JPS62207275A - 2−アシルジヒドロピロロピロ−ル類およびその製造法 - Google Patents

2−アシルジヒドロピロロピロ−ル類およびその製造法

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JPS62207275A
JPS62207275A JP5094386A JP5094386A JPS62207275A JP S62207275 A JPS62207275 A JP S62207275A JP 5094386 A JP5094386 A JP 5094386A JP 5094386 A JP5094386 A JP 5094386A JP S62207275 A JPS62207275 A JP S62207275A
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JP
Japan
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lower alkyl
group
compound
formula
acid
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Pending
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JP5094386A
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Toshio Mukai
向井 利夫
Tsutomu Kumagai
勉 熊谷
Shoji Tanaka
田中 彰治
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は一般式(1) (式中、R1は水素原子、低級アルキル基もしくは低級
アルコキシカルボニル基を、R3は水素、低級アルキル
基、アラルキル基もしくはアリール基を、R1は水素、
低級アルキルもしくはトリアルキルシリル基を表わす。
)で示される2−アシルジヒドロピロロピロール類およ
びその製造法に関する。
〈従来の技術〉 ジヒドロピロロピロール類については2−位に置換基の
ないものが数種知られている。例え1、(Angew、
 Chem、 1nternat、 Edit、、 1
4. 847(1975)、Tetrahedron 
Lett、、  24. 2275(1988)、Te
trahedron  Lett、、25.5669(
1984)、Chem、 Lett、 198 L 1
809〈発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら2−位に置換基を有するジヒドロピロロピ
ロール類については全く知られていない。
く問題点を解決するための手段〉 本発明者らは2−位に置換基を有するジヒドロピロロピ
ロール類を製造すべく鋭怠検肘を重ねた結果、特定のジ
ヒドロピロロピロール系化合物にアシル化剤を作用させ
ることにより、2−位のみが選択的にアシル化を受け、
対応するモノアシル体が容易にかつ高収率で得られるこ
とを見い出すとともに、種々の検討を加え本発明を完成
した。
すなわち本発明は (1)一般式(1) (式中、R1は水素原子、低級アルキル基もしくは低級
アルコキシカルボニル基を、R1は水素原子、低級アル
キル基、アラルキル基もしくはアリール基を、Rsは水
素原子、低級アルキルもしくはトリアルキルシリル基を
表わす。) で示される2−アシルジヒドロピロロピロール類および
、 (2)一般式(1) (式中、R1,R,は前記と同じ意味を表わす。) (式中、R1e R,I R11は前記と同じ意味を表
わす。) で示される2−アシルジヒドロピロロピロール類の製造
法を提供するものである。
本発明の対象化合物は上記一般式(1)で示される2−
アシルジヒドロピロロピロール類であるがR1,R,、
