JPS6220199B2 - - Google Patents

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JPS6220199B2
JPS6220199B2 JP53039315A JP3931578A JPS6220199B2 JP S6220199 B2 JPS6220199 B2 JP S6220199B2 JP 53039315 A JP53039315 A JP 53039315A JP 3931578 A JP3931578 A JP 3931578A JP S6220199 B2 JPS6220199 B2 JP S6220199B2
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JP
Japan
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acid
diene
dione
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JP53039315A
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English (en)
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JPS53127455A (en
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Muudei Biiton Jon
Edowaado Hyuubaa Joeru
Gureigu Padeira Amufuretsuto
Eperetsuto Buruyueru Matsukusu
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Pharmacia and Upjohn Co
Original Assignee
Upjohn Co
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Publication date
Application filed by Upjohn Co filed Critical Upjohn Co
Publication of JPS53127455A publication Critical patent/JPS53127455A/ja
Publication of JPS6220199B2 publication Critical patent/JPS6220199B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07JSTEROIDS
    • C07J1/00Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, not substituted in position 17 beta by a carbon atom, e.g. estrane, androstane
    • C07J1/0003Androstane derivatives
    • C07J1/0011Androstane derivatives substituted in position 17 by a keto group

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Steroid Compounds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 アンドロステンジオンは 式 のC19ステロイドである。
アンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジ
オンとは、炭素原子9と11の間に追加二重結合を
もつアンドロステンジオンのことである。アンド
ロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン型の
化合物とは式 〔式中R6、R16及び〜は上に定義されたとおり〕
の範囲内のステロイド類のことである。
アンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジ
オン型化合物()は医薬品、特定品にはテスト
ステロン誘導体類をつくるのに有用である。C3
ケトンを保護するには、エフ・ダブリユー・ハイ
ル(F.W.Heyl)及びエム・イー・ハー(M.E.
Herr)、J.Am.Chem.Soc.77巻488頁(1955年)で
明らかにされた方法により、例えばアンドロスタ
−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン()が3
−(N−ピロリジニル)アンドロスタ−3・5・
9(11)−トリエン−17−オンに転化される。この保
護されたステロイドは、メチルマグネシウムブロ
マイドとのグリニヤ反応、及びその後のアルカリ
加水分解によつて、17β−ヒドロキシ−17α−メ
チルアンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3−オン
に転化される。エム・イー・ハー等、J.Am.
Chem.Soc.78巻500頁(1956年)を参照。次にこ
のメチルテストステロン誘導体は、合衆国特許第
3118880号の実施例2の方法によつて、市販ステ
ロイドである9α−フルオロ−11β・17β−ヒド
ロキシ−17−メチルアンドロスト−4−エン−3
−オン(フルオキシメステロン、ハロテステイン
)へ転化される△9(11)−ステロイド類は、11
β−ヒドロキシステロイド類及び9α−ヒドロキ
システロイド類の両方からつくられた。ジヨー
ジ・ジー・ヘイゼン(George G.Hazen)及びデ
イー・ダブリユー・ローゼンバーク(D.W.
Rosenburg)、J.Org.Chem.29巻1930頁(1964
年)と合衆国特許第3094543号;デイー・タウブ
(D.Taub)等、J.Am.Chem.Soc.82巻4102頁
(1970年);イー・エム・チエンバレン(E.M.
Chamberlain)J.Org.Chem.25巻295頁(1960
年);テイー・ライヒスタイン(T.
Reichstein)、合衆国特許第2409798号;ドレーク
(Drake)、合衆国特許第3005834号、及び英国特
許第1198749号はすべて11β−ヒドロキシステロ
イドからの△9(11)−ステロイドの合成を明らか
にしている。ヘイゼン、タウブ、及びチエンバレ
ンの論文及び特許は、すべて11β−ヒドロキシコ
ルチコイド類を使用しての対応△9(11)−コルチ
コイド類の製造を明らかにしている。合衆国特許
第2409798号(実施例3)、合衆国特許第3005834
号(実施例35)及び英国特許第1198749号(実施
例1)は、11β−ヒドロキシアンドロステン類を
使用しての△9(11)−アンドロステン類の製造を
明らかにしている。
9(11)−ステロイド類は、対応する9α−ヒ
ドロキシステロイド類からもつくられた。
東ドイツ特許第20528号は、プレグナン系の9
α−ヒドロキシステロイド類を脱水して対応する
9(11)−プレグナン類にするのに乾燥ベンゼン
中のp−TSAの使用を明らかにしている。シ
ー・ジー・バーグストローム(C.G.Bergstrom)
及びアール・ビー・ドウドソン(R.B.Dodson)、
Chem.and Ind.(London)、1530(1961年)は、
9α−ヒドロキシアンドロステンジオンをベンゼ
ン中でp−TSAで処理した。仕上げると、9・
10−セコアンドロスト−4−エン−3・9・17−
トリオン及び9α−ヒドロキシ−4−メチルエス
テル−4−エン−1・17−ジオンが同定された。
アンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジア
ン()はなかつた。
シー・ジー・バーグストローム等はJ.Org.
