JPS6286537A - 磁気デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

工　発明の背景 技術分野 本発明は、磁気記録媒体に関し、特にフロッピーディス
クやスチルビデオフロッピー用磁気シートなどの磁気デ
ィスクに使用される磁性粒子の組成の改良に関するもの
である。 先行技術とその問題点 近年、家庭用ＶＴＲの普及や高性能オーディオカセット
テープ、ビデオテープ、コンピュータテープ、多重コー
トテープ、磁気ディスク、フロッピーディスク、スチル
ビデオフロッピー、磁気カード等の実用化がはかられ、
それにともなって磁気記録媒体に使用する磁性粒子材料
が種々開発されている。 そのなかで、代表的なものは針状酸化鉄である。　しか
し、これのみでは磁気記録の高密度化に対処できず、さ
らにコバルト被着酸化鉄粒子および磁性金属を使用した
金属磁性粒子・が検討され、高性能オーディオカセット
テープ、ビデオテープ、各種磁気ディスク等で一部実用
化されている。 ところで、フロッピーディスクは、オフコン、パソコン
、ワープロなどの外部記憶装置用媒体やパソコン、ワー
プロ等のシステムプログラムの入力１個人ファイル、デ
ータ交換用とその適用範囲が拡大している。 そして、磁性粒子材料としては、各種コバルト系酸化鉄
、金属等が用いられているが、出力、Ｓ／Ｎ比、耐酸化
性、記録密度特性、耐久性等のいずれかの点で不十分で
ある。　また、これら磁性粒子には、カーボンブラック
等の非磁性帯電防止剤を添加しなければならないが。 このために残留磁化が低下し、出力レベル、分解能の点
でフロッピーディスクの高密度化を計る上で不利となる
。 従って、以上のような点の改良が望まれている。 また、スチルビデオフロッピー用の磁気シートでは、シ
ートが高速回転し、しかもシートの変形を伴う押圧を受
けて記録再生が行われるものであり、高い耐久性を要求
される。 また、このような磁気シートでは、ヘッド位置とシート
変形量によって再生出力は変化するものであり、ヘッド
およびシートの接触状態によって出力変動が生じる。　
従って、磁気シートは適度な剛性を持ったものでなけれ
ばならない、　磁気シートでは、Ｆｉｉ性層は高速度の
摺動と屈曲による変形を同時に受けるため、従来のディ
スクやテープとは大きく異なった機械的疲労を受ける。 そして、従来の磁気シートでは、耐久性の点で未だ不十
分である。 ■　発明の目的 本発明の目的は、耐久性、出力、耐酸化性。 帯電防止効果が高く、帯電防止剤の添加による出力低下
がなく、高記録密度の達成が有利である磁気ディスクを
提供することにある。 ■　発明の開示 このような目的は以下の本発明によって達成される。 すなわち、本発明は、可とう性基体上に磁性粒子とバイ
ンダーとを含む記録層を有する磁気ディスクにおいて、
磁性粒子として、少なくとも表面が炭化鉄である粒子を
含み、磁性粒子中の炭化鉄含有量が５〜９０重量％であ
ることを特徴とする磁気ディスクである。 ■　発明の具体的構成 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。 本発呪の磁気記録媒体の記録層は、少なくとも表面が炭
化鉄である磁性粒子を含有する磁性粒子を含む。 このような磁性粒子は、鉄シアン化合物を硫酸塩、亜硫
酸塩あるいは硫化物と混合し、鉄製反応器中に入れＣＯ
を導入しつつ加熱還元後冷却して得られる。 また、特開昭５８−１７１７６５号や特開昭６０−１２
４０２３号などに記載されているように、ａ　−Ｆ　６
００　Ｈ（Ｇｏｅｔｈｉｔｅ）　　、β−Ｆ　ｅ　ＯＯ
Ｈ（Ａｋａｇａｎｉｔｅ）　　、　ｙ　−Ｆ　ｅ　ＯＯ
Ｈ（Ｌｅｐｉｄａｃｒｏｃｉｔｅ）等のオキシ水酸化鉄
やａ　−Ｆｅ２０３　、　ｙ−Ｆｅ２０３　。 Ｆｅ３０４　、ｙ−Ｆｅ２０３−Ｆｅ３０４　　（固溶
体）等の酸化鉄を、−酸化炭素や水素と一酸化炭素との
混合ガスを用いた還元によって得られる。 あるいは、これら酸化鉄と、水系コロイド状カーボンブ
ラック粒子サスペンションのスラリー状混合物を水素還
元、−酸化炭素還元、または水素と一酸化炭素との混合
ガス還元によって調製してもよい。 これ以外にも鉄シアン化合物としてターンブルー青、ベ
ルリンホワイト等のへキサシアノ鉄塩、画面カリ、貧血
ソーダ、赤面カリ、鼻血ソーダ等のフェロまたはフェリ
シアン化合物等を用い、添加物として硫酸カリ、硫酸ソ
ーダ、硫酸アンモニウム、硫酸鉄、硫酸水素ソーダ、硫
酸水素カリ等の硫酸塩、亜硫酸カリ、亜硫酸ソーダ、亜
硫酸アンモニウム、亜硫酸水素カリ等の亜硫酸塩、ある
いは千オ硫酸ソーダ、チオ硫酸カリ、硫化ソーダ、硫化
カリ、硫化鉄、ロダンソーダ、ロダンカリ、イソチオシ
アン酸ソーダ、イソチオシアン酸カリ等の硫化物を用い
ることができる。 これら加熱還元雰囲気に用いる気体はＣＯに限らず、Ｃ
Ｈ４，水性ガス、プロパン等の炭素含有還元性気体を用
いてもよい。 さらには、純鉄粒子を形成後、上記各種加熱還元処理を
行ってもよい。 なお、還元に際しては、加熱温度３００〜７００℃、加
熱時間３０分〜１０時間程度とすればよい。 生成される炭化鉄粒子としては、ＦｅｎＣにおいて、ｎ
≧２、特に２〜３のものである。 この場合、ｎは整数であって、化学量論組成となる必要
はないが、Ｆｅ２　Ｃ、Ｆｅ５　Ｃ２。 Ｆｅ５Ｃが主として生成される。 そして、粒子中には潤度勾配があってもかまわず、Ｃは
表面にさえ存在すれば、必ずしも粒子全域に存在する必
要はないが、炭化鉄が粒子中の１０〜１００重量％を占
めることが好ましい。 以上述べてきた少なくとも表面が炭化鉄である磁性粒子
は、針状形態あるいは粒状形態のものを使用し、磁気記
録媒体として用いる用途によって選択される。　フロッ
ピーディスクおよび磁気シートに使用する場合は、長径
０．２〜２ル■、軸比１〜２０のものが好ましい。 また、このような磁性粒子は、磁性粒子全体の５〜９０
重量％である。 ５重量％より少ないか９０重量％より多いと、本発明の
効果が実現しないからである。 磁性粒子としては、上記の少なくとも表面が炭化鉄であ
る磁性粒子の他に、金属磁性粒子あるいはコバルト被着
酸化鉄粒子さらにはγ−Ｆｅ２０３粒子、バリウムない
しストロンチウムフェライト粒子が含まれていてもよい
。 本発明に用いる金属磁性粒子は。 １）　ａ−ＦｅＯＯＨ（ｇｏｅｔｈｉｔｅ）　。 β−Ｆ　ｅ　ＯＯＨ（Ａｋａｇａｎｉｔｅ）、　ｙ　−
Ｆ　ｅ　０ＯＨ（Ｌｅｐｉｄｏｃｒｏｃｉｔｅ）等のオ
キシ水酸化鉄や：ａ−Ｆｅ２０３　、ｙ−Ｆｅ２０３、 Ｆｅ３０４　、ｙ−Ｆｅ２０３−Ｆｅ３０４　　（固溶
体）等の酸化鉄や； Ｃｏ、Ｍｎ、Ｎｉ、　　Ｔｉ、Ｂｉ、Ｂｏ、Ａｇ等の金
属の１つまたは２つ以上がドープされ。 その表面にアルミニウム化合物またはケイ素化合物を吸
着、被着したものを、還元性ガス気流中で加熱還元して
、鉄または鉄を主成分とする磁性粒子束を製造する方法
、 ２）金属塩水溶液よりＮａＢＨ４により液相還元して作
製する方法、 ３）あるいは低圧力の不活性ガス雰囲気中で金属を蒸発
させて作製する方法等により得られる。 金属磁性粒子の組成としては、Ｆｅ、Ｃｏ。 Ｎｉの単体および、これらの合金、またはこれらの単体
