JPS6220540B2 - - Google Patents
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- JPS6220540B2 JPS6220540B2 JP54024624A JP2462479A JPS6220540B2 JP S6220540 B2 JPS6220540 B2 JP S6220540B2 JP 54024624 A JP54024624 A JP 54024624A JP 2462479 A JP2462479 A JP 2462479A JP S6220540 B2 JPS6220540 B2 JP S6220540B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性物質としてジアゾニウム塩重
縮合生成物並びに更に少くとも水に不溶の樹脂状
有機重合体を含有する殊に平版印刷板の露光され
た感光層、殊に平版印刷板を現像する現像液に関
する。
縮合生成物並びに更に少くとも水に不溶の樹脂状
有機重合体を含有する殊に平版印刷板の露光され
た感光層、殊に平版印刷板を現像する現像液に関
する。
西ドイツ国特許出願公開第2530502号明細書か
らは同じ目的の現像液が公知であり、これはアル
カリ金属燐酸塩及び場合により燐酸からなる緩衝
剤混合物、陰イオン湿潤剤、水に不溶のポリマ
ー、殊にデキストリン、場合により中性のアルカ
リ金属塩、例えば硫酸ナトリウム及び水と混合し
得る溶剤を含有し、3〜11の範囲内のPHを有す
る。
らは同じ目的の現像液が公知であり、これはアル
カリ金属燐酸塩及び場合により燐酸からなる緩衝
剤混合物、陰イオン湿潤剤、水に不溶のポリマ
ー、殊にデキストリン、場合により中性のアルカ
リ金属塩、例えば硫酸ナトリウム及び水と混合し
得る溶剤を含有し、3〜11の範囲内のPHを有す
る。
この現像剤はその明細書に記載されている樹脂
としてのポリビニルアセタールを含有する複写層
には十分に有効である。しかしながら該現像剤は
他の樹脂、例えばポリウレタンを含有する層に対
してはわずかな作用を有する。欠点は比較的低い
沸点の溶剤、例えばプロパノールの比較的大きい
含量、特に15〜40重量%であり、蒸気を除去する
予防手段を必要とする。
としてのポリビニルアセタールを含有する複写層
には十分に有効である。しかしながら該現像剤は
他の樹脂、例えばポリウレタンを含有する層に対
してはわずかな作用を有する。欠点は比較的低い
沸点の溶剤、例えばプロパノールの比較的大きい
含量、特に15〜40重量%であり、蒸気を除去する
予防手段を必要とする。
類似の現像剤が西ドイツ国特許出願公開第
2624074号明細書に記載されている。この現像剤
はわずかな量の高沸点の溶剤、例えばベンジルア
ルコール6%を含有し、PH8.5〜10.5を有する。
この現像剤は前記明細書に記載の一定の組成を有
する層には特に適当であるが、他の層、殊にその
大きい感光性のためにすぐれているジアゾニウム
塩混合縮合生成物を有する(例えば西ドイツ国特
許出願公開第2024244号明細書に記載)にはあま
り適当ではない。
2624074号明細書に記載されている。この現像剤
はわずかな量の高沸点の溶剤、例えばベンジルア
ルコール6%を含有し、PH8.5〜10.5を有する。
この現像剤は前記明細書に記載の一定の組成を有
する層には特に適当であるが、他の層、殊にその
大きい感光性のためにすぐれているジアゾニウム
塩混合縮合生成物を有する(例えば西ドイツ国特
許出願公開第2024244号明細書に記載)にはあま
り適当ではない。
西ドイツ国特許出願公告第2034665号からは、
かゝる混合縮合生成物を有し更に一定の変性エポ
キシ樹脂を含有する層に対する現像剤が公知であ
る。この現像剤はベンジルアルコール、湿潤剤、
塩及び燐酸と共に大量(20重量%)の低沸点の有
機溶剤を含有する。更にこの現像剤はなかんずく
機械による現像では迅速に消尽する欠点を有す
る。
かゝる混合縮合生成物を有し更に一定の変性エポ
キシ樹脂を含有する層に対する現像剤が公知であ
る。この現像剤はベンジルアルコール、湿潤剤、
塩及び燐酸と共に大量(20重量%)の低沸点の有
機溶剤を含有する。更にこの現像剤はなかんずく
機械による現像では迅速に消尽する欠点を有す
る。
ドイツ特願P2739774にはポリウレタン樹脂を
含有する同系の層の現像剤として、陰イオン性浸
透剤、燐酸、酒石酸、ベンジルアルコール及び硫
酸ナトリウムの溶液が記載されている。
含有する同系の層の現像剤として、陰イオン性浸