Chem.28巻2633頁(1963年)の2638頁で、9α−
ヒドロキシアンドロステンジオン2gと弗化水素
ピリジン試薬との反応による9α−フルオロアン
ドロステンジオン並びにアンドロスタ−4・9(11)
−ジエン−3・17−ジオンの製造を記載してい
る。
本発明は1.0未満又は1.0に等しいpKaをもつ非
芳香族の酸素化酸を必要とする。弗化水素ピリジ
ン試薬は酸素化酸ではなく、又1.0より大きい
pKaを持つている。
酸によるアルコールの脱水は当業者によく知ら
れている。第三級アルコールの酸脱水はよく知ら
れているので、その機作は解明された。酸がヒド
ロキシル基をプロトン化する。プロトン化された
ヒドロキシル基を水として離脱させた後、反応体
はカルボニウムイオンとして残される。カルボニ
ウムイオンからプロトン損失が起り、熱力学的に
最も安定なオレフインを生ずるようになる。第三
級アルコールのこの酸脱水は通常E1型反応とし
て知られるもつと置換されたアルケンまで導かれ
る。ジエイ・デイー・ロバーツ(J.D.Roberts)
及びエム・シー・カセリオ(M.C.Caserio)、
Basic Principles of Organic Chemistry、W.A.
ベンジヤミン社、ニユーヨーク、1964年、313及
び396頁;及びイー・エス・グールド(E.S.
Gould)、Mechanism and Structure in Organic
Chemistry、ホールド・レインハート・アンド・
ウインストン社、ニユーヨーク、1964年、475及
び480頁を参照のこと。二つの異なるオレフイン
がE1除去反応によつて第三級アルコールから生
ずるとき、複雑な影響なく多数のアルキル置換基
をもつオレフインが主成分であろうことが今や明
らかである。この有機化学規則は周知であり、セ
イチエフ則と呼ばれる。前掲グールド、481頁の
参照のこと。
セイチエフ則に従つて、9α−ヒドロキシステ
ロイド類の酸脱水は主として△−ステロイドを
生ずるべきであり、対応する△9(11)−ステロイ
ドではない。更に詳しくは、9α−ヒドロキシア
ンドロステンジオン()の酸脱水は主としてア
ンドロスタ−4・8−ジエン−3・17−ジオンを
生ずるべきで、アンドロスター4・9(11)−ジエン
−3・17−ジオン()ではない。
本発明方法は、9α−ヒドロキシアンドロステ
ンジオン型化合物()をアンドロスタ−4・9
(11)−ジエン−3・17−ジオン()のアンドロス
タ−4・8−ジエン−3・17−ジオンの98対2よ
り大きい比で以て対応するアンドロスタ−4・9
(11)−ジエン−3・17−ジオン型化合物()へ非
常な高収量で脱水する。この高収量と非常に高い
比率は、第三級アルコールの酸脱水法の先行技術
方法及び文献記載から考えて驚異的かつ予想外の
ことであり、商業的観点から非常に有利である。
ここで明らかにされているのは、 式 のステロイドの製法であつて、 式 〔式中R6、R16及び〜は下に定義されている〕の
9α−ヒドロキシステロイドを、1.0未満又は1.0
に等しいpKaをもつ非芳香族の酸素化酸と反応さ
せることからなる。
下の定義と説明は、明細書及び特許請求の範囲
の両方を含む特許出願書全体に使用されている用
語に対するものである。
R6は水素又は弗素原子又はメチル基である。
R16は水素原子又はメチル基である。
〜は、R6基とR16基がα又はβ立体配置にある
ことを示す。
9(11)とは、ステロイド中の炭素原子9と11
との間の二重結合のことである。
また明らかにされているのは、アンドロスタ−
4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン型化合物類
()の製法であつて、9α−ヒドロキシステロ
イド()をクロロスルホン酸と反応させること
からなる。
また明らかにされているのは、アンドロスタ−
4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン型化合物
()の製法であつて、9α−ヒドロキシステロ
イド()を硫酸と反応させることからなる。
また明らかにされているのは、アンドロスタ−
4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン型化合物類
()の製法であつて、9α−ヒドロキシステロ
イド()を燐酸と反応させることからなる。
更に明らかにされているのは、アンドロスタ−
4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン型化合物
()の製法であつて、9α−ヒドロキシステロ
イド()メタンスルホン酸と反応させることか
らなる。
本発明のアンドロスタ−4・9(11)−ジエン−
3・17−ジオン型化合物()の製法は、1.0未
満又は1.0に等しいpKaをもつ非芳香族の酸素化
酸による9α−ヒドロキシステロイド()の脱
水からなる。
本発明方法の反応体は式の9α−ヒドロキシ
ステロイドである。
式中R6は水素又は弗素原子又はメチル基であ
る。R16は水素原子又はメチル基である。〜は、
R6基とR16基の結合がα又はβ立体配置にあるこ
とを示す。
式の範囲内の9α−ヒドロキシアンドロステ
ンジオン類は当業者に知られているか、又は容易
に入手できる既知化合物から当業者に周知の方法
により容易につくることができる。
本発明の酸類は非芳香族である。従つて、安息
香酸、ピクリン酸、2・4−ジニトロ安息香酸、