および合金に、Ｃｒ　、　Ｍ　ｎ　、　Ｃｏ　。 ＮｉさらにはＺｎ、Ｃｕ、Ｚｒ、ＡＩ、Ｔｉ。 Ｂｉ、Ａｇ、Ｐｔ等を添加した金属が使用できる。 また、これらの金属にＢ、Ｃ，Ｓｉ　、Ｐ、Ｎなどの非
金属元素を少量添加したものでも本発明の効果は失われ
ない。 あるいは、Ｆｅ４Ｎ等、一部室化された金属磁性粒子で
あってもよい。 さらに、金属磁性粒子は、粒子表面に酸化被膜を有する
ものであってもよい。 このような酸化被膜をもつ金属磁性粒子を用いた磁気記
録媒体は、温度湿度等の外部環境による磁束密度の低下
、磁性層のサビの発生による特性劣化に有利であるが、
磁性層の電気抵抗が上昇し、使用時の帯電によるトラブ
ルを生じやすい。 金属磁性粒子は針状形態あるいは粒状形態のものを使用
し、磁気記録媒体として用いる用途によって選択される
。　フロッピーディスクおよび磁気シートに使用する場
合は針状形態あるいは粒状形態のものを用途に応じて選
択すればよい。 また、γ−Ｆｅ２０３粒子としては、α−Ｆ　ｅ　ＯＯ
Ｈ（ｇｏｅｔｈｉｔｅ）を４００℃以上で脱水してα−
Ｆｅ２０３とし、Ｈ２ガス中で３５０℃以上で還元して
Ｆｅ３Ｏ４とし、さらに２５０℃以下で酸化して作製し
たものを用いればよい、　また、γ−ＦｅＯＯＨ（Ｌｅ
ｐｉｄｏｃｒｏｃｉｔｅ）を脱水、還元、酸化してもよ
、い。 コバルト被着酸化鉄粒子としては、γ−Ｆｅ２０３粒子
やＦｅ３Ｏ４粒子の表面から数１０λ以内のごく薄い層
にＣｏ２＋を拡散させたものを用いればよい。 バリウムないしストロンチウムフェライトとしては、Ｂ
ａＦｅ１２０ｔｓ等の六方晶バリウムないしストロンチ
ウムフェライトやバリウムないしストロンチウムフェラ
イトのＢａ、Ｆｅの一部をＣａ、Ｓｒ、Ｐｂ、Ｃｏ、Ｎ
ｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｉ　ｎ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｇｅ、Ｎ
ｂ、Ｚｒその他の金属で置換したもの等が揚げられる。 バリウムないしストロンチウムフェライトの製法として
は、セラミック性、共沈−焼成法、水熱合成法、フシッ
クス法、ガラス結晶化法。 アルコキシド法、プラズマジェット法等があり１本発明
ではいずれの方法を用いてもよい。 これらの方法の詳細については小池吉康、久保修共著“
セラミックス１８（１９８３）Ｎｏ。 １０″などを参照することができる。 このような磁性粒子を含有する磁性層の厚さは、通常の
厚さであってよく、０．１〜ｌＯル腸程度が好ましい。 磁性粒子を磁性塗料とする際に用いるバインダーは、放
射線硬化性、熱可塑性樹脂、熱硬化性もしくは反応型樹
脂またはこれらの混合物等が使用されるが、得られる膜
強度等から熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂を用いるこ
とが好ましい。 熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平均分
子量ｔｏ、ｏｏｏ〜 ２００．０００．重合度２００〜２．０００程度のもの
である。 熱硬化樹脂または反応型樹脂としてもこのよ。 うな重合度等のものであり、塗布、乾燥後に加熱するこ
とにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限大の
ものとなるものである。　そして、これらの樹脂のなか
で、樹脂が熱分解するまでの間に軟化または溶融しない
ものが好ましい。 具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、”ポ
リウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、ブチラール樹脂、ホ
ルマール樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコ
ーン樹脂、アクリル系反応樹脂、ポリアミド樹脂、エポ
キシ−ポリアミド樹脂、飽和ポリエステル樹脂、尿素ホ
ルムアルデヒド樹脂などの縮重合系の樹脂あるいは高分
子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの
混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプ
レポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイ
ソシアネートの混合物、低分子量グリコール／高分子量
ジオール／トリフェニルメタントリイソシアネートの混
合物など、上記の縮重合系樹脂とイソシアネート化合物
などの架橋剤との混合物、塩化ビニル−酢酸ビニル（カ
ルボン酸含有も含む）、塩化ビニル−ビニルアルコール
−酢酸ビニル（カルボン酸含有も含む）、塩化ビニル−
塩化ビニリデン、塩素化塩化ビニル、塩化ビニル−７ク
リロニトリル、ビニルブチラール、ビニルホルマール等
のビニル共重合系樹脂と架橋剤との混合物、ニトロセル
ロース、セルロースアセトブチレート等の繊維素系樹脂
と架橋剤との混合物、ブタジェン−アクリロニトリル等
の合成ゴム系と架橋剤との混合物、さらにはこれらの混
合物が好適である。 このような、熱硬化性樹脂を硬化するには、一般に加熱
オーブン中で５０〜８０℃にて６〜１００時間加熱すれ
ばよい、　あるいは、低速度にて、８０−１２０℃にて
オーブン中を走行させてもよい。 バインダーとしては、放射線硬化型化合物を硬化したも
の、すなわち放射線硬化性樹脂を用いたものが特に好ま
しい。 放射線硬化性化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を有する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等
の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。　
その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を
有する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可塑
性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽和
ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。　放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂
は多塩基酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上
にマレイ刈Ｌフマル酸等を加え常法、すなわち触媒の存
在下で、１８０〜２００℃、窒素雰囲気下、脱水あるい
は脱アルコール反応の後、２４０〜２８０℃まで昇温し
、０．５〜１ｍｍＨＨの減圧下、縮合反応により得るこ
とができる。　マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製
造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜４０モル
