JPS6220133A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

産」しヒ例ｊ団り年！一 本発明は塗布型磁気記録層を有する磁気記録媒体に関し
、特に磁気記録層に特徴を有する磁気記録媒体に関する
ものである。 来の　　　び　日が解決しようとする山　点現在、磁気
記録媒体は、オーディオ、ビデオ、コンピューター、磁
気ディスク、８ｍ／ｍ等の分野で広範囲に使用されるよ
うになっており、将来ビデオフロッピー、高密度フロッ
ピー等の分野でも使用されることが予想され、それに伴
い、磁気記録媒体に記録する情報量も年々増加の一途を
たどり、そのため磁気記録媒体に対しては記録密度の向
上が益々要求されるようになってきている。 従来より、磁気テープなどの磁気記録媒体では、磁気記
録層中の針状磁性粉を長手方向に配向させる等して、磁
気特性を向上させているが、針状磁性粉を長手方向に配
向させたものは低周波帯域では高い出力が得られる反面
高密度記録には限界があるものであった。 又、このため最近では磁性粉末が平板状であり、垂直方
向に磁化容易軸を有するバリウムフェライト磁性粉末を
磁気記録層に使用した磁気記録媒体が提案されている（
特開昭５７−１９５３２８号公報）。 これらのバリウムフェライト磁性粉末を使用したもので
は、短波長記録特性は良好である。特に短波長特性が良
好であるため、デジタル記録用の媒体としてすぐれてい
る。デジタル記録用は現在面内記録方式が中心であり、
さらに高密度化をはかるためには種々のデジタル記録用
の垂直記録媒体の開発がのぞまれる。最近、磁性粉のタ
ッピング充填率により再生出力とノイズの比Ｓ　／　Ｎ
が変化し、安定性が異なることが報告されている（特開
昭６Ｏ−６９８２２）、それによれば、磁性粉のタッピ
ング充填率が１５％以上（タップ密度０゜８０　ｇ　／
　ｃ　ｃ以上）、粒径０．０１〜０．３戸ｍ、粒径と厚
みとの比が２．３〜１５の場合、飽和磁化、保磁力にお
いてすぐれており、充填率が１５％未満（タップ密度０
．８０ｇ／ｃｃ未満）である場合には、磁性粉の強い凝
集が認められ、かつ。 得られた磁気記録媒体のＳ／Ｎが低くなる。充填率が１
５％より大きくなると１個々の磁性粉がよく分解されて
いて得られた磁気記録媒体のＳ／Ｎが高くなることが記
載されている。 ｒｌ　　点を　　するための手 本発明者等はバリウムフェライト磁性粉について更に検
討したところ、バリウムフェライト磁性粉のタップ密度
により、配向性及び電磁変換特性が異なり、特定のタッ
プ密度以上のものが配向しやすく（第１表参照）、又、
電磁変換特性も良好であり、特に高密度領域での特性が
すぐれていることを見出し、本発明に到達したものであ
る。 すなわち、本発明は非磁性基材上に塗布型磁気記録層を
設けた磁気記録媒体において、磁気記録層がタップ密度
０．７５ｇ／ｃｃ以下であるバリウムフェライ１−を用
いたことを特徴とする磁気記録媒体に関するものである
。 タップ密度が０．８ｇ／ｃｃ以上のものは、塗膜中に磁
性粉がつまりやすいためが配向しにくい。 そのため、フロッピーでの線記録密度（Ｄお）が悪い。 タップ密度が０　、８　ｇ／−ｃ　ｃ未満のものは塗膜
中で磁性粉がスムーズに動きゃすいためが配向しやすい
。そのためＤ３ｏが大となる。０．３０以下のものはタ
ップ密度が低すぎるためが、塗料化に際し分散しにくい
。分散性が悪く配向しにくい。そのためＤｔｏが小であ
る。又、表面粗度も悪くなる。 飽和磁束密度（Ｂ　ｍ　）もタップ密度０．８ｇ／ｃｃ
未満から０．３５迄の間では比較的低下が少ない。分解
能もＮｏｌを５Ｔ１００％とするとタップ密度０．３５
ｇ／ｃｃ迄のものはすぐれていることがわかる（第１図
参照）。 本発明で使用するバリウムフェライト磁性粉は六方晶系
板状のものであり、ｆヒ学式Ｂａ０・６Ｆｅ２０３で表
わされ、この外、この化学式のＢａ及びＦｅの一部がＴ
ｉ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｉｎ。 Ｍ　ｎ　ｇ　Ｃｕ　＋　Ｇ　ｅ　＋　Ｎ　ｂ　ｔ　Ｃａ
　ｒ　Ｓ　ｒ　＋　Ｐ　ｂ　ｒ　Ｎｉ等の全屈で置換さ
れたものも含まれる。 バリウムフェライト磁性粉は直径０．２．−ｍ以下、好
ましくは０．１５．ｍｍ以下、更に好ましくは０．１．
−ｍ以下、板状比６以上、更に好ましくは８以上である
。この場合、板状比の上限値には特に制限はないが、通
常３０以下である。ここで平均粒径とは、電子顕微鏡写
真〔走査型顕微鏡（ＳＥＭ）および透過型顕微鏡（ＴＥ
Ｍ））によって、例えば六方晶系バリウムフェライト粒
子の断面５０個程度を観察し、粒径についての測定値を
平均したものである。平均厚みも電子顕微鏡写真による
測定値の平均である。また板状比とは平均粒径／平均厚
の値である。あるいは平均厚はＸ線回折の半値巾によっ
て測定することも出来ろ。バリウムフェライトは六方晶
系板状であるため、針状磁性粉と比べて表面粗度への影
響が大きくなり。 上記の径及び板状比よりも大きくなると表面粗度の低下
が激しく好ましくない。粒径が前記のような範囲にある
場合は垂直成分が充分に利用され、かつ磁性層の表面平
滑性が良好となり、ノイズも充分に低く、高密度記録が
達成できろ。 バリウムフェライトの製法としては、セラミック法、共
沈−焼成法、水熱合成法、フラックス法、ガラス結晶化
法、アルコキシド法、プラズマジェット法等があり、い
ずれの方法も利用できることは言うまでもない。 その他ＣＯ含有酸化鉄粉、？ｒＦｅ２Ｏ３粉、Ｆｅ３Ｏ
４粉、Ｃｏフェライト粉、メタル粉末等も利用できる。 この磁性層表面の表面粗度Ｒ２ｏは０．０８ｐｍ以下で
あり、特にＲ２Ｏが０．０６．、−ｍ以下であることが
好ましい。Ｒ２Ｏが０．０８．−ｍをこえると、表面粗
度が悪くなり、そのためへラドタッチが悪くなって型持
低下を生じ、正確な書込み／読み出しが行えず、高記録
密度が達成されない。 この場合、２０点平均粗さＲ２６の定義と表示は。 ＪＩＳＢＯ６０１に記載されている１０点平均粗さＲに
準じ、測定点を１０点から２０点に増して新たに規定し
たものである。 すなわち、２０点平均粗さＲ２つは、例えば触針針によ
り描き出された断面曲線を用い、この断面曲線から基準
長さだけ抜き取った部分において、記録チャート進行方
向に記入した各山頂、谷底の平均線に平行、かつ断面曲
線を横切らない任意の基準直線から縦倍率の方向に測定
した最高から１０番目までの山頂の標高の平均値と、最
深から１０番目までの谷底までの山頂の標高の平均値と
、最深から１０番目までの谷底の標高の平均値との差を
マイクロメーター（、”　ｍ　）で表わしたものをいう
。 なお、２０点平均粗さＲ２Ｏを求める場合の基準長さし
は、原則として２０点平均粗さＲ２０の範囲によって異
なり、 ０．８．−ｍ≦Ｒ２６の場合　　Ｌ＝０．２５ｍｍ０．
８．、−ｍ＜Ｒ２０≦６．３．−ｍの場合Ｌ＝０．８ｍ
ｍ ６　、３、−　ｍ　＜　Ｒ２０≦２５　、、　ｍの場合
Ｌ＝２．５ｍｍ ２５　、ｗ　ｍ　＜　Ｒｚｏ≦１００．−ｍの場合Ｌ＝
８ｍｍ １００、−　ｒｎ　＜　Ｒ２０≦４００．−ｍの場合Ｌ
＝２５ｍｍ とする。 また、カットオフ値は、触針スピード３０．−ｍ／　ｓ