p−TSA、1−及び2−ナフトエ酸、及びナフ
タリンスルホン酸のような酸類は本発明の範囲内
に入らない。
本発明の酸類は酸素化されている、すなわち元
素の酸素を含んでいる。従つて、塩酸、臭化水素
酸、弗化水素酸及びシアン化水素酸のような酸類
は本発明の範囲内でない。
本発明の酸類は1.0未満又は1.0に等しいpKaを
もつている。酸のpKaは、酸HAの解離に対する
解離常数Kaの負の対数(基数10)として定義さ
れる。
HA=H++A- Ka=〔H〕〔A〕/〔HA〕 pKa=−log Ka The Condensed Chemical Dictionary第8
版、ジー・ジー・ホーリー(G.G.Hawley)、バ
ン・ノストランド・レインホールド社、1972年、
698頁、及びPhysical Chemistry第2版;エフ・
ダニエルス(F.Daniels)及びアール・エイ・ア
ルバーテイ(R.A.Alberty)、ジヨン・ウイリ
ー・アンド・サンズ社、1961年、428〜9頁を参
照のこと。
熱力学解離定数Kaは温度と溶媒に左右され
る。前掲ダニエルス及びアルバーテイの429頁を
参照。従つて本発明においては、1.0未満又は1.0
に等しいpKaとは、蒸留水中における25℃での
pKaのことである。
本発明の酸類は、クロロスルホン酸、硫酸、燐
酸、メタンスルホン酸、過塩素酸及びトリフルオ
ロ酢酸からなる群から選ばれるのが好ましい。酸
がクロロスルホン酸、硫酸、燐酸及びメタンスル
ホン酸からなる群から選ばれるのがもつと好まし
い。
クロロスルホン酸は非水性の有機希釈剤中で使
用しなければならない。適当な有機希釈剤は塩化
メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、SSB、ヘ
キサン、酢酸エチル、ジクロロエタン又はそれら
の混合物である。有機希釈剤が有利なのは、結晶
化させるとほとんどの不純物が有機希釈剤によつ
て保持され、非常に純粋な形で望んでいるアンド
ロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオンを提
供するためである。クロロスルホン酸が0.8〜5
当量の量で存在するのが好ましい。それが2〜3
当量で存在するのはもつと好ましい。
クロロスルホン酸は水と瞬間的に反応する。従
つて、存在するクロロスルホン酸の幾分は、有機
希釈剤の脱水に利用されるだろう。脱水反応中に
9α−ヒドロキシ基とC11からの水素原子は離脱
する。従つて脱水反応で生成する水と反応させ、
脱水反応を接触するためには、有機希釈剤を脱水
するのに十分なクロロスルホン酸が利用されねば
ならない。
反応は、0.8当量ほどのわずかなクロロスルホ
ン酸で進行するだろう。すでに述べたように、2
〜3当量のクロロスルホン酸がより好ましい。5
当量のクロロスルホン酸を使用するときでも反応
は妥当に進む。当業者によく知られているよう
に、より少量の酸(0.8〜2当量)を使用する時
には、温度を高めること、及び/又は反応をより
長期間行なわせることが必須である。より多量
(3〜5当量)の酸を使う時には、9α−ヒドロ
キシアンドロステンジオン()及び/又はアン
ドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン
()の破壊を避けるため、温度を下げてもよい
(−50゜ないし0゜)。3〜5当量のクロロスルホ
ン酸の場合に反応時間は10分又はそれ以下のオー
ダーの極めて短いものであろう。
本発明を有機希釈剤中で実施するときは、9α
−ヒドロキシステロイド()を有機希釈剤と混
合する。次にかきまぜ、混合又は動揺を続けなが
ら、純粋な形又は有機希釈剤中に溶解したクロロ
スルホン酸をステロイド混合物に加える。温度は
−50゜ないし20゜、好ましくは約−20゜ないし0
゜に保持される。反応完了までの時間は非常に短
く、数分から約1時間までの間であり、下記のよ
うにTLCで監視される。反応は普通5〜10分で
完了する。TLCで監視されるとおりに反応が完
了すると、冷却しながら水を徐々に加える。二相
の系を当業者に周知の方法で仕上げる。水溶液の
10%重炭酸ナトリウム、20%炭酸カリウム又は2
%水酸化ナトリウム又はカリウムのような希塩基
で、次に水で有機相を洗う。洗浄水を有機希釈剤
で逆抽出し、次にこれを有機相に加える。有機相
を乾燥し、真空下に濃縮する。酢酸エチル、メタ
ノール、ヘプタン、ヘキサン又はシクロヘキサン
のような有機希釈剤を加え、混合物を冷却する。
生ずる結晶をろ過し、有機希釈剤で洗い乾燥す
る。
上記の反応はTLCで監視される。反応が完了
に向かうにつれて、極性のより大きい9α−ヒド
ロキシステロイド()が消え、△9(11)−ステ
ロイド()に対応する極性のより小さい斑点
(TLC)を生ずる。9α−ヒドロキシステロイド
()の脱水により、△と△9(11)ステロイドが
両方とも生ずべき生成物であり、単独で又は混合
物として生ずる。△及び△9(11)両ステロイド
はほとんどの溶媒系で非常によく似た又は同一の
Rf値をもつ。従つて、生ずる極性のより小さい
生成物がアンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・
17−ジオン、アンドロスタ−4・8−ジエン−
3・17−ジオン、又はこれらの化合物の混合物で
あるかを決定するため、反応混合の試料はガスク
ロマトグラフイ(GC)によつて分析されるべき
である。△9(11)及び△異性体ステロイドがGC