％、好ましくは１０〜３０モル％である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂゛の例とし
ては、次のようなものを挙げることができる。 （１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニルアルコ
ール−マレイン酸共重合体、塩化ヒニールー酢酸ビニー
ルー末端ＯＨ側鎖アルキル基共重合体、例えばＵＣＣ社
製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣ。 ＶＹＥＧＸ、ＶＥＲＲ，ＶＹＥＳ、ＹＭＣＡ。 ＶＡＧＨ，ＵＣＡＲＭＡＧ５２０．　　ＵＣＡＲＭＡＧ
　５２　ａ等が挙げられ、このものにアクリル系二重結
合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入し
て放射線感応変性を行う。 これらはカルボン酸を含有してもよい。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、７
ジビン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１．２プロピレングリコール、
１．３ブタンジオール、ジプロピレングリコール、１゜
４ブタンジオール、１．６ヘキサンジオール、ペンタエ
リスリフト、ソルビトール、グリセリン、ネオペンチル
グリコール、１，４シクロヘキサンジメタツールのよう
な多価アルコールとのエステル結合により得られる飽和
ポリエステル樹脂またはこれらのポリエステル樹脂をＳ
Ｏ３Ｎａ等で変性した樹脂（例えばバイロン５３Ｓ）が
例として挙げられ、これらも放射線感応変性を行う。 （３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂およびこれらの成分の共重合体で、
これら樹脂中に含まれる水酸基に対し放射線感応変性を
行う。 （４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂、例えばシェル化学製（二ピ
コ−）１５２゜１５４　、８２８　、　ｆｏｏｔ、　１
００４．１０Ｇ？）　、ダウケミカル製（Ｄ　Ｅ　Ｎ４
３１　、　Ｄ　Ｅ　Ｒ７３２、Ｄ　Ｅ　Ｒ５１１、ＤＥ
Ｒ３３１）、大日本インキ製（エピクロン４００　、８
００）、さらに上記エポキシの高重合度樹脂であるＵＣ
Ｃ社製フェノキシ樹脂（ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣ，ＰＫＨＨ
）、臭素化ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの
共重合体。 大日本インキ化学工業製（エビクロン１４５．１５２　
、１５３　、１１２０）等があり、またこれらにカルボ
ン酸基を含有するものも含まれる。　これら樹脂中に含
まれるエポキシ基を利用して放射線感応変性を行う。 （５）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である樹
脂中の水酸基を活用して放射線感応変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ｐｖｐ
オレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少なくとも一種含むアクリル系樹脂等も
有効である。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーないしオリゴ
マーの例を挙げる。 （１）ポリウレタンエラストマー、プレポリマーもしく
はオリゴマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、および基体フィルム、
例えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効で
ある。　ウレタン化合物の例としては、イソシアネート
として、２，４−トルエンジイソシアネート、２．６−
）ルエンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシ
アネート、１．４−キシレンジイソシアネート、１．５
−ナフタレンジイソシアネート。 ｍ−フェニレンジイソシアネー）、ｐ−ｙエニレンジイ
ソシアネート、３．３′−ジメチル−４，４′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、４．４′−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、３．３′−ジメチルビフェニレ
ンジイソシアネート、４．４′−ビフェニレンジイソシ
アネニト、ヘキサメチレンジイソシアネート、インフォ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソ
シアネート、デスモジュールＬ、デスモジュールＮ等の
各種多価インシアネートと、線状飽和ポリエステル（エ
チレンゲリコール、ジエチレングリコール、グリセリン
、トリメチロールプロパン、ｌ、４−ブタンジオール、
ｌ、６−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソル
ビトール、ネオペンチルグリコール、ｌ、４−シクロヘ
キサンジメタツールの様な多価アルコールと、フタル酸
、イソフタル蝕、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸
、セバシン酸の様な飽和多塩基酸との縮重合によるもの
）、線状飽和ポリエーテル（ポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコ
ール）やカプロラクタム、ヒドロキシル含有アクリル酸
エステル、ヒドロキシル含有メタクリル酸エステル等の
各種ポリエステル類の縮重合物により成るポリウレタン
エラストマー、プレポリマーが有効である。 これらのウレタンエラストで−の末端のインシアネート
基または水酸基と、アクリル系二重結合またはアリル系
二重結合等を有する単量体とを反応させることにより、
放射線感応性に変性することは非常に効果的である。　
また、末端に極性基としてＯＨ，Ｃ０ＯＨ等を含有する
ものも含む。 さらに、不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノある
いはジグリセリド等、インシアネート基と反応する活性
水素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合
を有する単量体も含まれる。 （２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレア上トロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー＋４３２Ｊ等のエラストマーは、特にブ
タジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架