R,における低級アルキル基としては例えば、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチルなどの炭素数1〜8の低級アルキル基が
挙げられる。R1における低級アルコキシカルボニル基
としては例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、t
−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、ヘキソ
キシカルボニル、ヘプトキシカルボニル、オクトキシカ
ルボニルなどの炭素数2〜9の低級アルコキシカルボニ
ル基が挙げられる。
R8におけるアラルキル基としてはベンジル、トリルメ
チル、アニシルメチル、クロロフェニルメチル、フェニ
ルエチル、フェニルプロピルなどが挙げられ、全炭素数
は通常7〜12である。またアリール基としてはフェニ
ル、トリル、アニリル、クロロフェニル、ナフチルなど
であり、全炭素数は通常6〜11である。
またR3におけるトリアルキルシリル基としてはトリメ
チルシリル、トリエチルシリル、トリプロピルシリルな
どが挙げられ、含有炭素数は通常8〜12である。
本発明の対象である一般式(I)で示される2−アシル
ジヒドロピロロピロール類は医薬、農薬あるいはその中
間機料、もしくは電気電子材料用原料となり得るもので
あり、前記一般式(1)で示されるジヒドロピロロピロ
ール類をアシル化剤でアシル化することにより高収率で
製造することができる。
かかる方法によればアシル化が位置選択的に窒素原子の
隣接炭素とに起り、しかもモノアシル体をのみが選択的
に得られる。
アシル化剤としてはいわゆる芳香族化合物に対する親電
子的アシル化剤が用いられる。
例えば、H,O,House著1”Modern 5y
ntheticReaction、 2nd Ed、 
J 797〜816頁、(W、A。
Benjamin刊)に記載されているような薬剤が挙
げられ、Wilameier−Haack法として知ら
れているホルt /Ll化剤。Fr1edel −Cr
afts法として知られているアシル化剤が特に有効で
ある。
W ilsmeier−Haack法におけるホルミル
化剤はN、N−ジ置換ホルムア主ドとオキシ塩゛化リン
の等モル反応生成物を用いるものであるが、ジヒドロピ
ロロピロール類(1)に対し通常、等モル以上が用いら
れる。溶媒としては通常ハロゲン化炭化水素例えば、塩
化エチレン、塩化メチレン等が用いられる。この場合の
反応温度は通常0℃から溶媒の沸点までの温度が採用さ
れ、また反応は通常6分〜24時間で完結する。反応に
より生じた2−位のジ置換ア宅ノクロロメチル基は通常
、酢酸ナトリウムなどを加えて加水分解することにより
ホルミル基に変換される。
またFr1edel−Crafts法におけるアシル化
剤としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、ペンタン酸、ヘ
キサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸などの低
級アルカンカルボン酸、フェニル酢酸、トリル酢酸、ア
ニシル酢酸、クロロフェニル酢酸、フェニルプロピオン
酸、フェニル酪酸などのアリールアルカンカルボン酸、
安息香酸、メチル安息香酸、メトキシ安息香酸、クロル
安息香酸、ナフトエ酸などのアリーンカルボン酸および
これらカルボン酸のハロゲン化物、酸無水物が挙げられ
、通常、無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛、四塩化綿、
四塩化チタンなどのルイス酸あるいはリン酸、ボリリ4
などのプロトン酸と共に用に対し通常、等モル以上使用
され、溶媒としては、クロロベンゼン、ニトロメタン、
二硫化炭素等を用いることができる。反応温度は通常0
℃から使用した溶媒の沸点迄の間から選定され、反応は
通常80分〜24時間で完結する。得られた反応混合物
は通常、塩酸、硫酸などの鉱酸の存在下で加水分解する
ことにより目的物に誘導される。