　ｅ　ｃで、０．１８〜９Ｈｚ程度とする。 また触針針の針圧は２ｍｇとする。 本発明の磁気記録層には通常用いられる有機バインダー
、無機顔料、潤滑剤、その他、分散剤、帯電防止剤等を
常法に従って用いることができる。 本発明の磁気記録層で用いる有機バインダーは。 従来、磁気記録媒体用に利用されている熱可塑性、熱硬
化性又は反応型樹脂やこれらの混合物が使用されるが、
得られる塗膜強度等の点から硬化型、特に放射線硬化型
の樹脂が好ましい。 熱可塑性樹脂としては軟（ヒ温度が１５０　’Ｃ以下、
平均分子量が１０，０００〜２０’ｏ、ｏｏｏ、重合度
が約２００〜２，０００程度のもので、例えば塩化ビニ
ール−酢酸ビニール共重合体（カルボン酸導入のものも
含む）、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体（カルボン酸導入のものも含む）、塩化ビニール
−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニール−アクリロニ
トリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリ
ル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重
合体、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタク
リル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、メタクリ
ル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸
エステル−スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、
ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリア
ミド樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリ
ロニトリル共重合体、ブタジェン−アクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニールブチラール、セ
ルロース誘導体（セルロースアセテート、セルロースダ
イアセテート、セルローストリアセテート、セルロース
プロピオネート、ニトロセルロース等）、スチレン−ブ
タジェン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエ
ーテル−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各
種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物が使
用される。 熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては、塗布液の状態で
は２００，０００以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹
脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好
ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂
、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂
、エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミ
ン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とインシアネートプ
レポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソ
シアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオ
ールとポリイソシアネートの混合物、尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／ト
リフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリア
ミン樹脂、及びこれらの混合物である。 バインダーは放射線硬化型化合物を硬化したものを用い
ることが好ましい。 放射線硬化型化合物の具体例としては、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有すアクリル酸、メタクリル酸
、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系
二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結
合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の
、放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。そ
の低放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合を有
する化合物であれば用いることができる。 放射線照射による架橋あるいは重合￥ｉ燥する基を熱可
塑性樹脂の分子中に含有する樹脂としては次の様な不飽
和ポリエステル樹脂がある。 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば下記（２）の多塩基酸と多価ア
ルコールのエステル結合から成る飽和ポリエステル樹脂
で多塩基酸の一部をマレイン酸とした放射線硬化性不飽
和二重結合を含有する不飽和ポリエステル樹脂を挙げる
ことができる。 放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂は多塩基酸成分１
種以上と多価アルコール成分１種以上にマレイン酸、フ
マル酸等を加え常法、すなわち触媒の存在下で、１８０
〜２００°Ｃ１窒Ｍ雰囲気下、脱水あるいは脱アルコー
ル反応の後、２４０〜２８０°Ｃまで昇温し、０　、　
５〜１　ｍｍ）ｒｇの減圧下、縮合反応により得ること
ができる。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時
の架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜４０モル％、
好ましくは１０〜３０モル％である。 放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例として
は、次のようなものを挙げることができる。 （１）塩化ビニール系共重合体 塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル−マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール
−末端ＯＩ４側鎖アルキル基共重合体、たとえばＵＣＣ