により容易に分離され、△9(11)異性体量が容易
に決定できることがわかつた。
GC検定は180cm×3mmの3%OV−17カラムを
使う。カラム温度は250゜である。これらの条件
下にアンドロスタ−4・8−ジエン−3・17−ジ
オンとアンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17
−ジオンは容易に分離でき、アンドロスタ−4・
8−ジエン−3・17−ジオンの滞留時間はアンド
ロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオンより
短かい。この検定手順は、どちらの異性体オレフ
インステロイドがあるかという定性的検定と、両
方がある時には各々の異性体の相対量の定量的検
定とを提供している。
1.0未満又は1.0に等しいpKaをもつその他の非
芳香族の酸素化酸類も、非常な高収率で9α−ヒ
ドロキシアンドロステンジオン()のアンドロ
スタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン()
への脱水を容易に行ない、アンドロスタ−4・9
(11)−ジエン−3・17−ジオン/アンドロスタ−
4・8−ジエン−3・17−ジオンの比が98:2よ
り大きい。これらの酸は普通には少量(1〜30
%)の水と一緒に使用される。しかし、硫酸、燐
酸、メタンスルホン酸、及びトリフルオロ酢酸の
ような酸は水なしに(酸100%)使用してよい。
本発明の好ましい酸類の好ましい濃度は、硫酸
60〜100%、燐酸70〜100%、メタンスルホン酸70
〜100%、過塩素酸5〜70%、及びトリフルオロ
酢酸70〜100%である。これらの酸のもつと好ま
しい範囲は硫酸70〜96%、燐酸80〜90%、メタン
スルホン酸80〜90%、過塩素酸20〜40%及びトリ
フルオロ酢酸75〜95%である。
酸類の上の濃度は、使用の酸重量と存在する水
の量との和に対する使用の酸重量(w/w)によ
つて決定されるパーセント(%)で特定されてい
る。
本発明の酸類の種々の組合せを使用してよい。
例えば硫酸50gと燐酸50gの混合物は各酸につい
ては50%のみの酸であるが、当業者に容易に認め
られるように、この混合物の実際の酸強度は酸
100%水分0%であつて、個々の酸のいずれか一
方の100%に等しい。
水以外の希釈剤を使用してよい。例えば、蟻酸
又は酢酸を本発明の酸の希釈剤として使用してよ
い。
その代わりに、クロロスルホン酸を例外とする
が、本発明方法を水溶液−有機の二相系で実施し
てよい。有機希釈剤はクロロスルホン酸に対して
すでに述べたものと同じである。二相系の酸−水
相は二相系の10〜99%からなるものでよい。
酸水溶液濃度が好ましい範囲より小さい時は、
それでも高収量が得られる。更に重要なのは、収
量が幾分低下する場合でも、アンドロスタ−4・
8−ジエン−3・17−ジオンに対するアンドロス
タ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオンの比が
98:2より大きいままでいることで、このことは
商業的に大きな重要性をもち、かつ最も予想外の
ことである。酸水溶液濃度が好ましい範囲より低
い場合には、当業者に周知のように反応温度と時
間が増大される。酸水溶液が好ましい濃度範囲に
あれば、より低い濃度範囲(−50゜ないし50゜、
好ましくは0〜25゜)及びより短い反応時間、普
通には1〜10時間が使用できるので好ましい。反
応は上記記のとおりTLCで監視される。
実施例12〜15はメタンスルホン酸の使用を明ら
かにしている。実施例12と13は好ましい範囲のメ
タンスルホン酸の使用を明らかにしており、それ
ぞれ94.2%と95.6%の収率を得ている。実施例14
と15は好ましい範囲より低い濃度でのメタンスル
ホン酸の使用を明らかにしている。より低い温度
とより長い反応時間は収率を高めるものである。
収率がそれぞれ55.7%と75.9%に低下した場合で
も、アンドロスタ−4・8−ジエン−3・17−ジ
オンに対するアンドロスタ−4・9(11)−ジエン−
3・17−ジオンの比が99:1より大きいのは驚異
的かつ予想外である。
本発明の脱水過程でつくられる水は酸濃度を希
釈する。このことが、好ましい酸濃度を使うのが
好ましいもうひとつの理由である。
TLCで測定されるとおりに反応が完了する
と、反応混合物を水で停止させ、当業者によく知
られているとおりに仕上げる。
本発明は以下の実施例から更に完全に理解され
よう。これらの実施例は本発明の方法と化合物類
を例示するものであるが、限定的に考えられては
ならない。
実施例 1 クロロスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式及び:R6とR16は水素) 9α−ヒドロキシアンドロステンジオン(合衆
国特許第3065146号、実施例6)5.00gを塩化メ
チレン50mlに溶解し、0〜5℃に冷却する。塩化
メチレン10ml中のクロロスルホン酸1.3mlの溶液
をステロイド混合物に徐々に加える。混合物を0
〜5゜で1時間かきまぜる。塩化メチレン10ml中
のクロロスルホン酸1.3mlの第二溶液をステロイ
ド混合物に加える。3分間のかきまぜの後、
TLC(酢酸エチル:ベンゼン1:1)で測定さ
れるとおりに反応は終了している。
3〜18゜の温度を保持しながら、5分間に水70
mlを添加する。二相系を分離し、水相を塩化メチ
