JPS62204145A - 試料薄膜ｘ線回折測定方法 - Google Patents
試料薄膜ｘ線回折測定方法Info
- Publication number
- JPS62204145A JPS62204145A JP4713686A JP4713686A JPS62204145A JP S62204145 A JPS62204145 A JP S62204145A JP 4713686 A JP4713686 A JP 4713686A JP 4713686 A JP4713686 A JP 4713686A JP S62204145 A JPS62204145 A JP S62204145A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ray
- ray diffraction
- thin film
- incident
- Prior art date
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- Granted
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
試料表面に形成された薄層等の試料薄膜のＸ線回折によ
る分析において、従来は第３図に示すように入射Ｘ線ビ
ームＸを試料Ｓの表面に平行に近い角度で試料面に入射
させていた。これはＸ線を試料への入射角αが大きな状
態で入射させるとＸ線が試料の内部まで深く進入し、試
料表面膜の回折パターンに試料内部の回折パターンが重
なって観測され、試料表面膜の回折パターンのデータを
得るのに邪魔になるからである。しかし図のようにＸ線
を小さな入射角で試料面に入射させると、回折Ｘ線ビー
ムＸｄの幅は図のように入射Ｘ線ビームの幅より広（な
り、このま＼では回折Ｘ線測定上の角度分解能が低くな
るので、Ｘ線検出ｅＤの前面にソーラスリットｓｅを配
置しなければならない。このため通常の粉末法を用いる
Ｘ線回折用ゴニオメータで試料薄膜のＸ線回折による分
析を行おうとすると、上記ソーラスリットを追加しなげ
はならない。
る分析において、従来は第３図に示すように入射Ｘ線ビ
ームＸを試料Ｓの表面に平行に近い角度で試料面に入射
させていた。これはＸ線を試料への入射角αが大きな状
態で入射させるとＸ線が試料の内部まで深く進入し、試
料表面膜の回折パターンに試料内部の回折パターンが重
なって観測され、試料表面膜の回折パターンのデータを
得るのに邪魔になるからである。しかし図のようにＸ線
を小さな入射角で試料面に入射させると、回折Ｘ線ビー
ムＸｄの幅は図のように入射Ｘ線ビームの幅より広（な
り、このま＼では回折Ｘ線測定上の角度分解能が低くな
るので、Ｘ線検出ｅＤの前面にソーラスリットｓｅを配
置しなければならない。このため通常の粉末法を用いる
Ｘ線回折用ゴニオメータで試料薄膜のＸ線回折による分
析を行おうとすると、上記ソーラスリットを追加しなげ
はならない。
ハ０発明が解決しようとするｔＶ１Ｍ点本発明は試料薄
膜のＸ線回折測定において、通常のＸ線回折用ゴニオメ
ータにより、ソーラスリットのような特別なアタッチメ
ントなしにＸ線回折の測定ができるようにしようとする
ものである。
膜のＸ線回折測定において、通常のＸ線回折用ゴニオメ
ータにより、ソーラスリットのような特別なアタッチメ
ントなしにＸ線回折の測定ができるようにしようとする
ものである。
二９問題点解決のための手段
第１図に示すように入射Ｘ線Ｘを大きな入射角αで試料
Ｓ表面に入射させ、試料面と平行に近い方向で回折Ｘ線
Ｘｄを検出するようにした。
Ｓ表面に入射させ、試料面と平行に近い方向で回折Ｘ線
Ｘｄを検出するようにした。
ホ３作用
第１図では入射Ｘ線Ｘは幅を広く拡大して画いであるが
、実際は従来のＸ線回折装置のＸ線ビームをそのま＼用
いているのであり、第１図がら明らかなように、回折Ｘ
線は入射Ｘ線より一層細いビームとなり、ソーラスリッ
トのような付属装置なしに薄膜のＸ線回折測定ができる
。入射Ｘ線の入射角は大きいからＸ線は試料深部まで進
入するが、試料面と平行に近い回折Ｘ線を検出するよう
にしているので、試料深部からのその方向近辺の回折Ｘ
線は試料内で吸収され、従って検出される回折Ｘ線は試
料表面膜からの分だけになる。
、実際は従来のＸ線回折装置のＸ線ビームをそのま＼用
いているのであり、第１図がら明らかなように、回折Ｘ
線は入射Ｘ線より一層細いビームとなり、ソーラスリッ
トのような付属装置なしに薄膜のＸ線回折測定ができる
。入射Ｘ線の入射角は大きいからＸ線は試料深部まで進
入するが、試料面と平行に近い回折Ｘ線を検出するよう
にしているので、試料深部からのその方向近辺の回折Ｘ
線は試料内で吸収され、従って検出される回折Ｘ線は試
料表面膜からの分だけになる。
へ、実施例
第２図は本発明の一実施例を示す。装置そのものは通常
の粉末試料用のＸ線回折計で、Ｇは２軸ゴニオメータで
、試料台１とＸ線検出５Ｄを保持したアーム２とは夫々
独立に駆動されて回転するようにしである。３はＸ線源
、４はＸ線源から放射されるＸ線の発散角を制限するス
リットで試料Ｓに入射するＸ線ビームの発散角は０．２