社製ＶＲＯＨ，ＶＹＮＣ，ＶＹＢＧＸ、ＶＥＲＲ，ＶＹ
ＥＳ、ＶＭＣＡ、ＶＡＧＨ等が挙げられ、このものに後
述の手法により、アクーリル系二重結合、マレイン酸系
二重結合、アリル系二重結合を導入して放射線感応変性
を行う。 （２）飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸のような飽和多塩基酸と、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ト
リメチロールプロパン、１゜２プロピレングリコール、
１．３ブタンジオール。 ジプロピレングリコール、■、４ブタンジオール、１．
６ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビトー
ル、グリセリン、ネオペンチルグリコール、１，４シク
ロヘキサンジメタツールのような多価アルコールとのエ
ステル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂又はこ
れらのポリエステル樹脂をＳＯ３Ｎａ等で変性した樹脂
（例えばバイロン５３Ｓ）が例として挙げられ、これら
も同様にして放射線感応変性を行う。 （３）ポリビニルアルコール系樹脂 ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体で、こ
れら樹脂中に含まれる水酸基に対し後述の手法により放
射線感応変性を行う。 （４）エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂ビスフェノー
ルＡとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂。 例えばシェル化学製（エピコート１５２．１５４．８２
８゜１００１．１００４．１００７）、ダウケミカル製
（Ｄ　Ｅ　Ｎ４３１゜Ｄ　Ｅ　Ｒ７３２、ＤＥＲ５１１
，ＤＥＲ３３１）　、大日本インキ製（エピクロン４０
０，８００）、更に上記エポキシの高重合度樹脂である
ＵＣＣ社製フェノキシ樹脂（ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣ，ＰＫ
ＨＨ）、臭素化ビスフェノールＡとエピクロルヒドリン
との共重合体、大日本インキ化学工業製（エピクロン１
４５．１５２、］５３．１１２０）等があり、又これら
にカルボン酸基を含有するものも含まれる。これら樹脂
中に含まれるエポキシ基を利用して放射線感応変性を行
う。 （５）繊維素誘導体 各種のものが用いられるが、特に効果的なものは硝化綿
、セルローズアセトブチレート、エチルセルローズ、ブ
チルセルローズ、アセチルセルローズ等が好適である、
樹脂中の水酸基を活用して後述の方法により放射線感応
変性を行う。 その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体（ＰＶＰオ
レフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含
有するアクリルエステル及びメタクリルエステルを重合
成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有効で
ある。 以下にエラストマーもしくはプレポリマーの例を挙げる
。 （１）ポリウレタンエラストマーもしくはプレポリマー ポリウレタンの使用は耐摩耗性、及び基体フィルム、例
えばＰＥＴフィルムへの接着性が良い点で特に有効であ
る。ウレタン化合物の例としては、イソシアネートとし
て、２．４−トルエンジイソシアネート、２．６−トル
エンジイソシアネート、１．３−キシレンジイソシアネ
ート、１，４−キシレンジイソシアネート、１，５−ナ
フタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシア
ネート、Ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３′−
ジメチル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネート、３
，３′−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、４，
４′−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、イソフォロンジイソシアネート、ジ
シクロヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジュー
ルＬ、デスモジュールＮ等の各種多価インシアネートと
、線状飽和ポリエステル（エチレングリコール、ジエチ
レングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン
、■、４−ブタンジオール、■、６−ヘキサンジオール
、ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチルグ
リコール、１，４−シクロヘキサンジメタツールの様な
予備アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テンフタ
ル酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸の様な飽和多
塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエーテル
（ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール
、ポリテトラメチレングリコール）やカプロラクタム、
ヒドロキシル含有アクリル酸エステル、ヒドロキシル含
有メタクリル酸エステル等の各種ポリエステル類の縮重
合物より成るポリウレタンエラストマー、プレポリマー
が有効である。 これらのウレタンエラストマーの末端のイソシアネート
基又は水酸基と、アクリル系二重結合又はアリル系二重
結合等を有する単量体とを反応させることにより、放射
線感応性に変性することは非常に効果的である。又、末
端に極性基として○Ｈ，Ｃ０ＯＨ等を含有するものも含
む。 さらに不飽和二重結合を有する長鎖脂肪酸のモノあるい
はジグリセリド等、イソシアネート基と反応する活性水
素を持ち、かつ放射線硬化性を有する不飽和二重結合を
有する単量体も含まれる。 （２）アクリロニトリル−ブタジェン共重合エラストマ
ー シンクレアペトロケミカル社裏ポリＢＤリタイッドレジ
ンとして重板されている末端水酸基のあるアクリロニト
リルブタジェン共重合体プレポリマーあるいは日本ゼオ
ン社製ハイカー１４３２Ｊ等のエラストマーは、特にブ
タジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生じ架
橋及び重合させるエラストマー成分として適する。 （３）ポリブタジエンエラストマー シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリタイッドレジ
ンＲ−１５等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。Ｒ