レン25mlで逆抽出し、これをステロイド混合物と
一緒にして水(50ml)で洗う。乳濁を破壊するた
めに塩化ナトリウム飽和溶液5mlを加える。有機
相を約30mlに濃縮する。ヘプタン70mlを加え、混
合物を約30mlに濃縮する。ヘプタン70mlを加え、
混合物を加熱(87゜)によつて濃縮する。固体が
沈殿し始めたら、混合物を0〜5゜に冷却する。
固体をろ過によつて集め、最少量のヘプタンで洗
い、70゜で一夜乾燥すると、材料4.00g(重量収
率80.0%、化学収率85.0%)を生ずる。これは
GC(3%OV−17、180cm×3mm、250゜)により
100%アンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17
−ジオンであることがわかる。融点194〜201゜。
〔α〕D+221゜(クロロホルム)。UV(メタノー
ル)λ最大=240nm(ε=16800)。
実施例 2 クロロスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式及び:R6とR16は水素)。
9α−ヒドロキシアンドロステンジオン10.0g
を塩化メチレン100mlに溶解し、0〜5゜に冷却
する。クロロスルホン酸5mlを滴加し、混合物を
0〜5゜で0.5時間かきまぜる。温度を23゜に高
めながら、水50mlを滴加する。混合物を5分かき
まぜ、相を分離する。有機相を重炭酸ナトリウム
水溶液(10%、25ml)と、次に塩化ナトリウム飽
和溶液10mlを含有する水50mlで洗う。洗浄水の
各々を同じ塩化メチレン25mlで逆抽出し、次にこ
れを有機相に加える。有機相を約50mlに濃縮す
る。ヘプタン100mlを加え、混合物を約50mlに濃
縮し、温度は約35゜の最大値に達する。混合物を
0〜5゜に冷却し、0.5時間かきまぜ、固体をろ
過によつて集め、最少量のヘプタンで洗い、真空
下に55゜で乾燥すると、アンドロスタ−4・9(11)
−ジエン−3・17−ジオン8.95g(重量収率89.5
%、化学収率95.0%)を生ずる。GC(実施例
1)は99%アンドロスタ−4・9(11)−ジエン−
3・17−ジオンを示す。
実施例 3 クロロスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式及び:R6とR16は水素)。
9α−ヒドロキシアンドロステンジオン5.00g
を塩化メチレン50mlに溶解し、0〜5゜に冷却す
る。塩化メチレン10ml中のクロロスルホン酸2.5
mlの溶液を4分間にわたつて徐々に加える。添加
終了時にTLCは反応完了を示す。温度を3〜15
゜に保ちながら水60mlを反応混合物に加える。混
合物を2分かきまぜ、ヘプタン135mlを加える。
有機相を分離し、水で2回(各回30ml)洗う。有
機相を加熱して約30mlまで濃縮し、溶液が冷却す
るにつれて結晶が生成する。混合物を0〜5゜に
冷却し、ろ過して、最少量のヘプタンで洗い、70
゜で乾燥すると、アンドロスタ−4・9(11)−ジエ
ン−3・17−ジオンを生ずる。4.45g(重量収率
89.0%、化学収率94.7%)。融点195.5〜202゜。
〔α〕D+220゜(クロロホルム)。UV(メタノー
ル)λ最大=240nm(ε=163000)。
実施例 4 クロロスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式及び:R6とR16は水素)。
実施例2の手順に従うが、非臨界的な変更をし
て、9α−ヒドロキシアンドロステンジオン
10.00gをクロロスルホン酸と反応させると、ア
ンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン
9.01g(重量収率90.1%、化学収率95.7%)を生
ずる。
実施例 5 クロロスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式及び:R6とR16は水素)。
9α−ヒドロキシアンドロステンジオン192.0
gを塩化メチレン1440mlに溶解し、−20゜に冷却
する。この時点でステロイドはもはや溶液中には
ない。クロロスルホン酸115.6mlを1時間にわた
つて加える。
混合物を−15ないし−20℃で1.5時間かきまぜ
る。温度を−15゜から27゜へ上昇させながら水
480mlを加える。混合物を約5分かきまぜ、相を
分離する。水相を塩化メチレン250mlで抽出し、
乳濁液ができる。塩化ナトリウム飽和溶液150ml
を加えて乳濁を破壊する。水相を捨て、塩化メチ
レン抽出液を取つておく。
元の有機相(1440ml)を重炭酸ナトリウム水溶
液(10%)480mlで中和する。10%重炭酸ナトリ
ウム水溶液の第二回分480mlも加え、最終PHは約
8.2である。二相系を一夜放置して相をもつとよ
く分離させる。元の水相の抽出から生ずる塩化メ
チレン抽出液で水相を抽出する。重炭酸ナトリウ
ム洗浄液960mlの抽出後、塩化メチレン抽出液を
元の有機相と一緒にする。
一緒にした有機相を重炭酸ナトリウム水溶液で
抽出する。この重炭酸ナトリウム抽出液を塩化メ
チレンで抽出すると、濃縮後アンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン1.85gを生ずる。
一緒にした有機相を浴温58゜、容器温度23゜で
真空下770mlまで濃縮する。フプタン960mlを加