アシル化された生成物は通常の手段、例えば有機溶媒に
よる抽出、蒸留、昇華、再結晶あるいは各種クロマトグ
ラフィーによって単離精製することができる。
〈発明の効果〉 本発明の化合物は、例えば農薬、医薬あるいはその中間
原料として有用であり、電気電子材料用の原料ともなり
得る。
また本発明の方法によればモノアシル体が選択的にしか
も高収率で得られる。
〈実施例〉 次に実施例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本
発明は何らこれらに限定されるものではない。
実施例1 (8,6−ジーt−ブチル−2−ホルミルジヒドロピロ
ロ(8,2−b)ピロール)塩化エチレン10s/中に
、ジメチルホルムアミド1768ダ(0,248ミリモ
ル)、オキシ塩化リン87.・8 Wg(0,248t
リモル)および8.6−ジーt−ブチル−ジヒドロピロ
ロ(8,2−b)ピo−ルl O,01lJF(0,0
45疋すモル)を加え、混合物を窒素雰囲気下、室温で
2分間撹拌した。
得られた溶液に40%酢酸ナトリウム水溶液10Mtを
加え、15分間加熱還流した。
反応混合物を冷却後、塩化エチレン層を分液した。水層
をクロロホルムで抽出しく10m1×2回)、塩化エチ
レン層とクロロホルム層を混合後、水洗、乾燥した後、
減圧濃縮すると茶褐色の結晶12.211Iyが得られ
た。TLCを用いて単離精製して8.6−ジーt−ブチ
ル−2−ホルミルジヒドロピロロ(8,2−b〕ピロー
ル10.1jlF(収率90%)を得た。
pmr (CDC13)δI)pm:1.80(9H,
S)、1.58(9H,S)、6−78 (I Hld
 * J =8−8 Hz )、7.57(IH,NH
)、8.65(LH,NH)、9.90(IH,S) マス分析m/e : 246 (M+)実施例2 (8,6−ジーt−ブチル−1,4−ジメチル−2−ホ
ルミル−ジヒドロピロロ〔8゜2−b〕ピロール) 塩化エチレン10s/中に、ジメチルホルムアミド17
.8 W (0,248ミリモル)、オキシ塩化り:/
87.8’lF(0,248ミリモル)および8.6−
ジーt−ブチル−1,4−ジメチル−ジヒドロピロロ(
so 2−b)ピロー71710、0 ”F (0,0
407tリモル)を加え、混合物を窒素雰囲気下、15
分間加熱還流した。
得られた溶液に40%酢酸ナトリウム水溶液10耐を加
え、さらに16分間加熱還流した。
反応混合物を分液し、水層をクロロホルムで抽出した(
10gjX2回)。合一した有機層を水洗ついで乾燥後
、減圧濃縮すると茶褐色の結晶12.Olqが得られた
。シリカゲルカラムクロマト精製に付し、クロロホルム
で溶出させると黄色の結晶9.8 # (収率88%)
が得られた。
この結晶は8.6−ジーt−ブチル−1゜4−ジメチル
−2−ホルミルジヒドロピロロ(a、2−b)ピロール
であることが確認された。
pmr(CD(J3)δppm: 1.85 (9H,
S )、1.56(9H,S)、8.78(8H,S)
 、4.12(8H,S)、6.58(IH,S)、1
0.10(IH,S)。
マス分析m/e:274(M+) 実施例8 (8,6−ビス(トリメチルシリル)−1゜4−ジ(メ
トキシカルボニル)−2−ホルミル−ジヒドロピロロ(
8,2−b)ピロール)塩化エチレン10sZ中に、ジ
メチルホルムアミド80.61FC0,418tリモル
)、オキシ塩化リン46.1岬(0,418ミリモル)
および8.6−ビス(トリメチルシリル)−1。
4−ジ(メトキシカルボニル)−ジヒドロピoo(8,
2−b)ピo−ル25.5wg(0,0697iリモル
)を加え、窒素雰囲気下、室温で8.6時間撹拌した。
得られた溶液に40%酢酸ナトリウム水溶液10m1.
を加え、さらに20℃で48時間撹拌した。反応混合物
を分液し、水層はクロロホルムで抽出した(20111
/Xi回)。合一した有機層を水洗ついで乾燥後、減圧
濃縮して淡黄色の結晶25.0岬を得た。これをカラム
クロマトで精製して19.1lf(収率72%)の8.