−１５プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっ
ている為、分子末端にアクリル系不飽和二重結合を付加
することにより放射線感応性を高めることが可能であり
、バインダーとして更に有利となる。 またポリブタジェンの環化物、日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性樹脂との組合せによりすぐれた性質
を有している。 その他、熱可塑性エラストマー及びそのプレポリマーの
系で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム、
塩化ゴム、アクリルゴム、インプレンゴム及びその環化
物（日本合成ゴム製ＣｌＲ７０１）があり、エポキシ変
性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡バイ
ロン＃　３００）等のエラストマーも下記に述べる放射
線感応変性処理を施こすことにより有効に利用できる。 オリゴマー、モノマーとして本発明で用いられる放射線
硬化性不飽和二重結合を有する化合物としては、スチレ
ン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジメタクリレート、■、６−ヘキサングリコールジアク
リレート、１．６−ヘキサンゲリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリメタクリレート、多官能オリゴエ
ステルアクリレート（アロニックスＭ　−７１００、Ｍ
−５４００，５５００，５７００等、東亜合成）、ウレ
タンエラストマーにツボラン４０４０）のアクリル変性
体、あるいはこれらのものにＣ０ＯＨ等の官能基が導入
されたもの、トリメチロールプロパンジアクリレート（
メタクリレート）、フェノールエチレンオキシド付加物
のアクリレート（メタクリレート）、下記一般式で示さ
れるペンタエリスリトール縮金環にアクリル基（メタク
リル基）またはε−カプロラクトンアクリル基のついた
化合物、 特殊ペンタエリスリトール縮合物Ａという）、ｍ＝］、
ａ＝３、ｂ＝３の化合物（以下、特殊ペンタエリスリト
ール縮合物Ｂという）。 ｍ＝１．ａ＝６、ｂ＝ｏの化合物（以下、特殊ペンタエ
リスリトール縮合物Ｃという）、ｍ＝２、ａ＝６、ｂ＝
ｏの化合物（以下、特殊ペンタエリスリトール縮合物り
という）、及び下記一般式で示される特殊アクリレート
類等が挙げられる。 （１）　（ＣＨ２＝　Ｃ）ＩＣＯＯＣＨ）　３　　ＣＣ
Ｈｚ　ＯＨ（特殊アクリレートＡ） （２）　（ＣＨ，＝　ＣＨＣＯＯＣ）Ｉ、　）　３−　
ＣＣＨ，ＣＨ３（特殊アクリレートＢ） （３）（ＣＨ２Ｃ０ＣＨ（ｏｃ、＋＋６）ｎ　　ｏｃｏ
、）３ＣＣＨｚＣＨ３（ｎ＝３）、（特殊アクリレート
ｃ） （特殊アクリレートＤ） （特殊アクリレートＥ） （特殊アクリレートＦ） （７）　　　　　　　　　　　ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝　Ｃ
Ｉ＋よ（特殊アクリレートＧ） （８）Ｃ！（２＝ＣＨＣＯＯ−（Ｃ１−１，Ｃ）１，０
）　４−ＣＯＣＨ＝ＣＨ２（特殊アクリレートＨ） ＣＨ２ＣＨ２Ｃ００ＣＨ＝　ＣＨ２ （特殊アクリレートＩ） （特殊アクリレートＪ） （１１）　　　　Ａ　　　　　Ａ Ａ−（Ｘ−ＹｊＶｒＸ−Ａ Ａニアクリル酸、Ｘ：多価アルコール Ｙ：多塩基酸　　（特殊アクリレートＫ）次に、放射線
感応性バインダー合成例を説明する。 ａ）塩化ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂のアクリル
変性体（放射線感応変性樹脂）の合成ＯＨ基を有する一
部ケン化塩ビー酢ビ共重合体（平均重合度ｎ＝＝５００
）７５０部とトルエン１２５０部、シクロへキサノン５
００部を５１の４つロフラスコに仕込み加熱溶解し、８
０℃昇温後トリレンジイソシアネートの２−ヒドロキシ
エチルメタクリレートアダクト×を６１．４部加え、更
にオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン０．０
１２部を加え８０°ＣでＮ２気流中、ＮＣ０反応率が９
０％となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチ
ルエチルケトン１２５０部を加え希釈する。

【×トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート（２ＨＥＭＡ）アダクトの製
法 ＴＤＩ３４８部をＮ２気流中１１の４つロフラスコ内で
８０°Ｃに加熱後、２−エチレンメタクリレート２６０
部、オクチル酸スズ０．０７部、ハイドロキノン０．０
５部を反応缶内の温度が８０〜８５°Ｃとなるように冷
却コントロールしな、がら滴下終了後８０℃で３時間攪
拌し反応を完結させる。反応終了後取り出して冷却後白
色ペースト状のＴＤＩの２ＨＥＭＡを得た。】 ｂ）ブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） ブチラール樹脂積木化学製ＢＭ−３１００部をトルエン
１９１．２部、シクロへキサノン７１゜４部と共に５１
の４つロフラスコに仕込み加熱溶解し８０’Ｃ昇温後Ｔ
ＤＩの２ＨＥＭＡアダクト※を７．４部加え、更にオク
チル酸スズ０．０１５部、ハイドロキノン０．０１５部
を加え、８０°ＣでＮ２気流中ＮＣ○反応率が９０％以
上となるまで反応せしめる。反応終了後冷却し、メチル
エチルケトンにて希釈する。 Ｃ）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 飽和ポリエステル樹脂（東洋紡製バイロンＲＶ−２００
）、１００部をトルエン１１６部、メチルエチルケトン
１１６部に加熱溶解し８０℃昇温後ＴＤＩの２ＨＥＭＡ
アダクト※を３．５５部加え、オクチル酸スズ０．００
７部、ハイドロキノン０．００７部を加え、８０℃、Ｎ
２気流中ＮＣ○反応率が９０％以上となるまで反応せし
める。 ｄ）◎エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応
変性樹脂） エポキシ樹脂（シェル化学製エピコート１００７）、４
００部をトルエン５０部、メチルエチルケトン５０部に
加熱溶解後、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン０．００
６部、ハイドロキノン０゜００３部を添加し８０℃とし
、アクリル酸６９部を満月し８０°Ｃで酸価５以下とな
るまで反応せしめる。 ＠フェノキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） ＯＨ基を有するフェノキシ樹脂（ＰＫＨＨ：　ＵＣＣ社
製　分子量３０，０００）６００部、メチルエチルケト
ン１８００部を３１の４ツロフラスコに仕込み、加熱溶
解し、８０°Ｃ昇温後、トリレンジイソシアネートの２
ヒドロキシエチルメタクリレートアダクトを６．０部加
え、更にオクチル酸スズ０．０１２部、ハイドロキノン
０．０１２部を加え、８０°ＣでＮ２気流中、ＮＣ０反