え、混合物と再び約700mlの最終容量まで濃縮す
る。混合物を約10゜に冷却し、固体をろ過によつ
て集める。結晶固体をヘプタン(各回100ml)で
2回洗う。固体を真空下に55゜で乾燥すると、ア
ンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン
170.85g(重量収率89.0%、化学収率94.5%)を
生ずる。GC(実施例1)で分析すると、材料は
約99%のアンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・
17−ジオンであることがわかる。
実施例 6 クロロスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式及び:R6とR16は水素)。
9α−ヒドロキシアンドロステンジオン20.0g
を塩化メチレン150mlに溶解し、−19゜に冷去す
る。−9゜又はこれ以下の温度を保持しながら、
クロロスルホン酸10mlを加える。わずか2〜3分
後、TLCで測定されるとおりに反応はほぼ完了
を示す。追加のクロロスルホン酸1mlを加える。
反応混合物に水50mlを加え、温度は−18゜から−
1゜へ上昇する。相を分離し、水相を塩化メチレ
ン125mlで抽出する。有機相を10%重炭酸ナトリ
ウム水溶液50mlで洗う。水相を一緒にし、塩化メ
チレンで逆抽出する。有機相を一緒にし、約20〜
23゜の温度で真空下に約80mlまで濃縮する。ヘプ
タン100mlを加え、混合物を約19゜で約4分かき
まぜる。混合物を真空下に約25〜30゜の温度で約
100mlに濃縮する。ヘプタン50mlを再び加え、混
合物を再び約100mlに濃縮する。混合物を25°に
冷却し、15分かきまぜ、ろ過し、結晶材料をヘプ
タン25mlで洗い、真空下に50゜に乾燥し、アンド
ロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン−
17.96g(重量収率89.8%、化学収率95.3%)を生
ずる。融点197.5〜203.5゜。〔α〕D+220゜(クロ
ロホルム)。UV(メタノール)λ最大=240nm
(ε=16200)。
実施例 7 クロロスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式及び:R6とR16は水素)。
実施例6の一般手順に従うが、非臨界的な変更
をして、1〜11゜の反応温度で9α−ヒドロキシ
アンドロステンジオン20.0gをクロロスルホン酸
10mlと反応させる。仕上げ後、この反応はアンド
ロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン
17.94g(重量収率89.7%、化学収率95.2%)を生
ずる。融点201〜204.5゜。〔α〕D+217゜(クロロ
ホルム)。UV(メタノール)λ最大=240nm
(ε=16300)。
実施例 8 クロロスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式及び:R6とR16は水素)。
実施例6の一般手順に従うが、非臨界的な変更
をして、9α−ヒドロキシアンドロステンジオン
20.0gを20〜27゜の温度で17分クロロスルホン酸
10mlと反応させる。仕上げ後、この反応はアンド
ロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン15.9
g(重量収率79.5%、化学収率84.4%)を生ず
る。融点200.5〜204゜。〔α〕D+218゜(クロロホ
ルム)。UV(メタノール)λ最大=240nm(ε
=15200)。
実施例 9 硫酸による9α−ヒドロキシアンドロステンジ
オン()のアンドロスタ−4・9(11)−ジエン
−3・17−ジオン()への脱水(式及び
:R6とR16は水素)。
硫酸水溶液(70%、22.5ml、水3部と硫酸7
部)に9α−ヒドロキシアンドロステンジオン
9.07gを加える。生ずるスラリーを、TLC(酢酸
エチル:ヘキサン60:40)で測定されるとおりに
反応終了まで、23〜25゜でかきまぜる。完了した
とき、反応混合物を冷却し(10゜)、激しくかき
まぜながら氷水800mlに滴加する。生ずるスラリ
ーを一夜かきまぜ、ろ過し、固体を水500ml、重
炭酸ナトリウム溶液(10%、500ml)及び水500ml
で洗う。固体を空気乾燥すると、アンドロスタ−
4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン8.31g(化学
収率97.4%)を生ずる。融点196〜201゜。〔α〕D
+219゜(クロロホルム)。UV(メタノール)λ
最大=240nm(ε=16500)。GC(実施例1)
99:1より大きい比のアンドロスタ−4・9(11)−
ジエン−3・17−ジオン/アンドロスタ−4・8
−ジエン−3・17−ジオンを示す。
実施例 10 燐酸による9α−ヒドロキシアンドロステンジ
オン()のアンドロスタ−4・9(11)−ジエン
−3・17−ジオン()への脱水(式及び
:R6とR16は水素)。
9α−ヒドロキシアンドロステンジオン(280
mg、純度92.7%のもの302mg)を燐酸(85%、5
ml)へ加え、35〜48゜で7.5時間かきまぜる。次
に水10mlを加え、混合物をかきまぜ、ろ過する。
固体を25゜で10時間空気乾燥すると、アンドロス
