JPS62207268A - １，３−ジチオラン−２−チオン誘導体の製造方法 - Google Patents
１，３−ジチオラン−２−チオン誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JPS62207268A JPS62207268A JP4936686A JP4936686A JPS62207268A JP S62207268 A JPS62207268 A JP S62207268A JP 4936686 A JP4936686 A JP 4936686A JP 4936686 A JP4936686 A JP 4936686A JP S62207268 A JPS62207268 A JP S62207268A
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- JP
- Japan
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- carbon disulfide
- dithiolane
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- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は１，３−ジチオフン−２−チオン誘導体の製造
法に関するもので、より詳細にはこれらの化合物を、テ
ィラン化合物と二硫化炭素とを塩基の存在下に高圧で一
応させることにより簡単にかつ収率よく製造する方法に
関するものである。
法に関するもので、より詳細にはこれらの化合物を、テ
ィラン化合物と二硫化炭素とを塩基の存在下に高圧で一
応させることにより簡単にかつ収率よく製造する方法に
関するものである。
（産業上の利用分野）
従来、１，３−ジチオラン−２−チオンの誘導体には、
電荷移動錯体である’ｒＴＦ （テトラチアフルバレン
）の合成中間体としての利用が多数知られており、また
近年では生理活性物質の中間材料としての利用も多数報
告されている。（Ｕ、Ｓ。
電荷移動錯体である’ｒＴＦ （テトラチアフルバレン
）の合成中間体としての利用が多数知られており、また
近年では生理活性物質の中間材料としての利用も多数報
告されている。（Ｕ、Ｓ。
４．１３１，６８３．Ｂｅｒｇ−８７６，２０２，Ｕ、
Ｓ、４，１７２，９４１゜Ｕ−８・４，２０６，１１９
）。
Ｓ、４，１７２，９４１゜Ｕ−８・４，２０６，１１９
）。
トリチオ炭酸のナトリウム塩と１，２−ジハロゲノ化合
物との反応などにより合成されているが、１作が複雑で
あり、精製が困難な場合もある。塩基を用いたティラン
と二硫化炭素との反応はエチレンスルフィド以外のティ
ランを用いた場合は収率が低く実用的ではなかった。
物との反応などにより合成されているが、１作が複雑で
あり、精製が困難な場合もある。塩基を用いたティラン
と二硫化炭素との反応はエチレンスルフィド以外のティ
ランを用いた場合は収率が低く実用的ではなかった。
したがって、本発明の目的は１，３−ジチオラン−２−
チオン誘導体の効率的な製造方法を開発することである
。
チオン誘導体の効率的な製造方法を開発することである
。
（問題点ｔ−解決するための子役）
本発明者らは高圧条件下にティラン（１１と二硫化炭素
とを塩基の存在下反応させることによジ１゜３−ジチオ
ラン−２−チオ／誘導体（２）を高収率で製造できるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。
とを塩基の存在下反応させることによジ１゜３−ジチオ
ラン−２−チオ／誘導体（２）を高収率で製造できるこ
とを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は
一般式
（式中Ｒ１はアルキル基、アリール基、又は水素原子で
あり、ｌ（，２、Ｒ３はアルキル基又は水素原子を表わ
す。） で示されるティランと二硫化炭素とを塩基の存在下、高
圧をかけて反応させる（と全特徴とするご （式中Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前に己と同じ意味を持つ。
あり、ｌ（，２、Ｒ３はアルキル基又は水素原子を表わ
す。） で示されるティランと二硫化炭素とを塩基の存在下、高