応率が９０％となるまで反応せしめる。このフェノキシ
変性体の分子量は３５，０００．１分子当りの二重結合
は１個である。 ｅ）ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放射
線硬化性エラストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト（ＭＤＩ）系ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニノボラン３１１９）２５０部、２ＨＥＭＡ３２．
５部、ハイドロキノン０゜０７部、オクチル酸スズ０．
００９部を反応缶に入れ、８０℃に加熱溶解後ＴＤｒ４
３．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となるように
冷却しながら滴下し、滴下終了後８０°Ｃで反応率９５
％以上となるまで反応せしめる。 ｆ）ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体（放射線硬化性エラストマー）の合成 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−５００，２
５０部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．０
０７部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、
８０℃に加熱溶解後ＴＤＩ４３．５部を反応缶内の温度
が８０〜９０°Ｃとなるように冷却しながら滴下し、滴
下終了後８０℃で反応率９５％以上となるまで反応せし
める。 ｇ）ポリブタジェンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線硬化性エラストマー） シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジェンポリＢＤリクイットレジンＲ−１５，２５０
部、２ＨＥＭＡ３２．５部、ハイドロキノン０．００７
部、オクチル酸スズ０．００９部を反応缶に入れ、８０
°Ｃに加熱溶解後ＴＤｉ４３．５部を反応缶内の温度が
８０〜９０°Ｃとなるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後８０°Ｃで反応率９５％以上となるまで反応せし
める。 高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間に架
橋を起こすものが知られている。分子間に架橋を起こす
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリド
ンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインがあ
る。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起るので、前記変性体
の他に、これらの樹脂はそのまま放射線架橋用として使
用可能である。 更にまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤型
の樹脂であっても短時間で硬化することができるので、
この様な樹脂を用いることができる。 このような放射線硬化性樹脂を用いることによって大径
のいわゆるジャンボロールで巻きしまりがなくなり、ジ
ャンボロール内外での電磁変換特性の差がなくなり特性
が向上す７！６またオンラインで行えるので生産性が良
くなる。 磁性粉／バインダーは、重量比で１／１〜９／ｌ、特に
２／１〜８／１であることが好ましい。 このような割合とするのは１７１未満では飽和磁束密度
が低くなり、９／１を超えると分散不良により表面粗度
が悪くなり、また塗膜ももろくなり好ましくなくなるか
らである。 本発明では必要に応じ、非反応性溶剤が使用される。溶
剤としては特に制限はないが、バインダーの溶解性およ
び相溶性等を考慮して適宜選択される。 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；メタノール
：エタノール、プロパツール、ブタノール等のアルコー
ル類；ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等
のエステル類；イソプロピルエーテル、エチルエーテル
、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチル
エーテル、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トル
エン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類
；テトラヒドロフラン、フルフラール等のフラン類；メ
チレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、
クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベン
ゼン等の塩素化炭化水素、その他ジメチルホルムアミド
等が単一溶剤またはこれらの混合溶剤として使用される
。 これらの溶剤はバインダーに対して１０〜１００００　
ｗ　ｔ％、特に１００〜５０００ｗｔ％の割合で用いる
。 磁性層には無機顔料が含まれていてもよい。 無機顔料としては、１）導電性のあるカーボンブラック
、グラファイト５また２）無機充填剤としてＳｉＯ２，
ＴｌＯ２、Ａｌ２Ｏ３，Ｃｒ２０ＳｉＣ，ＣａＯ、Ｃａ
ＣＯ２、酸化亜鉛、ゲーサイト、７　Ｆ　ｅ　２０３　
、タルク、カオリン、ＣａＳＯ３、窒化硼素、フン化黒
鉛、二硫化モリブデン、ＺｎＳ等がある。またこの他、
次のような微粒子顔料（エアロジルタイプ、コロイダル
タイプ）：５ｉ０２．Ａｌ２Ｏ３，ＴｉＯ２、ＺｒＯ２
，Ｃｒ２Ｏ３，Ｙ２Ｏ３、ＣｅＯ２，Ｆｅ３Ｏ４，Ｆｅ
２Ｏ３，ＺｒＳｉＯ４，５ｂ２ｏ　、ＳｎＯ等も用いら
れる。これら微粒子顔料は、例えば５ｔ０２の場合、■
無水硅酸の超微粒子コロイド溶液（スノーテックス、水
系、メタノールシリカゾル等、日産化学）、■精製四塩
化ケイ素の燃焼によって製造される超微粒子状無水シリ
カ（標準品１０ＯＡ）（アエロジル、日本アエロジル株
式会社）などが挙げられる。又、前記■の超微粒子コロ
イド溶液及び■と同様の気相法で製造される超微粒子状
の酸化アルミニウム、並びに酸化チタン及び前述の微粒
子顔料が使用され得る。この様な無機顔料の使用量は１
）に関してはバインダー１００重量部に対して１〜３０
重量部、又２）に関しては１〜３０重量部が適当であり
、これらがあまり多くなると、塗膜がもろくなり、かえ
ってドロップアウトが多くなるという欠点がある。 また、無機顔料の径については１）に関しては０．ＩＰ
ｍ以下、さらには０．０５．、−ｍ以下が好ましく、２
）に関しては０．７ｐｍ以下、さらには０．０５．−ｍ
以下が好ましい。 磁性層には分散剤が含まれていてもよい。 分散剤としては有機チタンカップリング剤、シランカッ
プリング剤や界面活性剤が、帯電防止剤としてサポニン