橋および重合させるエラストマー成分として適する。 （３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。　
　Ｒ−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸基と
なっている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を
付加することにより放射線感応性を高めることが可能で
あり、バインダーとしてさらに有利となる。 またポリブタジェンの環化物１日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。 その他、熱可塑性エラストマーおよびそのプレポリマー
の系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム
、塩化ゴム、アクリルゴム、インプレンゴムおよびその
環化物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エポキ
シ変性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡
バイロン＃３００）等のエラストマーも放射線感応変性
処理を施すことにより有効に利用できる。 オリゴマー、七ツマ−として本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、１．６〜ヘキサングリコールジアク
リレート、ｌ、６−ヘキサンゲリコールジメタクリレー
ト、Ｎ−ビニルピロリドン。 ペンタエリスリトールテトラアクリレート（メタクリレ
ート）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（メタ
クリレート）、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、多官
能オリゴエステルアクリレート（アロニツクスＭ−７１
００、Ｍ−５４００，５５００，５７００等、東亜合成
）、ウレタンエラストマーにツインラン４０４０）のア
クリル変性体、あるいはこれらのものにＣ０ＯＨ等の官
能基が導入されたもの、トリメチロールプロパンジアク
リレート（メタクリレート）フェノールエチレノキシド
付加物のアクリレート（メタクリレート）、下記一般式
で示されるペンタエリスリトール縮金環にアクリル基（
メタクリル基）またはεカプロラクトン−アクリル基の
ついた化合物。 式中、ｍ＝ｌ、ａ＝２、ｂ＝４（７）化合物（以下、特
殊ペンタエリスリトール縮合物Ａという）、 ｍ−１，ａ＝３．ｂ＝３ｃ７）化合物（以下、特殊ペン
タエリスリトール縮合物Ｂという）、ｍ−１，ａ＝６．
ｂ＝０の化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合
物Ｃという）、ｍ−２、ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以下
、特殊ペンタエリスリトール縮合物りという）、および
下記式一般式で示される特殊アクリレート類等が挙げら
れる。 １）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ００ＣＨ２）３−ＣＣＨ２
０Ｈ（特殊アクリレートＡ） ２）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ００ＣＨ２）３−ＣＣＨ２
０Ｈ３（特殊アクリレートＢ） ３）　　　（ＣＨ２＝ＣＨＣ０（ＯＣ３Ｈａ）ｎ　−０
ＣＨ２）３−ＣＣＨ２ＣＨ３（特殊アクリレートＣ） （特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） （特殊アクリレートＦ） （ｎ中１６）　　　　　　（特殊アクリレートＧ）８）
　　　ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２０）４　　
Ｃ０ＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） （特殊アクリレ−）Ｉ） （特殊アクリレートＪ） Ａ−（Ｘ−Ｙ÷−Ｘ−Ａ Ａニアクリルｍ、　　　　Ｘ：多価アルコールＹ：多塩
基酸　　　　（特殊アクリレ−）Ｋ）１２）　　　　　
Ａ（−Ｍ−Ｎ＋−Ｍ−ＡＡニアクリル酸、　　　Ｍ：２
価アルコールＮ：２塩基酸　　　　　（特殊アクリレー
トＬ）次に、放射線感応性バインダー合成例を説明する
。 ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度　ｎ＝５００
）７５０部とトルエン１２５０部、シクロヘキサノン５
００部を５１の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、
８０℃昇温後トリレンジイソシアネートの２−とドロキ
シエチルメタクリレートアダクト※を６１．４部加え、
さらにオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０
．０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率
が９０％となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトン１２５０分を加
え希釈する。

【※トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（ＺＨＥＭａ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気波中１１の４つロフラスコ内で
８０℃に加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０部
、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０５
部を反応缶内の温度が８０〜８５℃となるように冷却コ
ントロールしながら滴下終了後８０℃で３時間撹拌し、
反応を完結させる。 反応終了後取り出して、冷却後、白色ペースト状のＴＤ
Ｉの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブラチール樹脂アクリル変性体に合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積水化学製ＢＭ−３１００部ヲトルエン
１９１．２部、シフはヘキサノン７１．４分と共に５１
の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し、８０℃昇温後
ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を７．４部加え、さらに
オクチル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１
５部を加え、８０℃テＮ　２気流中ＮＣＯ反応率が９０
％以上となるまで反応せしめる。 反応終了後冷却し、メチルエチルケトンにて希釈する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡バイロンＲＶ−２００）