透剤、燐酸、酒石酸、ベンジルアルコール及び硫
酸ナトリウムの溶液が記載されている。
本発明の目的はジアゾニウム塩重縮合生成物及
び水に不溶の有機重合体を含有する露光、殊に平
版印刷板のされた感光性複写層を現像するための
現像液であつて、現像の面倒な層のきれいで残渣
を有しない現像が可能であり、比較的小量の高沸
点の有機溶剤を含有するに過ぎずかつまた自動現
像機を使用する場合迅速に消尽しない現像液を製
造することである。
び水に不溶の有機重合体を含有する露光、殊に平
版印刷板のされた感光性複写層を現像するための
現像液であつて、現像の面倒な層のきれいで残渣
を有しない現像が可能であり、比較的小量の高沸
点の有機溶剤を含有するに過ぎずかつまた自動現
像機を使用する場合迅速に消尽しない現像液を製
造することである。
本発明によれば、この目的は、特許請求の範囲
第1項に記載された組成の現像液、即ち、陰イオ
ン湿潤剤0.5〜15重量%、水溶性重合体としてポ
リ―N―ビニル―N―メチルアセトアミド0.5〜
6重量%又はポリビニルアルコール1〜5重量
%、3〜9の範囲内のPH価を安定にする塩又は塩
混合物0.5〜6重量%、水と混合しうる有機溶剤
としてベンジルアルコール及びトリ酢酸グリセリ
ンそれぞれ0.5重量%から飽和濃度までを含有す
ることを特徴とする現像液によつて解決される。
第1項に記載された組成の現像液、即ち、陰イオ
ン湿潤剤0.5〜15重量%、水溶性重合体としてポ
リ―N―ビニル―N―メチルアセトアミド0.5〜
6重量%又はポリビニルアルコール1〜5重量
%、3〜9の範囲内のPH価を安定にする塩又は塩
混合物0.5〜6重量%、水と混合しうる有機溶剤
としてベンジルアルコール及びトリ酢酸グリセリ
ンそれぞれ0.5重量%から飽和濃度までを含有す
ることを特徴とする現像液によつて解決される。
本発明による現像液は好ましくはPH4〜8を有
する。
する。
この現像液は付加的にゼラチンを0.01〜2重量
%、好ましくは0.1〜1重量%の量で含有してい
てもよい。使用されるポリビニルアルコールは、
現像液の粘度を著しく大きくしないために余り大
きい分子量を有してはならない。一般に4%の水
溶液が20℃で粘度1〜20cPを有するポリビニル
アルコールが適当であり、すぐれているのは粘度
1〜10cP、殊に1〜5cPを有するポリビニルアル
コールである。更にポリビニルアルコールの濃度
及び他の成分の含量によつて左右される現像液の
粘度は、すべての場合20℃で20cP以下、好まし
くは10cP以下で存在しなければならない。ポリ
ビニルアルコールの好ましい濃度は2〜4重量
%、ポリビニルメチルアセトアミドの濃度は1〜
4重量%である。
%、好ましくは0.1〜1重量%の量で含有してい
てもよい。使用されるポリビニルアルコールは、
現像液の粘度を著しく大きくしないために余り大
きい分子量を有してはならない。一般に4%の水
溶液が20℃で粘度1〜20cPを有するポリビニル
アルコールが適当であり、すぐれているのは粘度
1〜10cP、殊に1〜5cPを有するポリビニルアル
コールである。更にポリビニルアルコールの濃度
及び他の成分の含量によつて左右される現像液の
粘度は、すべての場合20℃で20cP以下、好まし
くは10cP以下で存在しなければならない。ポリ
ビニルアルコールの好ましい濃度は2〜4重量
%、ポリビニルメチルアセトアミドの濃度は1〜
4重量%である。
ベンジルアルコール及びトリ酢酸グリセリンの
好ましい量の割合は、それぞれ1〜4重量%であ
る。
好ましい量の割合は、それぞれ1〜4重量%であ
る。
ベンジルアルコール及びトリ酢酸グリセリン以
外に、水と制限されて混合可能で沸点120℃より
上、好ましくは150℃より上の沸点を有する他の
溶剤を0.1〜2重量%、好ましくは0.1〜0.5重量%
の量で含有してもよい。適当なものはアルコー
ル、殊にシクロヘキサノールである。
外に、水と制限されて混合可能で沸点120℃より
上、好ましくは150℃より上の沸点を有する他の
溶剤を0.1〜2重量%、好ましくは0.1〜0.5重量%
の量で含有してもよい。適当なものはアルコー
ル、殊にシクロヘキサノールである。
緩衝剤物質としては、公知方法で強塩基と弱い
〜中位の強さの酸との塩、殊に燐酸又は珪酸のア
ルカリ金属塩を使用する。アルカリ金属燐酸塩、
なかんずく燐酸ナトリウムを特に好ましく使用す
る。その量は一般に0.5〜6重量%、好ましくは
1〜3重量%である。特にすぐれているのはアル
カリ金属酸性燐酸塩である。場合によりPHを所望