タ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン254mg
(重量収率90.7%、化学収率96.2%)を生ずる。
融点197〜201゜。GC(実施例1)は99:1より
大きい比のアンドロスタ−4・9(11)−ジエン−
3・17−ジオン/アンドロスタ−4・8−ジエン
−3・17−ジオンを示す。
実施例 11 燐酸による9α−ヒドロキシアンドロステンジ
オン()のアンドロスタ−4・9(11)−ジエン
−3・17−ジオン()への脱水(式及び
:R6とR16は水素)。
9α−ヒドロキシアンドロステンジオン9.06g
を燐酸(85%、25ml)に加え、45〜55゜で24時間
かきまぜる。水75mlを加え、混合物を2時間かき
まぜ、固体をろ過によつて集める。固体を水200
mlで洗い、空気乾燥すると、アンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン8.11g(化学収率
95.1%)を生ずる。融点193〜195゜。
実施例 12 メタンスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式と:R6とR16は水素)。
窒素下に9α−ヒドロキシアンドロステンジオ
ン0.302gを水0.60ml及びメタンスルホン酸2.40ml
と35゜でかきまぜながら混合する。31〜39゜で5
時間後、水20mlの添加によつて反応を停止させ
る。温度を80゜に高めてから、徐々に5゜に下
げ、45分後スラリーをろ過して固体を集める。固
体を水で完全に洗い、空気乾燥すると、アンドロ
スタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン0.268
g(化学収率94.2%)を生ずる。融点193〜198
゜。
上の固体をメタノール:塩化メチレン(8:
1)混合物9mlに溶解する。混合物をろ過し、ろ
液を常圧で約5mlに濃縮する。60℃で水4mlを加
え、混合物を約30゜に冷却しながら、約1時間か
きまぜる。混合物を0゜に冷却し、1時間放置し
てから、ろ過し、固体をメタノール−水(1:
1)2mlで洗い、空気乾燥すると、アンドロスタ
−4・9(11)−ジエン−3・17ジオン0.248g(化
学収率87.2%)を生ずる。融点198.5〜201゜。
実施例 13 メタンスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式及び:R6とR16は水素)。
9α−ヒドロキシアンドロステンジオン0.302
gをメタンスルホン酸3.0ml中で25゜でかきまぜ
る。80分後、水15mlの添加によつて反応を停止さ
せる。固体を35゜で2時間かきまぜ、集めて一夜
空気乾燥すると、アンドロスタ−4・9(11)−ジエ
ン−3・17−ジオン0.272g(化学収率95.6%)
を生ずる。
実施例 14 メタンスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式及び:R6とR16は水素)。
水3mlとメタンスルホン酸1mlとの溶液に9α
−ヒドロキシアンドロステンジオン280mg(92.7
%純度のもの302mg)を加え、22゜で2時間かき
まぜる。追加のメタンスルホン酸1mlを加え、68
゜に加熱しながら6時間かきまぜる。水20mlとベ
ンゼン20mlの添加により反応混合物を停止させ
る。これを仕上げると、アンドロスタ−4・9(11)
−ジエン−3・17−ジオン147mgを生ずる(化学
収率55.7%)。融点186〜195゜。GC(実施例1)
は、99:1より大きいアンドロスタ−4・9(11)−
ジエン−3・17−ジオン/アンドロスタ−4・8
−ジエン−3・17−ジオンの比を示す。
実施例 15 メタンスルホン酸による9α−ヒドロキシアン
ドロステンジオン()のアンドロスタ−4・
9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への脱水
(式及び:R6とR16は水素)。
メタンスルホン酸2.5ml中の水2.5mlの溶液に、
9α−ヒドロキシアンドロステンジオン302mgを
加え、100゜に加熱する。混合物を2時間に60゜
まで徐々に冷却する。水3mlを加え、反応混合物
に種入れする。これを仕上げると、アンドロスタ
−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン216mg(化
学収率75.9%−粗材料)を生ずる。融点170〜175
゜。再結晶後、190〜194゜の融点が得られる。
実施例 16 過塩素酸による9α−ヒドロキシアンドロステ
ンジオン()のアンドロスタ−4・9()
−ジエン−3・17−ジオン()への脱水(式
及び:R6とR16は水素)。
9α−ヒドロキシアンドロステンジオン302mg
を水5mlへ33゜でかきまぜながら加える。過塩素
酸(70%のもの1.50ml)を加え、温度を徐々に78
゜に高める。混合物を54゜に冷却し、過塩素酸
(70%のもの0.50ml)を加える。28時間後、TLC
(酢酸エチル:ヘキサン60:40)は、90〜95%の
アンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・17−ジオ
ンと約5%出発材料を示す。反応を更に38時間続
けると、アンドロスタ−4・9(11)−ジエン−3・
17−ジオン198mg(化学収率69.6%)を生ずる。