、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン１
１６部に加熱溶解し、８０℃昇温後、ＴＤＩの２ＨＥＭ
Ａアダクト※を３゜５５部加え、さらにオクチル酸スズ
０．００７部、ハイドロキノン０．００７部を加え、８
０℃でＮ２気流中ＮＣＯ反応率が９０％以上となるまで
反応せしめる。 ｄ）ｏエポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）４０
０部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に加
熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００６
部、ハイドロキノン０．００３部を添加し８０℃とし、
アクリル酸６９部を滴下し、８０℃で酸価５以下となる
まで反応せしめる。 ■フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨ：ＵＣＣ社製
　分子量３００００）６００部、メチルエチルケトン１
８００部を３１の４つロフラスコに仕込み、加熱溶解し
、８０℃昇温後、トリレンジイソシアネートの２ヒドロ
キシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加え、さ
らにオクチル酸スズ０．０１２部、／１イドロキノン０
．０１２部を加え、８０℃でＮ２気流中、ＮＧＯ反応率
が９０％となるまで反応せしめる。 このフェノキシ変性体の分子量は、 ３５０００．１分子当りの二重結合は１個である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニッポラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ０．
００９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ
４３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるよう
に冷却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率９
５％以上となるまで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２）ＩＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．
０７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶にいれ、
８０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温
度が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴
下終了後、８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せ
しめる。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー）シンクレアペトロケミカ
ル社製低分子量末端水酸基ポリブタジェンポリＢＤリク
イットレジンＲ−１５２５０部、２ＨＨＭＡ３２．５部
、ハイドロキノン０．０７部、オクチル酸スズ０．００
９部を反応缶にいれ、８０℃に加熱溶解後、ＴＤＩ４３
．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるように冷
却しながら滴下し、滴下終了後、８０℃で反応率９５％
以上となるまで反応せしめる。 高分子には、放射線照射により崩壊するものと分子間に
架橋を起こすものが知られている。 ゛分子間に架橋を起すものとしては、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン、ポリアクリル醜エステル
、ポリアクリルアミド、ポリ塩化ビニル、ポリエステル
、ポリビニルピロリドンゴム、ポリビニルアルコール、
ポリアクリルンがある。　このような架橋型ポリマーで
あれば、上記のような変性を特に施さなくても。 架橋反応が起こるので、前記変性体の他に、これらの樹
脂はそのまま使用可能である。 このような放射線硬化性樹脂を硬化するには、公知の種
々の方法に従えばよい。 なお、硬化に際して、紫外線を用いる場合、上述したよ
うな、放射線硬化型化合物の中には、光重合増感剤が加
えられる。 この光重合増感剤としては、従来公知のものでよく、例
えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾイネチルエーテ
ル、α−メチルベンゾイン、α−クロルデオキシベンゾ
イン等のベンゾイン系、ベンゾフェノン、アセトフェノ
ン、ビスジアルキルアミノベンゾフェノン等のケトン類
、アセドラキノン、フエナントラキノン等のキノン類、
ベンジルジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスル
フィド等のスルフィド類、等を挙げることができる。　
光重合増感剤は樹脂固形分に対し、０．１〜ｌＯ重量％
の範囲が望ましい。 紫外線照射は１例えばキセノン放電管、水素放電管など
の紫外線電球等を用いればよい。 一方、電子線を用いる場合には、放射線特性としては、
加速電圧１００〜７５０ＫＶ、好ましくは１５０〜３０
０ＫＶの放射線加速器を用い、吸収線量を０．５〜２０
メガラツドになるように照射するのが好都合である。 特に照射線源としては、吸収線量の制御、製造工程ライ
ンへの導入、電離放射線の遮蔽等の見地から、放射線加
熱器により電子線を使用する方法および前述した紫外線
を使用する方法が有利である。 さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても、短時間で硬化することができるの
で、このような樹脂を用いることができる。 このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上する。　また円盤状磁気シートでは巻きぐせによ
る磁気シートのカールを防止する上でも有利となる。 さらに、オンラインで行えるので生産性が良くなる。 磁性粒子／バインダーは１重量比でｌ／ｌ−９／１．特
に１．５７１〜６／１であることが好ましい、　このよ
うな割合とするのは１／ｌ未満では飽和磁束密度が低く
なり、９／ｌをこえると分散不良により表面粗度が悪く
なり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるからであ
る。 本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される、　
溶剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性お
よび相溶性等を考慮して適宜選択される。 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、ギ酸エチル