の値にするために、小量の燐酸を添加してもよ
い。通常燐酸の添加は、緩衝剤として燐酸三ナト
リウムを使用する場合に必要である。
〜中位の強さの酸との塩、殊に燐酸又は珪酸のア
ルカリ金属塩を使用する。アルカリ金属燐酸塩、
なかんずく燐酸ナトリウムを特に好ましく使用す
る。その量は一般に0.5〜6重量%、好ましくは
1〜3重量%である。特にすぐれているのはアル
カリ金属酸性燐酸塩である。場合によりPHを所望
の値にするために、小量の燐酸を添加してもよ
い。通常燐酸の添加は、緩衝剤として燐酸三ナト
リウムを使用する場合に必要である。
中性無機塩、殊にアルカリ金属塩、例えば硫酸
ナトリウムを6重量%まで、好ましくは1〜3重
量%の量で添加するのが有利である。それという
のもこれによつて階調が所望の方法で急傾斜する
からである。
ナトリウムを6重量%まで、好ましくは1〜3重
量%の量で添加するのが有利である。それという
のもこれによつて階調が所望の方法で急傾斜する
からである。
溶液を放置する場合空気に対する酸化の分解を
安定にするために、酸化防止剤、好ましくはヒド
ロキノンの0.001〜0.1重量%、好ましくは0.005〜
0.1重量%の量の添加を行なう。この分解は特に
ベンズアルデヒドによる臭いで検出される。
安定にするために、酸化防止剤、好ましくはヒド
ロキノンの0.001〜0.1重量%、好ましくは0.005〜
0.1重量%の量の添加を行なう。この分解は特に
ベンズアルデヒドによる臭いで検出される。
陰イオン湿潤剤としては、原則として通常使用
されるこのタイプのすべての湿潤剤が適当であ
る。長連鎖状アルキル基(ほゞC12〜C20)及び塩
基、一般にアルカリ金属又はアンモニウムのスル
ホン酸塩基又は硫酸塩基の外に、ポリアルキレン
オキシ基を有するものが好ましいことが判明し
た。すぐれているのは脂肪アルコールポリオキシ
エチレンサルフエートの塩である。浸透剤は好ま
しくは1〜10重量%の量で使用する。
されるこのタイプのすべての湿潤剤が適当であ
る。長連鎖状アルキル基(ほゞC12〜C20)及び塩
基、一般にアルカリ金属又はアンモニウムのスル
ホン酸塩基又は硫酸塩基の外に、ポリアルキレン
オキシ基を有するものが好ましいことが判明し
た。すぐれているのは脂肪アルコールポリオキシ
エチレンサルフエートの塩である。浸透剤は好ま
しくは1〜10重量%の量で使用する。
本発明による現像剤は低含量の有機溶剤にも拘
らず、水に不溶のジアゾ重縮合物と水に不溶の樹
脂とからなる層を残渣を有しないで現像するのに
適当である。溶液は専ら高沸点の有機溶剤を含有
するので、その組成は開口容器中で長時間放置す
る場合にも不変であり、現像を高めた温度で、溶
剤蒸気の著しい生成なしに行なうことができる。
これは多くの場合に所望されている。現像剤は緩
衝液として長時間の使用後にも必要なPHを保持す
るので、PHを短間隔で補正することは不必要であ
る。それ故、この現像剤はなかんずく自動現像機
で使用するのに適当である。またこの利点は、特
に遊離燐酸を含有する層を現像する場合に得られ
る。
らず、水に不溶のジアゾ重縮合物と水に不溶の樹
脂とからなる層を残渣を有しないで現像するのに
適当である。溶液は専ら高沸点の有機溶剤を含有
するので、その組成は開口容器中で長時間放置す
る場合にも不変であり、現像を高めた温度で、溶
剤蒸気の著しい生成なしに行なうことができる。
これは多くの場合に所望されている。現像剤は緩
衝液として長時間の使用後にも必要なPHを保持す
るので、PHを短間隔で補正することは不必要であ
る。それ故、この現像剤はなかんずく自動現像機
で使用するのに適当である。またこの利点は、特
に遊離燐酸を含有する層を現像する場合に得られ
る。
通常本発明による現像液を使用する場合、現像
原板の定着又は保存は現像の終了後原板を新しい
現像液で摩擦して乾燥すると不必要である。
原板の定着又は保存は現像の終了後原板を新しい
現像液で摩擦して乾燥すると不必要である。
本発明による現像剤は、感光性物質としてジア
ゾニウム塩縮合生成物及び更に水に不溶のポリマ
ー結合剤、殊にポリウレタンを含有する露光した
感光性複写材料を現像するのに適当である。かゝ
る材料は、例えば西ドイツ国特許出願公開第
202424号及び第2739774号明細書及びドイツ特許
第1214089号明細書に記載されている。
ゾニウム塩縮合生成物及び更に水に不溶のポリマ
ー結合剤、殊にポリウレタンを含有する露光した
感光性複写材料を現像するのに適当である。かゝ
る材料は、例えば西ドイツ国特許出願公開第
202424号及び第2739774号明細書及びドイツ特許