などの天然界面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリ
セリン系、グリシドール系などのノニオン界面活性剤；
高級アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類、ピリ
ジンその他の複素環類、ホスホニウム又はスルホニウム
類などのカチオン界面活性剤；カルボン酸５スルホン酸
、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基等の酸性基を
含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノスルホン
酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類等
の両性活性剤などが使用される。 磁性層には潤滑剤が含まれていてもよい。 潤滑剤としては従来この種の磁気記録媒体に用いられる
潤滑剤としてシリコンオイル、弗素オイル、脂肪酸、脂
肪酸エステル、パラフィン、流動パラフィン、界面活性
剤等を用いることができるが、脂肪酸および／又は脂肪
酸エステルを用いるのが好ましい。 脂肪酸としてはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、
ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リルン酸、
ステアロール酸等の炭素数１２以上の脂肪酸（ＲＣＯＯ
Ｈ，Ｒは炭素数１１以上のアルキル基）であり、脂肪酸
エステルとしては、炭素数１２〜１６個の一塩基性脂肪
酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールからなる脂肪
酸エステル類、炭素数１７個以上の一塩基性脂肪酸と該
脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が２１〜２３個より成
る一価のアルコールとから成る脂肪酸エステル等が使用
され、又前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金
属からなる金属石鹸、レシチン等が使用される。 シリコーンとしては脂肪酸変性よりなるもの、一部フッ
素変性されているものが使用される。アルコールとして
は高級アルコールよりなるもの、フッ素としては電解置
換、テロメリゼーション、オリゴメリゼーション等によ
って得られるものが使用される。 潤滑剤の中では放射線硬化型のものも使用して好都合で
ある。 放射線硬化型潤滑剤としては、滑性を示す分子鎖とアク
リル系二重結合とを分子中に有する化合物、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル酢酸エ
ステル、アクリル酸アミド系化合物、ビニルアルコール
エステル、メチルビニルアルコールエステル、アリルア
ルコールエステル、グリセライド等があり、これらの潤
滑剤を構造式で表すと、 ＣＨ３ ＣＨ２＝ＣＨＣ○○Ｒ，ＣＨ２＝Ｃ−Ｃ００Ｒ１ＣＨ２
＝ＣＨ−ＣＨ２ＣＯＯＲ１ ＣＨ２＝ＣＨＣ０ＮＨＣＨ２０ＣＯＲ１ＣＨ２０ＣＯＣ
Ｈ＝ＣＨ２ＲＣＯＯＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨＯＣＯＲＣＨ３ ＣＨ２０ＣＯＲＲＣＯＯＣ，＝ＣＨ２、ＲＣＯＯＣＨ２
−ＣＨ＝ＣＨ２等で、ここでＲは直鎖又は分枝状の飽和
もしくは不飽和炭化水素基で、炭素数は７以上、好まし
くは１２以上２３以下であり、これらは弗素置換体とす
ることもできる。弗素置換体としては ＣｎＦ２ｎ＋１−１Ｃｎ　Ｆ２ｎ＋１（ＣＨ２）ｍ　−
（但し、ｍ＝１〜５）、　　　Ｒ ＣｎＦ２ｎ＋ｌＳＯ２ＮＣ８２ＣＨ２−１等がある。 これら放射線硬化型潤滑剤の好ましい具体例としては、
ステアリン酸メタクリレート（アクリレート）、ステア
リルアルコールのメタクリレート（アクリレート）、グ
リセリンのメタクリレート（アクリレート）、グリコー
ルのメタクリレート（アクリレート）、シリコーンのメ
タクリレート（アクリレート）等が挙げられる。 潤滑剤の入っていない磁気記録層は摩擦係数が高いため
画像のゆらぎが生じ、ジッターが発生し易いと共に、特
に高温走行下で摩擦係数が高いため磁気記録層の削れが
発生し易く、巻きみだれを生じ易いものである。又、デ
ィスク媒体では耐久走行性が劣ったり、塗膜ケズレが発
生したりする。 分散剤および潤滑剤はバインダーに対して０゜１〜２０
重量％含ませるのがよい。 バインダー量が多すぎるとブロッキングが出、バインダ
ーが少なすぎるとカレンダ一工程での付着が発生して好
ましくない。 なお本発明の磁気記録層の塗布乾燥後の厚みは０．１〜
１０）−ｍの範囲が一般的である。 磁性層の潤滑剤、有機バインダーが放射線硬化型の場合
、その架橋に使用する活性エネルギー線としては、放射
線加速器を線源とした電子線、Ｃｏ６０を線源としたで
一線、５ｒ９０を線源としたβ−線、Ｘ線発生器を線源
とＣたＸ線あるいは紫外線等が使用される。 特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加熱器
により放射線を使用する方法が有利である。 本発明に使用される非磁性基材としては、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン等
のポリオレフィン類、セルローストリアセテート等のセ
ルロース誘導体、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリ
サルホン、ポリエチレンナフタレート、芳香族アラミド
、芳香族ポリエステル、アルミニウム等の金属板、ガラ
ス板等が使用されるが、これらに限定されるものではな
い。これらの中では、特にポリエステル、ポリアミド、
ポリイミド等を用いることが好ましい。 本発明の磁気記録媒体では支持体の面画に磁性層を設け
てもよい、特にフロッピーディスクの場合は周面に磁性
層を設けているものが好ましい。 また本発明の磁気記録媒体は必要に応じてバックコート
およびトップコートを設けてもよい。 これらのうちバックコートは、バインダー、顔料および
潤滑剤からなる組成とするのがよい。 バインダーとしては、前述の磁性層に用いた放射線硬化
性樹脂を使用することができるが、例えば（Ａ）放射線
により硬化性をもつ不飽和二重結合を２個以上有する、
分子量５，０００〜１００゜０００のプラスチック状化
合物、（Ｂ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合
を１個以上有するか、または放射線硬化性を有しない、
分子量３゜０００〜１００，０００のゴム状化合物、お
よび（Ｃ）放射線により硬化性をもつ不飽和二重結合を
１個以上有する、分子量２００〜３，０００の化合物を
、（Ａ）２０〜７０重量％、（Ｂ）２０〜８０重量％、
（ｃ）ｉｏ〜４０重量％の割合で用いた組合せが好まし
い。 また熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂も用いることがで