圧をかけて反応させる（と全特徴とするご （式中Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前に己と同じ意味を持つ。
）で示される１、３−ジチオラン−２−チオン誘導体の
製造方法を提供するものである。
製造方法を提供するものである。
本発明の出発原料であるティラン化合物（１）は相当す
るエポキシドよりチオ尿素またはチオシアン酸カリウム
を用いて容易に合成でき、二硫化炭素も安価に市販され
ている。したがって化合物（ｌｌｔ″適宜に選択するこ
とによりゃ、Ｒ２及びＲ３について所望の置換基金導入
した任意の１，３−ジチオラン−２−チオ／誘導体を製
造することができる。なお本発明においてＲ１−Ｒ３は
反応に不活性な置換基でさらに置換されている場合も包
含する。
るエポキシドよりチオ尿素またはチオシアン酸カリウム
を用いて容易に合成でき、二硫化炭素も安価に市販され
ている。したがって化合物（ｌｌｔ″適宜に選択するこ
とによりゃ、Ｒ２及びＲ３について所望の置換基金導入
した任意の１，３−ジチオラン−２−チオ／誘導体を製
造することができる。なお本発明においてＲ１−Ｒ３は
反応に不活性な置換基でさらに置換されている場合も包
含する。
次に本発明における目的化合物（２）の生成経路を１”
基としてトリエチルアミンを用いたインブチレンスルフ
ィドと二硫化炭素との反応を例にとれば本発明の反応は
通常、再三級アミン触媒の存在下にて高圧条件下で行な
われる。例えばトリエチルアミン、ピリジン等が触媒と
して用いられた。
基としてトリエチルアミンを用いたインブチレンスルフ
ィドと二硫化炭素との反応を例にとれば本発明の反応は
通常、再三級アミン触媒の存在下にて高圧条件下で行な
われる。例えばトリエチルアミン、ピリジン等が触媒と
して用いられた。
圧力は高圧はど好ましいが、一般には５００〜９０００
ｋｇ／２”の範囲で選択される。反応温度は特に制約
されないが、副反応の進行を抑制する意味では室温〜１
００℃の温度の採用が好ましい。反応時間は圧力、温度
等に左右されるが、通常５〜５０時間で十分である。
ｋｇ／２”の範囲で選択される。反応温度は特に制約
されないが、副反応の進行を抑制する意味では室温〜１
００℃の温度の採用が好ましい。反応時間は圧力、温度
等に左右されるが、通常５〜５０時間で十分である。
反応混合物から過剰の二硫化炭素を留去したのち減圧蒸
留もしくは再結晶することにより本発明の目的化合物が
純度よく得られる。かくして得られた目的化合物は、Ｉ
Ｒ，ＮＭＳ、ＭＳを分析することによりその構造を確認
できる。
留もしくは再結晶することにより本発明の目的化合物が
純度よく得られる。かくして得られた目的化合物は、Ｉ
Ｒ，ＮＭＳ、ＭＳを分析することによりその構造を確認
できる。
（発明の効果）
本発明方法によれば１．３−ジチオラン−２−チオン類
を高収率かつ効率的に製造することができる。
を高収率かつ効率的に製造することができる。
（実施例）
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。
実施例１
テフロンチューブにインブチレンスルフィドｏ、ｓｓｙ
、トリエチルアミン０．１０ｇ、及び二硫化炭素３．８
０ｇを封入し、高圧反応装置に入れて８０００ｋｇ／ｃ
ＷＬ”に加圧し４０℃で２０時間反応した。
、トリエチルアミン０．１０ｇ、及び二硫化炭素３．８
０ｇを封入し、高圧反応装置に入れて８０００ｋｇ／ｃ
ＷＬ”に加圧し４０℃で２０時間反応した。
圧を常圧に戻したのち反応物をと９出し、過剰の二硫化
炭素を留去した。残留物を減圧蒸留することにより４，
４−ジメチル−１，３−ジチオラン−２−チオンを収率
８７．８チで得た。
炭素を留去した。残留物を減圧蒸留することにより４，
４−ジメチル−１，３−ジチオラン−２−チオンを収率
８７．８チで得た。
ＩＲ；１０８９ｃＷＬ−’、１０５４ｃｍ−’ＣＩ−Ｍ
ＳによるＱＭ”；１６５ ＮＭＲ； １．７４ （Ｓ、６Ｈ１２ＣＨ３）、３．７
６（Ｓ、２Ｈ，ＣＨ，）嘴施例２ 前記と同様にしてインブチレンスルフィト０．８８ｙ、
トリエチルアミン０．１０ｇ、及び二硫化炭素３．８０
ｐを２０００ｋｇ／α２，７０℃で２０時間反応させ次
。前記と同様の処理により４．４−ジメチル−１，３−
ジチオラン−２−チオンを収率９６チで得た。
ＳによるＱＭ”；１６５ ＮＭＲ； １．７４ （Ｓ、６Ｈ１２ＣＨ３）、３．７
６（Ｓ、２Ｈ，ＣＨ，）嘴施例２ 前記と同様にしてインブチレンスルフィト０．８８ｙ、