第1214089号明細書に記載されている。
次に実施例につき本発明を説明する。例中の重
は重量部(Gt)である。
は重量部(Gt)である。
例 1
3―メトキシ―ジフエニルアミン―4―
ジアゾニウム塩1モルと4、4′―ビス
―メトキシメチル―ジフエニルエーテ
ル1モルとからなる重縮合生成物(ス
ルホン酸メシチレンとして沈殿) 63.9Gt 遊離NCO基7.0%を有するポリウレタン
(2,4―トリレンジイソシアネート
を、プタンジオール―(1,4)、ポ
リプロピレングリコール及びトリメチ
ロールプロパンからなる混合物と反応
させることによつて得られる) 142.0Gt アルキド樹脂(無水フタル酸40Gt、グ
リセリン10Gt及びペンタエリトリツ
ト20Gt並びに分枝状の飽和モノカル
ボン酸44Gtを重縮合させることによ
つて製造) 99.3Gt 燐酸(85%) 5.6Gt ポリビニルホルマル 6.2Gt ロダミン6GDN extra (C.I.45160) 4.80Gt メタニルエロー(C.I.13065) 1.60Gt を エチレングリコールモノメチルエーテル 7000Gt にとかした溶液を、0.1%のポリビニルホスホン
酸水溶液で前処理した陽極処理のアルミニウムか
らなる層支持体に、乾燥した層が重量1g/m2を
有する厚さで塗布した。
ジアゾニウム塩1モルと4、4′―ビス
―メトキシメチル―ジフエニルエーテ
ル1モルとからなる重縮合生成物(ス
ルホン酸メシチレンとして沈殿) 63.9Gt 遊離NCO基7.0%を有するポリウレタン
(2,4―トリレンジイソシアネート
を、プタンジオール―(1,4)、ポ
リプロピレングリコール及びトリメチ
ロールプロパンからなる混合物と反応
させることによつて得られる) 142.0Gt アルキド樹脂(無水フタル酸40Gt、グ
リセリン10Gt及びペンタエリトリツ
ト20Gt並びに分枝状の飽和モノカル
ボン酸44Gtを重縮合させることによ
つて製造) 99.3Gt 燐酸(85%) 5.6Gt ポリビニルホルマル 6.2Gt ロダミン6GDN extra (C.I.45160) 4.80Gt メタニルエロー(C.I.13065) 1.60Gt を エチレングリコールモノメチルエーテル 7000Gt にとかした溶液を、0.1%のポリビニルホスホン
酸水溶液で前処理した陽極処理のアルミニウムか
らなる層支持体に、乾燥した層が重量1g/m2を
有する厚さで塗布した。
得られた平版印刷板を、オリジナル下で市場で
得られる5kWの露光装置で30秒間露光した。
得られる5kWの露光装置で30秒間露光した。
次いでこれを
水 100Gt
アンモニウム―アルキルポリオキシエチ
レンサルフエート(C原子18個を有す
るアルキル基) 30Gt ゼラチン 1Gt ポリビニルアルコール(残アセチル基12%、k値
4) 4Gt NaH2PO4・2H2O 1Gt Na2SO4・10H2O 3Gt ベンジルアルコール 3Gt トリ酢酸グリセリン 2.5Gt ヒドロキノン 0.02Gt の溶液を注ぐことによつて約1/2分間内に現像し
た。現像液はPH5.07を有していた。印刷板を他の
処理をしないで印刷機に装入し、明らかに色調を
有しない刷りが得られた。
レンサルフエート(C原子18個を有す
るアルキル基) 30Gt ゼラチン 1Gt ポリビニルアルコール(残アセチル基12%、k値
4) 4Gt NaH2PO4・2H2O 1Gt Na2SO4・10H2O 3Gt ベンジルアルコール 3Gt トリ酢酸グリセリン 2.5Gt ヒドロキノン 0.02Gt の溶液を注ぐことによつて約1/2分間内に現像し
た。現像液はPH5.07を有していた。印刷板を他の
処理をしないで印刷機に装入し、明らかに色調を
有しない刷りが得られた。
市場で得られるスプレー現像機に前記現像液を
充填し、大きさ65×55cmを有する前記組成の印刷
板を装入した。250枚の版を現像した後に、まだ
現像剤の作用の中絶は立証されなかつた。PHは実
際に変つてはいなかつた。
充填し、大きさ65×55cmを有する前記組成の印刷
板を装入した。250枚の版を現像した後に、まだ
現像剤の作用の中絶は立証されなかつた。PHは実
際に変つてはいなかつた。
例 2
例1のようにして製造して露光した平版印刷板
を、その都度次の溶液の1つで現像した。
を、その都度次の溶液の1つで現像した。
溶液 (a)
水 100Gt
湿油剤(例1のような) 3Gt
ポリ―N―ビニル―N―メチルアセトアミド 4Gt
Na2HPO4 2Gt
ベンジルアルコール 3Gt