6−ビス(トリメチルシリル)−1,4−ジ(メトキシ
カルボニル)−2−ホルミルジヒドロピロロ(8,2−
b)ピロールの結晶を得た。
pmr (CD(J、 )  δ1)I)m:0.82
(9H,S)、0.40(9H,S)、8.97(8)
(、S)、4.QO(8H,S)、7.42(IH,S
)、10.05(IH,S)マス分析 m/e:894
(M”) 実施例4 (1,4−ジ(メトキシカルボニル)−2−ホルミルジ
ヒドロピロロ(8,2−b)ピロール) 塩化エチレン(10sZ)に、ジメチルホルムアミド2
54μl (8,28ミリモル)およびオキシ塩化リン
802μl(8,28tリモル)を溶解させ、混合物を
窒素雰囲気下、15分室温で撹拌した。
得られた溶液を、1.4−ジ(メトキシカルボニル)−
1,4−ジヒドロピロロ〔8゜2−b〕ピロール120
W(0,541ミリモル)の塩化エチレン溶液(20t
tl )に30分かけて滴下した後、室温でさらに1時
間撹拌した。
これに酢酸ナトリウム15gの水溶液(801111)
を加えた後、混合物を1時間加熱還流させた。
放冷後、有機層を分液した後、水層はクロロホルムで抽
出した(80g/X2回)。得られた有機層および抽出
物を飽和食塩水で洗浄後、合わせて乾燥し、次で減圧濃
縮して茶褐色の結晶、mp、127〜iao”cを得た
。これをカラムクロマト(シリカゲル、酢酸エチル)で
精製することによりmp180〜181°Cの結晶を得
た。さらにアセトン/ヘキサンより再結晶させてm91
41〜142℃の淡赤色結晶1゜4−ジ(メトキシカル
ボニル)−2−ホルミルジヒドロピロロ(3,2−b)
ピロール1281g(収率91%)を得た。
元素分析値(CIOHIIIN!05として)HN 実測値(%)  52.98  B、98 11.19
計算値(%)  52.80 4.02 11.19マ
ス分析m/e:250(M+100%)pm r (C
DC13)δppm: 4.00 (8H,S )、4
.08(8H,S)、6.48 (IH,d−d、)J
=a、g、 0.8Hz )、7.80(IH。
d、J=0.8Hz)、7.48(1)1.d。
J=8.8Hz)、10.87(IH,S)実施例 5 (2−アセチル−3,6−ジーt−ブチル−ジヒドロピ
ロロ(3,2−b)ピロール)無水酢酸10と酢酸1m
lよりなる混合液に3゜6−ジーt−ブチル−ジヒドロ
ピロロ(3,2−b〕ビロール72.3■(0,332
ミリモル)を加え、窒素雰囲気下に6時間、加熱還流し
た。
反応混合物を減圧濃縮し、得られた残留物をシリカゲル
カラムクロマトで精製した。酢酸エチル−ヘキサン混合
溶媒で溶出された成分は2種類あり、1−アセチル体(
収率10%)が先に溶出したのち、2−アセチル−3,
6−ジーt−ブチル−ジヒドロピロロ(3,2−b)ピ
ロールが溶出した。
2−アセチル体の収量は51.7■(収率60%)であ
り、ヘキサンより再結晶させてmp、151〜152℃
の淡紫色の結晶を得た。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は水素原子、低級アルキル基もしくは低
    級アルコキシカルボニル基を、R_2は水素原子、低級
    アルキル基、アラルキル 基もしくはアリール基を、R_3は水素原子、低級アル
    キルもしくはトリアルキルシリル 基を表わす。) で示される2−アシルジヒドロピロロピロール類。
  2. (2)一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1は水素原子、低級アルキル基もしくは低
    級アルコキシカルボニル基を、R_3は水素原子、低級
    アルキル基もしくはトリ アルキルシリル基を表わす。) で示されるジヒドロピロロピロール系化合物をアシル化
    剤でアシル化することを特徴とする一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1、R_3は前記と同じ意味を、R_2は
    水素原子、低級アルキル基、アラルキル 基もしくはアリール基を表わす。) で示される2−アシルジヒドロピロロピロール類の製造
    法。
JP5094386A 1986-03-07 1986-03-07 2−アシルジヒドロピロロピロ−ル類およびその製造法 Pending JPS62207275A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015536944A (ja) * 2012-11-05 2015-12-24 インスト ケミー オーガニッチネイ ポルスキエイ アカデミー ナウク 強蛍光発光性の複素環化合物及びその製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015536944A (ja) * 2012-11-05 2015-12-24 インスト ケミー オーガニッチネイ ポルスキエイ アカデミー ナウク 強蛍光発光性の複素環化合物及びその製造方法
US9988385B2 (en) 2012-11-05 2018-06-05 Instytut Chemii Organicznej Polskiej Akademii Nauk Strongly fluorescent heterocycles and a method for their synthesis

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