き、これらは平均分子量２００，０００以下のものが好
ましい。 特に好ましいものは、繊維素樹脂（硝化綿等）、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、ウレタ
ンの組合せからなる熱硬化性樹脂（硬化剤使用）である
。 顔料としては、前述の磁性層に用いた無機顔料を使用す
ることができる。そのなかの１）に関してバインダー１
００重量部に対して２０〜３００重量部、２）に関して
は１０〜３００重量部含ませることが好ましい。 潤滑剤としては前述の磁性層に用いたものが使用できる
。なかでも脂肪酸および／または脂肪酸エステルを用い
るのが好ましい。 本発明の磁気記録媒体を製造するには常法に従って行え
ばよく、磁性粉をバインダー、有機溶剤等とともに混合
分散して磁性塗料を調製し、この磁性塗料をポリエステ
ルフィルムなどの基体上にグラビアコート、リバースロ
ールコート、エアーナイフコート、エアードクターコー
ト、ブレードコート、キスコート、スプレィコートなど
の手法を用いて塗布し、磁性粉の磁化容易方向が磁性層
に対して垂直方向となるように配向処理を行って乾燥し
、好ましくは常法に従い放射線硬化すればよい。 そして必要に応じてバックコートおよびトップコートを
設ければよい。 配向処理は、常法に従う。 配向方法としては永久磁石、直流磁石、交流磁場が代表
的なものとして用いられ、それらのものの各種組合せ、
例えば垂直と水平の組合せ、永久磁石または直流磁場と
交流磁場の組合せ、機械的配向や機械的配向と上記の組
合せ等、種々のものが用いられる。 そして磁場外で磁性粒子が反磁場のために配向したもの
が乱れ、配向性の低下を生じないよう磁場内で乾燥させ
、反磁場が働いてもそれらの影響が出ないよう、磁場内
である程度乾燥させ、磁性粉が動かないようにする必要
がある。 磁場強度としては１０００〜６０００Ｇが好ましい。こ
の場合１本発明では、板状比が６以上と配向しやすいた
め、１０００〜４０００Ｇ程度でも十分目的にかなうも
のとなる。 本発明の記録媒体において、さらに支持体と磁性層との
間にパーマロイ等の高透磁率金属薄膜や下記に示すよう
な塗膜のアンダーコート層を設けることもできる。これ
らは併用してもよい。 塗膜のアンダーコート層には、前述したような放射線硬
化型化合物とカーボンブラックおよび／または界面活性
剤を含有させることが好ましい。 用いるカーボンブラックは？アーネス、チャンネル、ア
セチレン、サーマル、ランプ等、いずれの方法で製造さ
れたものでもよいが、アセチレンブラック、ファーネス
ブラック、チャンネルブラック、ローラーおよびディス
クブラック及びドイツナフタリンブラックが好ましい。 カーボンブラックの粒子径はどのようなものでもよいが
、好ましいのは、電子顕微鏡撮影法により測定して１０
〜１００ｍ、ｍｍ、特に好ましくはｌＯ〜８０＋ｎＰｍ
である。更に粒子径について言えば、粒子径Ｌｏｏｍ、
ｍｍを超えるとアンダーコート層面の表面粗度が悪くな
り、磁性層塗布後の型持低下の原因となる。また１０ｍ
ｐｍ未満では分散がうまくいかず、やはりアンダーコー
トの表面粗度が悪くなる。 カーボンブラックには特殊なものとしてグラファイト化
カーボンブラックがあり、本発明ではグラファイト化カ
ーボンブラックも用いることができる。 このようなアンダーコート層を設けることによって、媒
体のヘッドへのはりつき、また、塗布工程等の製造工程
中にガイドローラ、カレンダローラ等のはりつき、放電
ノイズ等の発生を防止することができる。 アンダーコート層の厚さはＩＯＡ〜２　）−ｍ程度とす
ることが好ましい。 失血■ 実施例にて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は
これらに限定されるものでないことは言うまでもない。 特性は以下のようにして評価した。 （１）板状比 電子顕微鏡写真［走査形顕微鏡（Ｓ　Ｅ　Ｍ）および透
過形顕微鏡（ＴＥＭ）］によって六方晶系のバリウムフ
ェライト粒子５０個について断面を観察し、六角形の粒
径についての測定値を平均して求めた平均粒径と厚さに
ついての測定値を平均して求めた平均厚みとから平均粒
径／平均厚みを算出し、板状比とした。 あるいはＸ線回折による２θの半値巾によってこれらの
値を測定することも出来る。 （２）表面粗度　Ｒ２゜ ＪＩＳＢＯ６０１に規定しである１０点平均粗さの求め
方に準じて行った６なおＪＩＳでは１゜点平均法を規定
しているが、本発明の評価方法として、さらに厳密にす
るため２０点平均とした。 カットオフ値は、触針スピード３０ｐｍ／ｓａＣで０．
１８〜９Ｈｚ程度、または針圧は２　ｍ　ｇとした。 使用した触針式表面粗さ測定器はタリステップ＝１、Ｔ
ＡＹＬＯＲＨＯＢＳＯＮ社製である。 （３）垂直配向度 磁気テープの垂直方向の角形比Ｂ　ｒ　／　Ｂ　ｍを測
定し、反磁場補正を行った。 （４）線記録密度り、５−０（ＫＦＲＰＩ）回転数３０
０ｒ、ｐ、ｍ、、ヘッド；フェライトヘッド、ギャップ
０．３□ｍにて低記録密度領域での出力（Ｅ）が高記録
密度領域でＥ／２となる線記録密度り夕、（ＫＦＲＰＩ
）を測定した。 （５）分解能 上記線記録密度ＤＳＯの測定において、４８ＫＦＲＰＩ
／１２ＫＦＲＰＩの分解能を算出した。 表１に示されるサンプルＮｏ、１を基準とし、この値を
１００％として他のものを％単位に換算した。 （６）タップ密度 バリウムフェライト磁性粉Ｍｇを内径３〆（Ｃｍ）のサ
ンプル管に入れ、５分間タップ密度試験機で振動させ、
振動後のサンプル管の磁性粉の高さＸ　（ｃｍ）を測定
する。 Ｍｇ　　　　＝　　’７　　ｇ／ｃｃ ７．５　Ｘ　Ｘ　（Ｃｍ） 実施例１ 厚さ７５．−ｍのポリエステル（ＰＥＴ）フィルムの表
面と裏面の両面上に下記に示すようなアンダーコート層
を設層した。 Ｚ３乙グユ、ユニ、Ｅ贋−重量部 カーボンブラック　２０　ｍ　）−ｍ　　　　　　５０
（Ａ）アクリル変性塩ビー酢ビービニルアルコール共重
合体　分子量４５．０００　　　　　４０（Ｂ）アクリ
ル変性ポリウレタンエラストマー分子量２０．０００　
　　　　　　　　４０（Ｃ）多官能アクリレート　分子
量１．０００ステアリン酸　　　　　　　　　　　　　
　２ステアリン酸ブチル　　　　　　　　　　　２混合
ｍｊｌＪ（ＭＩＢＫ／ト＃エン＝１／１）　　３００上
記組成物をボールミル中５時間分散させ、上記のポリエ
ステル（ＰＥＴ）フィルム上に乾燥厚０．７）−ｍにな
るように塗布し、表面平滑化処理を行い、エレクトロカ
ーテンタイプ電子線加速装置を用いて加速電圧１５０Ｋ
ｅＶ、電極電流１０ｍＡ、吸収線量５Ｍｒａｄ、Ｎ２ガ
ス中で電子線をアンダーコート層に照射した。 このようなアンダーコート層の両面上に、さらに下記に
示されるような磁性塗料からなる磁性層を形成し１種々
のサンプルを作製した。 すなわち、まず最初に、第１表に示すタップ密度の六方
晶系バリウムフェライトＡ（ＢａＦｅ１ｚ○ｆ８のＢａ
、Ｆｅを一部置換したものを水熱合成法で合成）を用い
て以下のようにして磁性塗料を作成した。 １並屋上（放射線硬化型磁性層〕　　　　重量部バリウ
ムフェライト　　　　　　　　　　１２０（径０．１．
−１Ｈｃ８０００ｅ） カーボンブラック　３０ｍ、Ｌ４　　　　　１０ベーＡ
ｌ２Ｏ３粉末（ｏ、５Ｐ粉状）　　　　２溶剤（ＭＥＫ