トリ酢酸グリセリン 3Gt
ヒドロキノン 0.04Gt
PH=7.91
溶液 (b)
水 100Gt
湿潤剤(例1のような) 4Gt
ゼラチン 0.8Gt
ポリビニルアルコール(例1のような) 4Gt
Na2SO4・10H2O 1Gt
NaH2PO4・2H2O 2Gt
ベンジルアルコール 2.8Gt
トリ酢酸グリセリン 3.2Gt
ヒドロキノン 0.04Gt
シクロヘキサノール 0.3Gt
PH=6.53
溶液 (c)
水 100Gt
湿油剤(例1のような) 5Gt
ゼラチン 0.8Gt
ポリビニルアルコール(例1のような) 4Gt
Na2SO4・10H2O 1.5Gt
NaH2PO4・2H2O 2.0Gt
ベンジルアルコール 2.8Gt
三酢酸グリセリン 3.2Gt
ヒドロキノン 0.04Gt
シクロヘキサノール 0.3Gt
例1と同じ良好な結果が得られた。
前述の例を、層支持体として或時は機械的に粗
面化し、或時は電気化学的に粗面化したアルミニ
ウムを使用する点を変えてくり返した。結果は比
較することができた。
面化し、或時は電気化学的に粗面化したアルミニ
ウムを使用する点を変えてくり返した。結果は比
較することができた。
例 3
例1に記載のポリウレタン 2.34Gt
3―メトキシ―ジフエニルアミンとホル
ムアミドとからなる縮合生成物(85%
の燐酸中で製造) 2.34Gt 燐酸 0.16Gt 青色のアゾ染料(2,4―ジニトロ―6
―クロル―ベンゾール―ジアゾニウム
塩を、2―メトキシ―5―アセチルア
ミノ―N―シアノエチル―N―ヒドロ
キシエチル―アニリンとカツプリング
させることにより得られる) 0.16Gt エチレングリコールモノメチルエーテル 95.00Gt の溶液を陽極処理のアルミニウムからなるプレー
トに、乾燥後に層の厚さ1g/m2が得られる量で
塗布した。5000kWの金属ハロゲン化物燈下で
130cmの距離で60秒間露光した後に、複写層を例
1及び例2の現像液で現像した。現像は著しく迅
速にかつまた残渣を有しないで進行した。
ムアミドとからなる縮合生成物(85%
の燐酸中で製造) 2.34Gt 燐酸 0.16Gt 青色のアゾ染料(2,4―ジニトロ―6
―クロル―ベンゾール―ジアゾニウム
塩を、2―メトキシ―5―アセチルア
ミノ―N―シアノエチル―N―ヒドロ
キシエチル―アニリンとカツプリング
させることにより得られる) 0.16Gt エチレングリコールモノメチルエーテル 95.00Gt の溶液を陽極処理のアルミニウムからなるプレー
トに、乾燥後に層の厚さ1g/m2が得られる量で
塗布した。5000kWの金属ハロゲン化物燈下で
130cmの距離で60秒間露光した後に、複写層を例
1及び例2の現像液で現像した。現像は著しく迅
速にかつまた残渣を有しないで進行した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ジアゾニウム塩重縮合生成物及び水に不溶の
有機重合体を含有する露光された感光性複写層を
現像するための現像液が、陰イオン湿潤剤0.5〜
15重量%、水溶性重合体としてポリ―N―ビニル
―N―メチルアセトアミド0.5〜6重量%又はポ
リビニルアルコール1〜5重量%、3〜9の範囲
内のPH価を安定にする塩又は塩混合物0.5〜6重
量%、水と混合しうる有機溶剤としてベンジルア
ルコール及びトリ酢酸グリセリンそれぞれ0.5重
量%から飽和濃度までを含有することを特徴とす
る露光された感光性複写層の現像液。 2 4〜8のPH価を有する、特許請求の範囲第1
項記載の現像液。 3 付加的にゼラチン0.01〜2重量%を含有す
る、特許請求の範囲第1項記載の現像液。 4 付加的に、水と制限されて混合可能で120℃
より上の沸点を有する有機溶剤0.1〜2重量%を
含有する特許請求の範囲第1項記載の現像液。 5 付加的に、その他の成分と相溶性の酸化防止
剤0.001〜0.1重量%を含有する、特許請求の範囲
第1項記載の現像液。 6 PH価を安定にする塩ないしは塩混合物が少な
くとも1種の酸性燐酸アルカリからなる、特許請
求の範囲第1項記載の現像液。 7 付加的に燐酸を、PH価が記載された範囲的に
あるような量で含有する、特許請求の範囲第1項
記載の現像液。 8 陰イオン湿潤剤が脂肪アルコールポリオキシ
エチレンサルフエートの塩である、特許請求の範