トリエチルアミン０．１０ｇ、及び二硫化炭素３．８０
ｐを２０００ｋｇ／α２，７０℃で２０時間反応させ次
。前記と同様の処理により４．４−ジメチル−１，３−
ジチオラン−２−チオンを収率９６チで得た。
実施例３
前記と同様にしてシクロヘキセンスルフィド０．９８，
９．）リエチルアミン０．１０ｇ、及び二硫化炭素３．
８０ｇを５ｏｏ０に９／α２．４０℃で２０時間反応さ
せた。反応物は過剰の二硫化炭素を留去したのちエタノ
ールで再結晶することにより４，５−テトラメチレン−
１，３−ジチオラン−２−チオンを収率９７チで得た。
９．）リエチルアミン０．１０ｇ、及び二硫化炭素３．
８０ｇを５ｏｏ０に９／α２．４０℃で２０時間反応さ
せた。反応物は過剰の二硫化炭素を留去したのちエタノ
ールで再結晶することにより４，５−テトラメチレン−
１，３−ジチオラン−２−チオンを収率９７チで得た。
ＩＲ；１０５８Ｉ：ＭＬ 、１０１０３３ｃＩＩＬＣＩ
−によるＱＭ ； １９１ＮＭＲ； １．００〜２
．４０ （ｍ、 ８）１． ＣＨｔ）、３．９０〜４．
３５ （ｍ、２Ｈ，２０Ｈ） 実施例４ 前記と同様にしてスチレンスルフィド１．３６ｇ、トリ
エチルアミン０．１ＯＮ及び二硫化炭素３．８０ｇを８
０００に９／ｃ！ｒＬ２、ｉｏｏ℃で２０時間反応させ
た。
−によるＱＭ ； １９１ＮＭＲ； １．００〜２
．４０ （ｍ、 ８）１． ＣＨｔ）、３．９０〜４．
３５ （ｍ、２Ｈ，２０Ｈ） 実施例４ 前記と同様にしてスチレンスルフィド１．３６ｇ、トリ
エチルアミン０．１ＯＮ及び二硫化炭素３．８０ｇを８
０００に９／ｃ！ｒＬ２、ｉｏｏ℃で２０時間反応させ
た。
反応物は過剰の二硫化炭素を留去したのちエタノールで
再結晶することにより４−フェニル−１゜３−ジチオラ
ン−２−チオンを収率９１％で得た。
再結晶することにより４−フェニル−１゜３−ジチオラ
ン−２−チオンを収率９１％で得た。
ＩＲ；１０１０４７
ｃＲＣＩ−によるＱＭ、２１３
ＮＭ Ｒ： ３．９０ ＾−４゜４０（ｍ、２Ｈ，ＣＨ
，）、５．５５〜５．８０（ａａ、ＩＨ，ＣＨ）、７．
２５〜７．７０ （ｍ、 ５Ｈ。
，）、５．５５〜５．８０（ａａ、ＩＨ，ＣＨ）、７．
２５〜７．７０ （ｍ、 ５Ｈ。
Ｃ，Ｈ，）
実施例５
前記と同様にして３−クロルプロピレンスルフィド１．
０８１ トリエチルアミン０．３０ｇ及び二硫化炭素
３．８０ｇを５０００ ｋｇ／ｃｍ”、１００°Ｃで２
０時間反応させた。反応切は過剰の二硫化炭素を留去し
たのち減圧蒸留によｆ）４−りａ口メチル−１，３−ジ
チオラン−２−チオンを収率３２％で得た。
０８１ トリエチルアミン０．３０ｇ及び二硫化炭素
３．８０ｇを５０００ ｋｇ／ｃｍ”、１００°Ｃで２
０時間反応させた。反応切は過剰の二硫化炭素を留去し
たのち減圧蒸留によｆ）４−りａ口メチル−１，３−ジ
チオラン−２−チオンを収率３２％で得た。
ＩＲ；１０６７ｃ＊ 、１０３９ｃｒ！Ｌ 。
ＣＩ−ＭＳによるＱＭ ； １８５
ＮＭＲ； ３．５５〜４．０５ （ｍ、２Ｈ，ＣＨｚ）
、４．０５〜４．３０（ｍ、２Ｈ，ＣＨ２）、４．３０
〜４．６５ （ｍ、 ＩＨ，ＣＨ）実施例６ 前記と同様にしてプロピレンスルフイド０．７４ｐ。
、４．０５〜４．３０（ｍ、２Ｈ，ＣＨ２）、４．３０
〜４．６５ （ｍ、 ＩＨ，ＣＨ）実施例６ 前記と同様にしてプロピレンスルフイド０．７４ｐ。
トリエチルアミン０．１１及び二硫化炭素３．８０Ｉｉ
ｔ−８０００ｋｇ／、２．４０℃で２０時間反応させた
。反応物は過剰の二硫化炭素を留去したのち減圧蒸留に
より４−メチル−１，３−ジチオラン−２−チオンを収
率９７チで得た。
ｔ−８０００ｋｇ／、２．４０℃で２０時間反応させた
。反応物は過剰の二硫化炭素を留去したのち減圧蒸留に
より４−メチル−１，３−ジチオラン−２−チオンを収
率９７チで得た。
ＩＲ；１０７６ｃＩＬ、１０５０ｃＩＩＬ 、１０３３
（！ＷＥ−’ＣＩ−ＭＳによるＱＭ ； １５１Ｎ
ＭＲ： １．６４ （（Ｌ、 ３Ｈ１ＣＨｓ） 、３．
５５〜３．８５（（Ｌ。
（！ＷＥ−’ＣＩ−ＭＳによるＱＭ ； １５１Ｎ
ＭＲ： １．６４ （（Ｌ、 ３Ｈ１ＣＨｓ） 、３．
５５〜３．８５（（Ｌ。
２Ｈ，ＣＨ，のＩＨ）、３．９５〜４．２０（（１、ｔ
Ｈ。
Ｈ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・（１） （式中Ｒ＾１はアルキル基、アリール基、又は水素原子