／トルエン５０１５０）　　　　　１００上記組成物を
ボールミル中にて３時間混合し、六方晶系板状バリウム
フェライトを良く湿潤させる。次に 塩ビー酢ビービニルアルコール共重合体（マレイン酸含
有）分子量４０．０００　　６部（固型分換算）アクリ
ル二重結合導入塩酢ビ共重合体（マレイン酸含有）分子
量２０．０００　１２部（固型分換算）アクリル二重結
合導入ポリエーテルウレタンエラストマー　分子量４０
．０００　９部（固型分換算）ペンタエリスリトールト
リアクリレート　３部溶剤（ＭＥＫ／トルエン　５０１
５０）　　　２００部ステアリン酸　　　　　　　　　
　　　　４部ステアリン酸ブチル　　　　　　　　　　
２部のバインダーの混合物を良く混合溶解させる。 これを先の磁性粉処理を行なったボールミル中に投入し
、再び４２時間分散させる。 この様にして得られた磁性塗料を上記アンダーコート層
上に塗布し、永久磁石（３０００ガウス）上で乾燥させ
ながら垂直配向させ、その後、連続して赤外線ランプま
たは熱風により溶剤を乾燥させた（これらは同時に並用
してもよい）後、表面平滑化処理後、ＥＳＩ社製エレク
トロカーテンタイプ電子線加速装置を使用して、加速電
圧１５０ＫｅＶ、電極電流２０ｍＡ、全照射量５　Ｍ　
ｒ　ａ　ｄの条件下でＮ２雰囲気下にて電子線を照射し
、塗膜を硬化させた。硬化後の塗膜厚は磁性層１．５、
ｕ　ｍであった。なお、この膜厚の測定は電子マイクロ
メーターで行った。これらの塗膜をフィルムの両面に形
成し１両面コートとした。このようにして作成したサン
プルを前出の第１表に示した。 前述のようにタップ密度が適度のものは磁場中で動き品
いため配向しやすい。特に配向しやすいため高密度領域
ですぐれたものとなりＤＳＯが大となる。しかも比較的
Ｂｍの低下が少ないため型持上すぐれたものとなる。 また第２表に示すように粒径０．１１μｍ以下のものが
型持上野ましいが、実用に耐え得る範囲では粒径０．１
５．−ｍ迄のものが使用できる。 第　２　表（タップ密度０．７５のもの）実施例２ 六方晶系バリウムフェライト（Ｂ　ａ　Ｆ　ｅ１２０パ
のＢａ、Ｆｅを一部変換したものを水熱合成法で合成）
　平均粒径０．０８．”ｍ、タップ密度０゜５０ｇ／ｃ
ｃ、Ｈｃ＝７００　　　１２０重量部拭−ＡＩ２０３　
　（０，５，−粉末）　　２重量部グラファイト化カー
ボン３４０００Ｂ ２０　ｍ、−１２重量部 分散剤（大豆油未精製レシチン）　　３重量部および 溶剤（ＭＥＫ／シクロヘキサノン　７０／３ｏ）１００
重量部 を用いて実施例１と同様にして磁性粉混合物を作った。 次に、バインダーとして 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体（
マレイン酸含有）分子量２０．０００６重量部（固型分
換算） アクリル変性フェノキシ樹脂分子量３５．０００　　　
　　　　　　　６重量部（固型分換算）アクリル変性ポ
リエーテルウレタンエラストマー分子量２０．０００　
　１８重量部（固型分換算）溶剤（ＭＥＫ／シクロへキ
サノン７０／３０）２００重量部 高級脂肪酸変性シリコーンオイル　　３重量部および ミリスチン酸ブチル　　　　　　　　３重量部混合溶解
させた。 その後、実施例１と同様の操作により試料Ａを作成し、
特性を調べた。 ただし、配向処理は交流磁場（３０００Ｇ）を用いて行
った。 この試料Ａの特性を以下に示す。 Ｒ２ｏ　　　　　　　Ｏ，Ｏ５Ｐｍ 垂直配向度　　０．９４ Ｄ！−ｏ　　　　　　７５ＫＦＲＰＩ 試料Ａにおいて放射線硬化型のバインダーを熱硬化型に
かえて同様に処理した。 すなわち塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共
重合体（マレイン酸含有）アクリル変性フェノキシ樹脂
、アクリル変性ポリエーテルウレタンエラストマー　計
３０重量部を、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体（ユニオンカーバイド社製ＶＡＧＨ）１５
重量部およびウレタン（日本ポリウレタン社ニッポラン
３０２）１５重量部に代える以外は、試料Ａと同様に試
料Ｂを作製した。ただし、この場合、分散径磁性塗料中
にイソシアネート化合物（日本ポリウレタン社製コロネ
ートＬ）を５重量部（固型分換算）加えた。また表面平
滑後、８０℃で４８時間熱硬化を行った。 試料Ａおよび已について８インチ径の巻きとりロールに
５０００ｍ巻きとったときのジャンボロールの外側と内
側での分解能（％）の値を求めた。 この結果を以下に示す。 この結果より試料Ｂではジャンボロールでの巻きしまり
があり、内側での分解能の低下が著しいことがわかる。 実施例３ 実施例１のサンプルＮｏ、６　（第１表）と同一の平均
粒径を有する板状磁性粉ならびにバインダーを用いて、
第３表に示されるような磁性層の厚さを種々変えたサン
プルを作製した。 なお、製造方法は実施例１の場合と同様に行い、アンダ
ーコート層も同様に設けた。 特性は、前記のＲ２０，垂直配向度、Ｄ５ｏを測定した
。結果を第３表に示した。 第　　３　　表 実施例１の下記のものを３３Ｐポリエステルベース上に
塗布し、ビデオフロッピーでアナログでの評価を行った
。 ビデオフロッピーでの測定条件は、中心周波数７ＭＨｚ
、ＲＦ信号で記録、再生した場合のＣ−８／Ｎ比（相対
値）を示す。回転数３６００ｒｐｍ、相対速度０．６ｍ
／ｓｅｅとした。 Ｎｏ、　　　タップ密度　　　Ｃ／Ｎ １　　　　１、　Ｏ＋０．０ ２　　　　０．８　　　　＋０．４ ３　　　　０．７５　　　＋１．０ ６　　　　０．５０　　　＋２．０ ８　　　　０．３５　　　＋１．０ ９　　　　０．３０　　−０．５ 上記のとおり、適度のタップ密度のものは配向性が高い
ため、Ｃ／Ｎでの特性も良い事がわかる。 見匪勿羞来 タップ密度が０．７５ｇ／ｃｃ以下のものは塗膜中で動
きやすいために磁場中で配向しやすい。 ０．７５ｇ／ｃｃを超えるものは塗膜中でつまりやすい
ために磁場中で動きにくく配向しにくい。 ０．３５ｇ／ｃｃ以下のものはタップ密度が低すぎるた
め塗料化工程で分散しにくい。そのため分散不良となり
、磁場配向しにくく、表面粗度が悪くなる。０８７５〜
０．３５ｇ／ｃｃの範囲のものはＢｍの低下も比較的少
ないため、デジタルでは線記録密度（Ｄｙｏ）、分解能
がすぐれたものとなる。アナログではＣ／Ｎがすぐれた
ものとなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第１表の試料のタップ密度と垂直角型比および
線記録密度との関係を示すグラフであり、第２図は第３
表の磁性層厚さと垂直配向度および線記録密度どの関係
を示すグラフである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基材上に塗布型磁気記録層を設けた磁気記
   録媒体において、磁気記録層がタップ密度０．７５ｇ／
   ｃｃ以下であるバリウムフェライトを用いたことを特徴
   とする磁気記録媒体。
2. （２）バリウムフェライトが粒径０．１５μｍ以下であ
   る特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。