、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メタノール
、エタノール、インプロパツール、ブタノール等のアル
コール類、）／Ｌ／エン、キシレン、エチルベンゼン等
の芳香族炭化水素類、イソプロピルエーテル、エチルエ
ーテル、ジオキサン等のエーテル類、テトラヒドロフラ
ン、フルフラール等のフラン類等を単一溶剤またはこれ
らの混合溶剤として用いられる。 これらの溶剤はバインダーに対してｌＯ〜１００００重
量％、特に１００〜５０００重量％の割合で用いる。 磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。 無機顔料としては、無機充填剤とじて Ｓ　　ｉ０２　　、　　Ｔｉ　　０２　　、　　Ａ１２
　０３　　、Ｃｒ２０３　、Ｓ　ｉＣ，Ｃａｂ、　Ｃａ
ＣＯ３、酸化亜鉛、ゲーサイト、γ−Ｆｅ２０３．タル
ク、カオリン、ＣａＳＯ４，窒化硼素、フッ化黒鉛、二
硫化モリブデン、ＺｎＳ等がある。 またこの他、次のような微粒子顔料（エアロジルタイプ
、コロイダルタイプ）：５ｉ０２゜ＡＪＬ２０３　、Ｔ
ｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｃｒ２０３　、Ｙ２０３　、ＣｅＯ
２、Ｆｅ３０４　、Ｆｅ２０３　、ＺｒＳｉＯ４、Ｓ　
ｂ２０５　、Ｓ　ｎ０２等も用いられる。　これら微粒
子顔料は１例えば５ｉ０２の場合、■無水硅酸の超微粒
子コロイド溶液（スノーテックス、水系、メタノールシ
リカゾル等、日産化学）、■精製四塩化ケイ素の燃焼に
よって製造される超微粒子状無水シリカ（標準品１００
人）（アエロジル、日本アエロジル株式会社）などが挙
げられる。　また、電解法や、前記■の超微粒子コロイ
ド溶液および■と同様の気相法で製造される超微粒子状
の酸化アルミニウム、並びに酸化チタンおよび前述の微
粒子顔料が使用され得る。　この様な無機顔料の使用量
は、磁性粒子１００重量部に対して１〜３０重量部が適
当であり、これらがあまり多くなると、塗膜がもろくな
り、かえってドロップアウトが多くなるという欠点があ
る。 また、無機顔料の径については０　、７　ｐ、ｍ以下、
さらには０．５沖■以下が好ましい。 なお本発明では、カーボンブラック、グラファイト、グ
ラファイト化カーボン等の導電剤ないし帯電防出剤の使
用は全く必要ないか、あるいは少量の使用でよい。 磁性層には分散剤が含まれていてもよい。 分散剤として有機チタンカップリング剤、シランカップ
リング剤や界面活性剤が、帯電防止剤として大豆油精製
レシチン、サポニンなどの天然界面活性剤；アルキレン
オキサイド系、グリセリン系、グリシドール系などのノ
ニオン界面活性剤：高級アルキルアミン類、第４級アン
モニウム塩類、ピリジンその他の複素環類、ホスホニウ
ムまたはスルホニウム類などのカチオン界面活性剤；カ
ルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エ
ステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤ニアミノ
酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸ま
たは燐酸エステル等の両性活性剤などが使用される。 磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。 潤滑剤としては、従来この種の磁気記録媒体に用いられ
る潤滑剤として、シリコンオイル、フッ素オイル、脂肪
酸、脂肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界
面活性剤等を用いることができるが、脂肪酸および／ま
たは脂肪酸エステルを用いるのが好ましい。 脂肪酸としては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン醜
、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン
酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸
、ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣＯ
ＯＨ。 Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪酸エス
テルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂肪酸と
炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂肪酸エ
ステル類、炭素数１７個以上のノルマルないしイソ−塩
基性脂肪酸と脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が２１〜
２３個よりなる一価のアルコールとからなる脂肪酸エス
テル等が使用され、また前記脂肪酸のアルカリ金属また
はアルカリ土類金属からなる金属石鹸、レシチン等が使
用される。 シリコーンとしては、脂肪酸変性よりなるもの、一部フ
ッ素変性されているものが使用される。　アルコールと
しては高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電
解置換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等
によって得られるものが使用される。 潤滑剤の中では、放射線硬化型のものも使用して好都合
である。　これらは裏面への裏型転写を抑えるため、ド
ロップアウトの防止、ロール状に巻かれたときの内外径
の個所よる出力差の減少の他、オンライン上での製造が
可能である等の利点を持つ。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２Ｃ００Ｒ１ ＣＨ２＝　ＣＨＣＯＮ　ＨＣＨ２Ｇ　ＯＯＲ。 ＲＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２。 ＲＣＯＯＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２等で１．：コー７’Ｒは
直鎖または分校状の飽和もしくは不飽和炭化水素基で、
炭素数は７以上、好ましくは１２以上２３以下であり、
これらはフッ素置換体とすることもできる。 フッ素置換体としては、 Ｃｎ　Ｆ　ｎ　ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２＋。 ＣｎＦ２．−１０ｒ　２　’５２− 等がある。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。 分散剤および潤滑剤は磁性粒子に対して（１１〜２０重
量部含ませるのがよい。 なお、潤滑剤は１分散時に塗布液中に添加してもよく、
あるいは塗膜表面にオーバーコートしてもよい、　さら
には、これらを併用してもよい。 その他に必要に応じて各種帯電防止剤、潤滑剤、分散剤
等を用途に合わせて使用することが有効である。 用いる可とう性の基体としては、ポリエチレンテレフタ