〜０゜５°に設定される。５は検出スリットでアーム２
に固定されている。試料Ｓは通常の粉末試料の場合、試
料面の法線が入射Ｘ線Ｘと回折Ｘ線Ｘｄとのなす角の２
等分線の方向になるように試料台１にセットされるが、
本発明の場合試料Ｓの表面がアーム２の方向と平行に近
い角度で試料台１にセットされ、試料台１とアーム２と
は常に同じ角度だけ駆動される。
の粉末試料用のＸ線回折計で、Ｇは２軸ゴニオメータで
、試料台１とＸ線検出５Ｄを保持したアーム２とは夫々
独立に駆動されて回転するようにしである。３はＸ線源
、４はＸ線源から放射されるＸ線の発散角を制限するス
リットで試料Ｓに入射するＸ線ビームの発散角は０．２
〜０゜５°に設定される。５は検出スリットでアーム２
に固定されている。試料Ｓは通常の粉末試料の場合、試
料面の法線が入射Ｘ線Ｘと回折Ｘ線Ｘｄとのなす角の２
等分線の方向になるように試料台１にセットされるが、
本発明の場合試料Ｓの表面がアーム２の方向と平行に近
い角度で試料台１にセットされ、試料台１とアーム２と
は常に同じ角度だけ駆動される。
ト、効果
本発明方法は上述したように通常の二軸独立駆動の粉末
試料用Ｘ線回折装置を用いて、特別の付加装置を要せず
、単に試料のセット方向と試料台とゴニオメータアーム
の回転角の関係を通常の回折測定の場合のθ、２θの関
係でなく、θ、θであるように（これは必要条件ではな
く、回折Ｘ線を試料面と平行に近い方向で検出するため
の望ましい条件で、データとして必要なのは入射Ｘ ４
１と回折Ｘ線との間の角度であるがら、θ、θの関係で
なくてもよい）駆動する点だけが通常の扮宋シ（料の回
折Ｘ線測定と異る点であるから、簡単に試料薄膜のＸ線
回折測定ができるのである。
試料用Ｘ線回折装置を用いて、特別の付加装置を要せず
、単に試料のセット方向と試料台とゴニオメータアーム
の回転角の関係を通常の回折測定の場合のθ、２θの関
係でなく、θ、θであるように（これは必要条件ではな
く、回折Ｘ線を試料面と平行に近い方向で検出するため
の望ましい条件で、データとして必要なのは入射Ｘ ４
１と回折Ｘ線との間の角度であるがら、θ、θの関係で
なくてもよい）駆動する点だけが通常の扮宋シ（料の回
折Ｘ線測定と異る点であるから、簡単に試料薄膜のＸ線
回折測定ができるのである。
第１図は本発明の詳細な説明する図、第２図は本発明を
実施する装置の一例の平面図、第３図は従来の測定法を
説明する図である。 Ｘ・・・入射Ｘ線、Ｘｄ・・・回折Ｘ線、Ｓ・・・試料
、Ｇ・・・ゴニオメータ、Ｄ・・・Ｘ線検出器、１・・
・試料台、２・・・ゴニオメータアーム、３・・・Ｘ線
源。
実施する装置の一例の平面図、第３図は従来の測定法を
説明する図である。 Ｘ・・・入射Ｘ線、Ｘｄ・・・回折Ｘ線、Ｓ・・・試料
、Ｇ・・・ゴニオメータ、Ｄ・・・Ｘ線検出器、１・・
・試料台、２・・・ゴニオメータアーム、３・・・Ｘ線
源。
Claims (1)
- ２軸独立駆動型のＸ線回折装置を用い、ゴニオメータ中
心に試料を、その面がＸ線検出器からゴニオメータ中心
を望む方向と平行に近い向きになるように設置し、試料
面の方向とＸ線検出器との関係を上記関係に保って試料
とＸ線検出器とを回転させることを特徴とする試料薄膜
Ｘ線回折測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4713686A JPH0740003B2 (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 試料薄膜ｘ線回折測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4713686A JPH0740003B2 (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 試料薄膜ｘ線回折測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62204145A true JPS62204145A (ja) | 1987-09-08 |
| JPH0740003B2 JPH0740003B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=12766700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4713686A Expired - Lifetime JPH0740003B2 (ja) | 1986-03-04 | 1986-03-04 | 試料薄膜ｘ線回折測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740003B2 (ja) |
-
1986
- 1986-03-04 JP JP4713686A patent/JPH0740003B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0740003B2 (ja) | 1995-05-01 |
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