囲第1項記載の現像液。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19782809774 DE2809774A1 (de) | 1978-03-07 | 1978-03-07 | Verfahren und entwicklerloesung zum entwickeln von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54126103A JPS54126103A (en) | 1979-10-01 |
| JPS6220540B2 true JPS6220540B2 (ja) | 1987-05-07 |
Family
ID=6033779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2462479A Granted JPS54126103A (en) | 1978-03-07 | 1979-03-05 | Developer for developing photosensitive copy layer exposed to light |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0004014B1 (ja) |
| JP (1) | JPS54126103A (ja) |
| DE (2) | DE2809774A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH022082U (ja) * | 1988-06-18 | 1990-01-09 | ||
| US7585610B2 (en) | 2005-02-18 | 2009-09-08 | Fujitsu Limited | Resist pattern thickening material and process for forming resist pattern, and semiconductor device and process for manufacturing the same |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55134847A (en) * | 1979-04-06 | 1980-10-21 | Nec Corp | Manufacture of resist image |
| DE2941960A1 (de) * | 1979-10-17 | 1981-04-30 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Entwicklergemisch und verfahren zum entwickeln von von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten |
| DE3006964A1 (de) * | 1980-02-25 | 1981-09-10 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lackemulsion und verfahren zum herstellen von flachdruckformen |
| DE3100259A1 (de) | 1981-01-08 | 1982-08-05 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren und entwicklergemisch zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten |
| US5035982A (en) * | 1989-07-14 | 1991-07-30 | Eastman Kodak Company | Aqueous developer composition for developing negative working lithographic printing plate |
| DE19755295A1 (de) * | 1997-12-12 | 1999-06-17 | Agfa Gevaert Ag | Entwickler für bestrahlte, strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien |
| EP1093024A1 (en) | 1999-10-11 | 2001-04-18 | Fuji Photo Film B.V. | An aqueous developer for lithographic printing plates |