実施例 17 硫酸と燐酸の混合物による9α−ヒドロキシア
ンドロステンジオン()のアンドロスタ−
4・9(11)−ジエン−3・17−ジオン()への
脱水(式及び:R6とR16は水素)。
実施例9の手順に従うが、70%硫酸22.5mlの代
わりに硫酸(90%硫酸15ml)及び燐酸(85%燐酸
15ml)を使用して、アンドロスタ−4・9(11)−ジ
エン−3・17−ジオンが得られる。
実施例 18 実施例1〜17の手順に従つてR6が弗素原子又
はメチル基である場合、R16がメチル基である場
合の式()化合物についてそれぞれ反応を行う
とそれぞれ対応するアンドロスタ−4・9(11)−ジ
エン−3・17−ジオン型化合物が高比率で得られ
る。
下の定義及び説明は、明細書と特許請求の範囲
双方を含めた全特許出願書を通じて使用されてい
る用語に対するものである。
温度はすべて摂氏の度数である。
TLCとは薄層クロマトグラフイのことであ
る。
GCとはガスクロマトグラフイのことである。
UVとは紫外線スペクトル分析のことである。
SSBとは異性体ヘキサン類混合物のことであ
る。
p−TSAとはp−トルエンスルホン酸(p−
メチルフエニスルホン酸)のことである。
クロロスルホン酸とはClSO3Hのことである。
メタンスルホン酸とはCH3SO3Hのことであ
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 〔式中R6は水素又は弗素原子、又はメチル基であ
    り、R16は水素原子又はメチル基であつて、また
    〜はR6基とR16基の結合がα又はβ立体配置にあ
    ることを示す〕の9α−ヒドロキシステロイド
    を、1.0未満又は1.0に等しいpKaをもつ非芳香族
    の酸素化酸と反応させることからなる、 式 〔式中R6、R16及び〜は上に定義されたとおり〕
    のステロイドの製法。 2 酸がクロロスルホン酸、硫酸、燐酸、メタン
    スルホン酸、過塩素酸、及びトリフルオロ酢酸か
    らなる群から選ばれる、特許請求の範囲第1項に
    よる方法。 3 0.8〜5当量のクロロスルホン酸が存在し、
    硫酸が60〜100%の濃度で存在し、燐酸及びメタ
    ンスルホン酸が70〜100%の濃度で存在し、過塩
    素酸が5〜70%の濃度で存在し、トリフルオロ酢
    酸が70〜100%の濃度で存在する特許請求の範囲
    第2項による方法。 4 2〜3当量のクロロスルホン酸が存在し、硫
    酸が70〜96%の濃度で存在し、燐酸とメタンスル
    ホン酸が80〜90%の濃度で存在し、過塩素酸が20
    〜40%の濃度で存在し、またトリフルオロ酢酸が
    75〜95%の濃度で存在する、特許請求の範囲第3
    項による方法。 5 ステロイド()が9α−ヒドロキシアンド
    ロステンジオンである、特許請求の範囲第4項に
    よる方法。 6 酸がクロロスルホン酸である、特許請求の範
    囲第2項による方法。 7 0.8〜5当量のクロロスルホン酸が存在す
    る、特許請求の範囲第6項による方法。 8 酸が硫酸である、特許請求の範囲第2項によ
    る方法。 9 硫酸が60〜100%の濃度で存在する、特許請
    求の範囲第8項による方法。 10 酸が燐酸である、特許請求の範囲第2項に
    よる方法。 11 燐酸が70〜100%の濃度で存在する、特許
    請求の範囲第10項による方法。 12 酸がメタンスルホン酸である、特許請求の
    範囲第2項による方法。 13 メタンスルホン酸が70〜100%の濃度で存
    在する、特許請求の範囲第12項による方法。 14 9α−ヒドロキシアンドロステンジオンを
    クロロスルホン酸と反応させアンドロスタ−4・
    9(11)−ジエン−3・17−ジオンを得る特許請求の
    範囲第1項の製法。 15 0.8〜5当量のクロロスルホン酸が存在す
    る、特許請求の範囲第14項による方法。 16 2〜3当量のクロロスルホン酸が存在す
    る、特許請求の範囲第15項による方法。 17 9α−ヒドロキシアンドロステンジオンを
    硫酸と反応させアンドロスタ−4・9(11)−ジエン
    −3・17−ジオンを得る特許請求の範囲第1項の
    製法。 18 硫酸が60〜100%の濃度で存在する、特許
    請求の範囲第17項による方法。 19 硫酸が70〜96%の濃度で存在する、特許請
    求の範囲第18項による方法。 20 9α−ヒドロキシアンドロステンジオンを
    燐酸と反応させアンドロスタ−4・9(11)−ジエン
    −3・17−ジオンを得る特許請求の範囲第1項の
    製法。 21 燐酸が70〜100%の濃度で存在する、特許
    請求の範囲第20項による方法。 22 燐酸が80〜90%の濃度で存在する、特許請
    求の範囲第21項による方法。 23 9α−ヒドロキシアンドロステンジオンを
    メタンスルホン酸と反応させアンドロスタ−4・
    9(11)−ジエン−3・17−ジオンを得る特許請求の
    範囲第1項の製法。 24 メタンスルホン酸が70〜100%の濃度で存
    在する、特許請求の範囲第23項による方法。 25 メタンスルホン酸が80〜90%の濃度で存在
    する、特許請求の範囲第24項による方法。
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