レート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオ
レフィン類、セルローストリアセテート等のセルロース
誘導体、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリサルホン
、ポリエチレン２．６−ナフタレート、芳香族アラミド
、芳香族ポリエステル等が使用されるが、これらに限定
されるものではない。 これらの中では、特にポリエステル、ポリアミド、ポリ
イミド等を用いることが好ましい。 本発明の磁気記録媒体では、このような基体の両面に磁
性層を設けているものが好ましい。 また、必要に応じてアンダーコート、バックコートおよ
びオーバーコートを設けてもよい。 なお、バックコートを設けるときには、バインダー、顔
料および潤滑剤からなる組成とするのがよい。 木１発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行
えばよい。 すなわち、磁性粒子をバインダー、有機溶剤等とともに
混合分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料を必要に
応じ下地層を設けたり、下地処理を施したポリエステル
フィルムなどの基体上にグラビアコート、リバースロー
ルコート、エアーナイフコート、エアードクターコート
、ブレードコート、キスコート、スプレィコートなどの
手法を用いて塗布し、必要に応じて塗布時に生じる自然
配向を打ち消す磁場等によるランダム配向処理を行って
乾燥し、好ましくは常法に従い放射線等の硬化処理をす
ればよい、　そして必要に応じてバックコートおよびオ
ーバーコートを設ければよい。 なお、本発明の記録媒体において１．基体と磁性層との
間にアンダーコート層を設けることもできるが、塗膜の
アンダーコート層には、前述したような熱硬化性樹脂ま
たは放射線硬化型化合物および必要に応じ導電性顔料、
無機充填剤、潤滑剤、界面活性剤等が含まれる。 また、プラズマ重合法により、アンダーコート層を設層
してもよい。 アンダーコート層の厚さはｌＯ人〜５７Ａ、ｌＩ程度と
することが好ましい。 なお、アンダーコート層は２Ｍ以以上層してもよい。 また、特に磁性層厚が１ル層以下のときには、アンダー
コートは耐久性向上の点で有効である。 さらに、基体表面にコロナ放電処理、プラズマ処理を施
し、その処理面上に磁性層を設けることもできる。 ■　発明の具体的作用効果 本発明によれば、磁性粒子として少なくとも表面が炭化
鉄である粒子を５〜９０重量％を含有する。 このため、耐久性、耐摩耗性ならびに塗膜硬度が高く、
かつ温度、湿度環境に対する化学的、磁気的安定性が高
い。 また、炭化鉄粒子は導電性を有するため、カーボンブラ
ック等の非磁性帯電防止剤を磁性層中に添加する必要が
ないか、あるいは添加しても、少量ですむため飽和磁化
が高く、記録密度の高いディスクが可能となる。 また、減磁も少なく、耐食性にもきわめて良好である。 このため総合的にみて、きわめて性能の高い磁気記録媒
体が実現する。 より具体的には、針状酸化鉄を用いるときと比較して１
表面平滑性を低下させずに磁気特性特に残留磁束密度が
格段と向上し、きわめて高い記録密度を得ることができ
る。 また、特にＣｏ系酸化鉄を用いるときと比較しても、同
様に磁気特性、アナログ記録時の出力Ｓ／Ｎ比が向上す
る。 また、デジタル記録の場合にも飽和記録時の出力が大と
なるため、同一出力を得るには磁性層厚が薄くてすみ、
高い記録密度、分解能を得ることがきる。 そして、金属磁性粉を用いるときと比較して、耐湿性、
耐食性が格段と向上し、磁気的、電気的信頼性が増し、
塗膜強度も格段と向上し、摩擦特性も改善され、ディス
クドライブによる耐久性が格段と向上する。 また、８インチ、５．２５インチフロッピーディスクの
センシングホールを活用する場合、黒色度が高く、ＪＩ
Ｓ規格を容易に満足する光透過率を与える磁気ディスク
が得られる。 従って、フロッピーディスク、スチルビデオフロッピー
ディスク等としてきわめて有用な磁気ディスクが実現す
る。 ■　発明の具体的実施例 以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明をさらに詳
細に説明する。 ［実施例１］ 厚さ７５７ｚｍのポリエステル（ＰＥＴ）；ｙイルムの
表面と裏面の両面上に下記に示されるような磁性塗料か
らなる磁性層を形成し、種々のサンプルを作製した。 すなわち、まず、少なくとも表面がＦｅｎＣである粉末
（以下ＦｅｎＣ粉末とする）および針状Ｆｅ粉末を用意
した。 ここで、針状ＦｅｎＣ粉末は、針状α−ＦｅＯＯＨを電
気炉にて、ｃｏとＨ２の混合ガス（混合比率３ニア）雰
囲気中で３５０℃、５時間加熱して得られたものである
。　この場合の軸比は５であった。 得られたものはＸ線回折によりＦｅ５ＣとＦｅの混晶で
あることが確認された。　このものは、保磁力Ｈｃ＝９
００〜９１００ｅ、飽和磁化σ５＝８２ｅ■ｕ／ｇの粉
末である。 また、針状Ｆｅ粉末は、針状α−ＦｅＯＯＨを水素還元
して得られたもので、平均粒子長０．２ｇｍ、軸比８、
保磁力Ｈｃ＝９０００ｅ、飽和磁化σｓ　＝　１５５　
ｅ＋ｓｕ／ｇの粉末である。 上記の磁性粉を用いて、下記表１に示す混合割合（重量
部）にて以下のようにして磁性塗料を作成した。 磁性粉　　　　　　　　　　　１２０重量部α−Ａ文２
０３　　　　　　　　２重量部（０，５ル履粉状） 溶剤（ＭＥＫ／）ルエン：　　　１００重量部上記組成
物をボールミル中にて３時間混合し、磁性粉をよく湿潤
させた。 なお１表１試料Ｎｏ、　６　（比較）のみ上記組成物に
さらにカーボンブラック（２０＋ｓｇｍ）１０重量部を
加えた。 次に、下記に示すバインダーｌを磁性分湯合物の入った
ボールミル中に投入し、再び４２時間混合分散させた。 昼エヱｌ：」 塩化ヒニルー酢酸ビニルービニルアルコール共重合体（
マレイン酸含有率：１％ ＭＷ４０．０００）８重量部（固型分換３Ｉ）、アクリ
ル二重結合導入塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体（マレ
イン酸含有率：１％ ＭＷ２０，０００）１０重量部（固型分換算）、 アクリル二重結合導入ポリエーテルウレタンエラストマ
ー（ＭＷ４０　、０００）　９重量部（固型分換算）、 ペンタエリスリトールトリアクリレート３重量部 溶剤（ＭＥＫ／　ト）Ｌｔｚン；　５０１５０）２００
重量部 ステアリン酸　４重量部、 および ステアリン酸イソセチル１０重量部 を混合溶解させた。 このようにして得られた磁性塗料をポリエステルフィル
ム上にグラビアコートを行い、配向方法は無配向処理と
し、その後遠赤外線ランプまたは熱風により溶剤を乾燥
させ表面平滑化処理をした。 その後、ＥＳＩ社製エレクトロンカーテンタイプ電子線
加速装置を使用して加速電圧１５０ＫｅＶ、電極電流２
０ｍＡ、全照射量５Ｍ　ｒ　ａ　ｄの条件下でＮ２雰囲
気下にて電子線を照射し、塗膜を硬化させた。　硬化後
の塗膜（磁性層）の厚さは１　、　ＯＪＬｌｌであった
。　なお、この膜厚の測定は電子マイクロメーターで行
った。 これら塗膜をフィルムの両面に形成し、両面コートとし