| JP4626978B2 (ja) * | 2004-03-03 | 2011-02-09 | ダイセル化学工業株式会社 | リソグラフィー用洗浄剤及びリンス液 |
| JP5541913B2 (ja) * | 2009-12-25 | 2014-07-09 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1547864A1 (de) * | 1967-01-18 | 1969-12-04 | Kalle Ag | Lichtempfindliche Kopierschicht |
| JPS4988603A (ja) * | 1972-12-29 | 1974-08-24 | ||
| DE2530502C2 (de) * | 1974-07-22 | 1985-07-18 | American Hoechst Corp., Bridgewater, N.J. | Verfahren zum gleichzeitigen Entwickeln und Konservieren von Druckplatten sowie dafür geeignete Behandlungslösung |
| NL7506406A (nl) * | 1975-05-30 | 1976-12-02 | Oce Van Der Grinten Nv | Lichtgevoelig kopieermateriaal. |
| DE2637768C2 (de) * | 1976-08-21 | 1984-11-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von farbigen Reliefbildern |
| LU75749A1 (ja) * | 1976-09-08 | 1978-04-27 | ||
| JPS5344202A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developer composition and developing method |
-
1978
- 1978-03-07 DE DE19782809774 patent/DE2809774A1/de not_active Withdrawn
-
1979
- 1979-02-26 DE DE7979100566T patent/DE2961110D1/de not_active Expired
- 1979-02-26 EP EP79100566A patent/EP0004014B1/de not_active Expired
- 1979-03-05 JP JP2462479A patent/JPS54126103A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH022082U (ja) * | 1988-06-18 | 1990-01-09 | ||
| US7585610B2 (en) | 2005-02-18 | 2009-09-08 | Fujitsu Limited | Resist pattern thickening material and process for forming resist pattern, and semiconductor device and process for manufacturing the same |
| US7799508B2 (en) | 2005-02-18 | 2010-09-21 | Fujitsu Limited | Resist pattern thickening material and process for forming resist pattern, and semiconductor device and process for manufacturing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2809774A1 (de) | 1979-09-13 |
| DE2961110D1 (en) | 1981-12-10 |
| EP0004014A2 (de) | 1979-09-19 |
| JPS54126103A (en) | 1979-10-01 |
| EP0004014A3 (en) | 1979-10-03 |
| EP0004014B1 (de) | 1981-09-30 |
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