．０８μｍを超えると型持低下を
生じ、実用上好ましくない。 実施例２ 六方晶系バリウムフェライト（Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ　　○の
Ｂａ、Ｆｅを一部変換したものを水熱合成法で合成）　
平均粒径０．０８７−ｃｍ、タップ密度０゜５０ｇ／ｃ
ｃ、Ｈｃ＝７２０　　　１２０重量部ａ−Ａ　ｌ　２０
３　　（０、５，−粉末）　　２重量部グラファイト化
カーボン３４０００Ｂ ２０ｍと　　　　　　　１２重量部 分散剤（大豆油未精製レシチン）　　３重量部および 溶剤（ＭＥＫ／シクロへキサノン　７０／３０）ｉｏｏ
重量部 を用いて実施例１と同様にして磁性粉混合物を作った。 次に、バインダーとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
マレイン酸含有）分子量２０．０００６重量部（固型分
換算） アクリル変性フェノキシ樹脂分子量３５．０００　　　
　　　　　　　６重量部（固型分換算）アクリル変性ポ
リエーテルウレタンエラストマー分子量２０．０００　
　１８重量部（固型分換算）溶剤（ＭＥＫ／シクロへキ
サノン７０／３０）２００重量部 高級脂肪酸変性シリコーンオイル　　３重量部および ミリスチン酸ブチル　　　　　　　　３重量部混合溶解
させた。 その後、実施例１と同様の操作により試料Ａを作成し、
特性を調べた。 ただし、配向処理は交流磁場（３０００Ｇ）を用いて行
った。 この試料Ａの特性を以下に示す。 垂直配向度　　　　０．７２ ΔＨｃＬ／Ｈｃ　　＝４．９ ΔＨｃ”／　Ｈｃ“＝１．１ オーバーライド特性　　　２８ 試料Ａにおいて放射線硬化型のバインダーを熱硬化型に
かえて同様に処理した。 すなわち塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体（マレイン酸含有）アクリル変性フェノキシ樹脂
、アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー　計
３０重量部を、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体（ユニオンカーバイド社１１ＶＡＧＨ）１
５重量部およびウレタン（日本ポリウレタン社ニッポラ
ン３０２）１５重量部に代える以外は、試料Ａと同様に
試料Ｂを作製した。ただし、この場合、分散後磁性塗料
中にイソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製コロ
ネートＬ）を５重量部（固型分換算）加えた。また表面
平滑後、８０℃で４８時間熱硬化を行った。 試料ＡおよびＢについて８インチ径の巻きとりロールに
５０００ｍ巻きとったときのジャンボロールの外側と内
側でのカールを比較した。カール測定は、５インチに打
ち抜いたフロッピーディスクをプレート板上に乗せ、カ
ールした高さｈｅｍを測定する。 この結果を以下に示す。 カール（ｃｍ） この結果より熱硬化型の場合、ジャンボロールの内側で
は巻きしまりによりカールがあった。放射線硬化型の場
合、カールがなく好ましい。 溌１し引沓釆− 垂直磁気記Ｓ！媒体において、リングヘッドを使用した
ものにおいて、面内成分も重要であり、垂直及び面内成
分のＳＦＤを抑える事により、ディスク特性で問題とな
るオーバーライド特性を改善する事が出来た。 オーバーライド特性が悪いと、一度データー記録したも
のに再度データー記録したとき、書き込みが出来ず、誤
動作を生じ、実用に耐えるものとならない。 粒径０，２７−、ｍ以下なので線記録密度特性がすぐれ
ており、高密度媒体としても適したものとなる。

【図面の簡単な説明】

第１図はΔＨｃ　／　Ｈｃ　Ｓ　Ｆ　Ｄの測定法を説明
するための図である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）リング型磁気ヘッドを用いる磁気記録媒体におい
   て、磁気記録媒体のＢ−ＨカーブのＨｃ変曲点でΔＨｃ
   ＾■／Ｈｃ＾■＝４．５％以上（垂直成分のＳＦＤ）、
   ΔＨｃ″／Ｈｃ″＝２％以下（面内成分のＳＦＤ）であ
   るバリウムフェライト含有磁気記録媒体。
2. （２）バリウムフェライトの粒径が０．２μｍ以下であ
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
3. （３）リング型磁気ヘッドがフェライトヘッドである特
   許請求の範囲第１項又は第２項記載の磁気記録媒体。