た。 このように作製した試料（表１）について３．５インチ
フロッピーディスクを作製し特性を調べた。 表　　　　　　１ Ｎｏ、　　　　　　　　　　　　粉　　末　　　　　　
　粉　　末ｌ（比較）　　　１００　　　　　　−２（
比較）　　　９５　　　　　　５ ６（比較）　　　　　　　　　　　１００特性は以下の
ように評価した。 （１）磁気特性 Ｈｃ、Ｂｒは振動試料磁束計で測定した。 （２）線記録密度　Ｄ５ｏ（ＫＦＲＰＩ）回転数３０　
Ｏｒ、ｐ、履０、ヘッド；フェライトヘッド、ギャップ
０　、３１Ｌｍにて低記録密度領域での出力（Ｅ）が高
記録密度領域でＥ／２となる線記録密度Ｄ５ｏ（ＫＦＲ
ＰＩ）を測定した。 （３）４０ＫＦＲＰＩ出力 （２）と同様にして４０ＫＦＲＰＩでの出力を測定し、
試料Ｎ００６に対する相対値を求めた。 （４）分解能 上記線記録密度Ｄ５ｏの測定において、６４ＫＦＲＰＩ
／１６ＫＦＲＰＩの分解能を算出した。 後述の実施例２の試料Ｎｏ、　　ｌ　Ｏ（比較）を基準
とし、この値を１００％として他のものを％単位に換算
した。 （５）電気抵抗（Ω／Ｃゴ） サンプル巾ｌｏｏｍｍ、長さ１００腸■の大きさに切断
し、超絶線抵抗器により、主電極外径５０ｍｍ、ガード
電極外径８０ｍｍ、内径７０露■の測定部に、温度２０
±２℃、相対湿度６５±５％の大気中で直流５００Ｖの
印加電圧により測定した。 （６）耐久性 ２０℃、６０％ＲＨ環境下にてＩＦ信号出力が３ｄＢ低
下する回数を測定した。 （７）＃醸化性 試料を６０℃９０％ＲＨ環境下に７日間保持した後、磁
気測定を行い、最初の状態からの飽和磁束密度φｍの減
少率Δφｍ（％）を求めた。 結果を表２に示す。 ［実施例２］ 実施例１において、表３に示す混合割合（重量％）の磁
性粉にかえた以外は実施例１と同様にして試料（試料Ｎ
０１７〜１２）を作製した。 ただし、試料Ｎｏ、　　ｌ　Ｏ（比較）、Ｎｏ、１２（
比較）のみ磁性粉１２０重量に対し、カーボンブラック
（２０ｍルｍ）１０重量部を磁性層に含有している。 この場合、Ｃｏ−ｙＦｅ２０３粉末は、γ−Ｆｅ２０３
粒子の表面から数１０人以内のごく薄い層にＣｏ２＋を
拡散させたものである。　このものは保磁力Ｈｃ　＝　
７５０　等Ｏｅの粉末である。 さらにＢ　ａ　−Ｆ　ｅ　１！　０１９粉末は、Ｂａ−
Ｆ　ｅ　１２０１ｇ　ノＢ　ａ　、　Ｆ　ｅを一部置換
したものを水熱合成法で合成したものである。 表　　　　　　３ 試料　針状ＦｅｎＣＣｏ−γＦｅ２０３　　Ｈａ−Ｆｅ
１２０１ｇＮｏ、　　　　　粉　　末　　　　　粉　　
末　　　　　　　粉　　末１０（比較）−１００− １２（比較）　　−１００ このように作製した試料Ｎｏ、　７〜１２について３．
５インチフロッピーディスクを作製し、実施例１と同様
に特性を調べた。 結果を表４に示す。 ［実施例３］ 厚さ７５４ｍのポリエステル（ＰＥＴ）フィルムの表面
と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層を
設層した。 アン　−コー　　　　　　　　　　　　重量部カーボン
ブラック　２０ｍル鵬　　　　　　５０（Ａ）アクリル
変性塩ビー酢ビービニルアルコール共重合体　分子量４
５．０００　　４５（Ｂ）アクリル変性ポリウレタンエ
ラストマー分子量　５　、０００　　　　　　　　　　
４５（Ｃ）ペンタエリスリトールトリアクリレートＯ ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　　　２ステア
リン酸ブチル　　　　　　　　　　　２混合溶剤（ＭＩ
ＢＫ／　）ルエン＝ｌ／１）　　３００上記混合物をボ
ールミル中５時間分散させ、上記のポリエステル（Ｐ　
Ｅ　Ｔ）フィルム上に乾燥厚０．７ＪＬ層になるように
塗布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロンカーテン
タイプ電子線加速装置を用いて加速電圧１５０ＫｅＶ、
電極電流１０ｍＡ、吸収線量５Ｍ？ａｄ、Ｎ２ガス中で
電子線をアンダーコート層に照射した。　このようなア
ンダーコート層の厚さは３ＪＬ１１であった。 このようなアンダーコート層を設けた基体の両面上に２
表５に示す混合割合（重量％）の磁性粉を用い、バイン
ダーとして下記のバインダー２を用いて実施例１と同様
に磁性塗料を作成した。 Δエヱｌ二」 硝化綿（アルコール含有せず） （ダイセル工業社製セルライン） １８重量部（固型分換算）、 ウレタン（日本ポリウレタン社製ニラポラン３０２２）
　　　　１２重量部（固型分換算）、溶剤（ＭＥＫ／シ
クロヘキサノン； ７０／３０）　　　　　　　　　２００重量部、ステア
リン酸　　　　　　　　　３重量部、ミリスチン酸ブチ
ル　　　　　　３重量部を混合溶解させた。 ただし、分散後２磁性塗料中にイソシアネート化合物（
日本ポリウレタン社製コロネートＬ）を５重量部（固型
分換算）加えた。 このようにして得られた磁性塗料を７５％鳳のポリエス
テルフィルム上にグラビアコートを行い、配向方法は無
配向とし、その後遠赤外線ランプまたは熱風により溶剤
を乾燥させ、表面平滑化処理をした。 その後、８０℃で４８時間熱硬化を行った。 硬化後の塗膜（磁性層）の厚さは２ル鵬であった。 表　　　　　５ Ｎｏ、　　　　　　　　　　粉　　末　　　　　　　粉
　　末このように作製した試料Ｎｏ、１３について、３
．５インチフロッピーディスクを作製し、実施例１と同
様に特性を調べた。 結果を表２に示す。 表２，４に示される結果より、本発明の効果は明らかで
ある。 ｌＪ′Ｔ−聡にネ市正−Ｆ　（自発） 昭和６０年１１月１１日 昭和６０年特許願第２２６０８７号 ２、発明の名称 磁気ディスク ３、補正をする者 °１１件との関係　　　　　　　　特許出願人柱　　所
　　　　東京都中央区日本橋−下目１３番１号名　　称
　　　（３０６）　　ティーディーケイ株式会社代表者
　　大　歳　　寛 ４、代理人　〒１０１ 住　　所　　　　東京都千代田区岩本町３丁目２番２号
［代田岩本ビル４階 ｆｆ１８６４−４４９８　　Ｆａｘ、８６４−６２８０
、、＋、））。 一′ｔに 一二＝」 明細−７の「発明の詳細な説明」の欄 ４０１帆１１ ．１ｉ ６、補正の内容 （１）明細書第２７頁第４行および第６行のｒｍ−１４
をｒｍ＝１４と補正する。 （２）同第２７頁第８行のｒｍ−２Ｊをｒｍ＝２」と補
正する。 （３）同第６５頁第８行の「セルライン」の後に、ｒＦ
Ｍ−２００Ｊを挿入する。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）可とう性基体上に磁性粒子とバインダーとを含む
   記録層を有する磁気ディスクにおいて、磁性粒子として
   、少なくとも表面が炭化鉄である粒子を含み、磁性粒子
   中の炭化鉄含有量が５〜９０重量％であることを特徴と
   する磁気ディスク。
2. （２）少なくとも表面が炭化鉄である粒子の炭化鉄がＦ
   ｅｎＣ（ｎは２以上）の組成である特許請求の範囲第１
   項に記載の磁気ディスク。
3. （３）磁性粒子として、金属磁性粒子、γ−酸化鉄粒子
   、コバルト被着酸化鉄粒子またはバリウムもしくしはス
   トロンチウムフェライト粒子を含む特許請求の範囲第１
   項または第２項に記載の磁気ディスク。