であり、Ｒ＾２、Ｒ＾３はアルキル基又は水素原子を表
わす。） で示されるチイランと二硫化炭素とを塩基の存在下、高
圧をかけて反応させることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、及びＲ＾３は前記と同じ意味を
持つ。） で示される１，３ジチオラン−２−チオン誘導体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4936686A JPS62207268A (ja) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | １，３−ジチオラン−２−チオン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4936686A JPS62207268A (ja) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | １，３−ジチオラン−２−チオン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62207268A true JPS62207268A (ja) | 1987-09-11 |
| JPH0130832B2 JPH0130832B2 (ja) | 1989-06-22 |
Family
ID=12829018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4936686A Granted JPS62207268A (ja) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | １，３−ジチオラン−２−チオン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62207268A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100832128B1 (ko) | 2007-04-20 | 2008-05-27 | 경희대학교 산학협력단 | 알킬렌트리티오카보네이트의 제조방법 |
| JP2008518081A (ja) * | 2004-10-26 | 2008-05-29 | ケムチュア コーポレイション | 潤滑剤及び燃料用の１，３−ジチオラン−２−チオン添加剤 |
| KR100898319B1 (ko) | 2007-05-29 | 2009-05-20 | 경희대학교 산학협력단 | 이미다졸륨 할로겐화합물을 이용한알킬렌트리티오카보네이트의 제조방법 |
| JP2012214386A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Wako Pure Chem Ind Ltd | 環状トリチオカーボネートの製造方法 |
-
1986
- 1986-03-06 JP JP4936686A patent/JPS62207268A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008518081A (ja) * | 2004-10-26 | 2008-05-29 | ケムチュア コーポレイション | 潤滑剤及び燃料用の１，３−ジチオラン−２−チオン添加剤 |
| KR100832128B1 (ko) | 2007-04-20 | 2008-05-27 | 경희대학교 산학협력단 | 알킬렌트리티오카보네이트의 제조방법 |
| KR100898319B1 (ko) | 2007-05-29 | 2009-05-20 | 경희대학교 산학협력단 | 이미다졸륨 할로겐화합물을 이용한알킬렌트리티오카보네이트의 제조방법 |
| JP2012214386A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Wako Pure Chem Ind Ltd | 環状トリチオカーボネートの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0130832B2 (ja) | 1989-06-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |