JPS6220840Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6220840Y2 JPS6220840Y2 JP1980100790U JP10079080U JPS6220840Y2 JP S6220840 Y2 JPS6220840 Y2 JP S6220840Y2 JP 1980100790 U JP1980100790 U JP 1980100790U JP 10079080 U JP10079080 U JP 10079080U JP S6220840 Y2 JPS6220840 Y2 JP S6220840Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- roller
- application roller
- developer
- groove
- application
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Wet Developing In Electrophotography (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、ジアゾタイプ湿式複写機の一連のロ
ーラ群から成る現像装置に関する。
ーラ群から成る現像装置に関する。
一般にジアゾタイプ湿式複写機においては、現
像液が付着したゴム製の塗布ローラと、これに接
触した状態で回転する加圧ローラとの間を露光済
みの感光紙が通過することによつて、感光紙の未
感光部分に残るジアゾニウム塩がカツプリング成
分と反応してジアゾ色素をつくり発色し、画像が
形成される所謂現像が行なわれる。前記塗布ロー
ラと加圧ローラを含む一連のローラ群から成るジ
アゾタイプ湿式複写機の現像装置は、前記塗布ロ
ーラに対して現像皿内から現像液を取り出す供給
ローラが現像液を供給し、塗布ローラの表面に塗
布された現像液が感光紙の感光面に塗布されるプ
ロセスを有する。
像液が付着したゴム製の塗布ローラと、これに接
触した状態で回転する加圧ローラとの間を露光済
みの感光紙が通過することによつて、感光紙の未
感光部分に残るジアゾニウム塩がカツプリング成
分と反応してジアゾ色素をつくり発色し、画像が
形成される所謂現像が行なわれる。前記塗布ロー
ラと加圧ローラを含む一連のローラ群から成るジ
アゾタイプ湿式複写機の現像装置は、前記塗布ロ
ーラに対して現像皿内から現像液を取り出す供給
ローラが現像液を供給し、塗布ローラの表面に塗
布された現像液が感光紙の感光面に塗布されるプ
ロセスを有する。
従つて、ジアゾタイプ湿式複写機において、鮮
明なコピイを得るには、原稿の濃度に応じた適正
露光と、露光済みの感光紙の感光面への適正で均
一な現像液の塗布が要求されることは周知のとお
りである。しかしながら、供給ローラとして通常
のゴムローラを用いたものでは、その表面の平滑
度にもよるが、一般に塗布量の速度依存性が高く
低速度域で塗布量が減少して現像不足となり、逆
に高速度域では塗布量が過剰となり、触感性、コ
ピーカール、変退色の問題が生じていた。詳しく
は、コピーが触感的に乾燥状態であるためには、
A4サイズ当りの現像液塗布量を約200mg以下に制
限する必要があり、できれば150mg以下がのぞま
しい。又現像不足が生じないための下限は90mg程
度である。そして多数本ローラより成る現像装置
は、前記のような速度依存性のために、極く限ら
れた狭い変速域を持つ機種にのみ使用されてい
た。
明なコピイを得るには、原稿の濃度に応じた適正
露光と、露光済みの感光紙の感光面への適正で均
一な現像液の塗布が要求されることは周知のとお
りである。しかしながら、供給ローラとして通常
のゴムローラを用いたものでは、その表面の平滑
度にもよるが、一般に塗布量の速度依存性が高く
低速度域で塗布量が減少して現像不足となり、逆
に高速度域では塗布量が過剰となり、触感性、コ
ピーカール、変退色の問題が生じていた。詳しく
は、コピーが触感的に乾燥状態であるためには、
A4サイズ当りの現像液塗布量を約200mg以下に制
限する必要があり、できれば150mg以下がのぞま
しい。又現像不足が生じないための下限は90mg程
度である。そして多数本ローラより成る現像装置
は、前記のような速度依存性のために、極く限ら
れた狭い変速域を持つ機種にのみ使用されてい
た。
そこで多数本ローラ現像装置であつても、低速
から高速まで安定した塗布量を得る手段は、既に
いくつか提案されている。
から高速まで安定した塗布量を得る手段は、既に
いくつか提案されている。
すなわち、供給ローラまたは塗布ローラの表面
を所定の平滑度に仕上げ、このローラ表面に対し
て常時現像液をぬぐうワイパーを圧接させる手段
が、特願昭42−80963特公昭44−24998号公報に開
示されている。この手段によれば、より広い速度
範囲での使用が可能であるが、装置が複雑であ
り、しかも供給ローラまたは塗布ローラの表面を
所定の平滑度に納まるように種々の深さと寸法を
有する不規則な微小凹入穴を形成することが困難
で、コストが高く信頼性も低かつた。
を所定の平滑度に仕上げ、このローラ表面に対し
て常時現像液をぬぐうワイパーを圧接させる手段
が、特願昭42−80963特公昭44−24998号公報に開
示されている。この手段によれば、より広い速度
範囲での使用が可能であるが、装置が複雑であ
り、しかも供給ローラまたは塗布ローラの表面を
所定の平滑度に納まるように種々の深さと寸法を
有する不規則な微小凹入穴を形成することが困難
で、コストが高く信頼性も低かつた。
また、ワイパーを用いなくても、表面に螺旋溝
を刻設した加工ローラと、表面に平目ローレツト
状または螺旋状の微細溝を刻設した塗布ローラと
の組合せで塗布量を制御する手段が、特願昭52−
32377特開昭53−117424号公報に開示されてい
る。しかしながら、この手段の最大の欠点は、ロ
ーラ表面の溝加工にあり深さ0.02〜0.05、ピツチ
0.2の微細溝をローラ表面に均一に刻設すること
は通常の加工では不可能であり量産的でない。
を刻設した加工ローラと、表面に平目ローレツト
状または螺旋状の微細溝を刻設した塗布ローラと
の組合せで塗布量を制御する手段が、特願昭52−
32377特開昭53−117424号公報に開示されてい
る。しかしながら、この手段の最大の欠点は、ロ
ーラ表面の溝加工にあり深さ0.02〜0.05、ピツチ
0.2の微細溝をローラ表面に均一に刻設すること
は通常の加工では不可能であり量産的でない。
本考案の目的は、上記した従来技術の欠点を解
決して、量産容易で速度依存性の少ない、信頼性
の優れたジアゾタイプ湿式複写機の現像装置を提
供することにある。
決して、量産容易で速度依存性の少ない、信頼性
の優れたジアゾタイプ湿式複写機の現像装置を提
供することにある。
かかる目的は、露光済みの感光紙の表面に微量
の現像液を塗布するジアゾタイプ複写紙の現像装
置であつて、感光紙の表面に現像液を塗布するた
めの非多孔質・弾性体から成る表面平滑な塗布ロ
ーラと、この塗布ローラと接して前記感光紙を塗
布ローラに対し所定の圧力で押し付ける加圧ロー
ラと、前記塗布ローラと接して現像液を塗布ロー
ラに供給し、かつ塗布ローラとの接触線上で所定
の圧力のもとに、塗布ローラ上の液量を適正量に
制御するための供給ローラとを有する現像装置に
おいて、供給ローラが、その表面に深さ0.01〜
0.05mm、ピツチ0.1〜1.0mmの周溝または螺旋状溝
を刻設し、これらの溝の軸方向における幅を前記
深さより大きくした金属ローラであることを特徴
とするジアゾタイプ湿式複写機によつて達成され
る。
の現像液を塗布するジアゾタイプ複写紙の現像装
置であつて、感光紙の表面に現像液を塗布するた
めの非多孔質・弾性体から成る表面平滑な塗布ロ
ーラと、この塗布ローラと接して前記感光紙を塗
布ローラに対し所定の圧力で押し付ける加圧ロー
ラと、前記塗布ローラと接して現像液を塗布ロー
ラに供給し、かつ塗布ローラとの接触線上で所定
の圧力のもとに、塗布ローラ上の液量を適正量に
制御するための供給ローラとを有する現像装置に
おいて、供給ローラが、その表面に深さ0.01〜
0.05mm、ピツチ0.1〜1.0mmの周溝または螺旋状溝
を刻設し、これらの溝の軸方向における幅を前記
深さより大きくした金属ローラであることを特徴
とするジアゾタイプ湿式複写機によつて達成され
る。
そして、本考案によれば、供給ローラの表面に
刻設した周溝また螺旋状溝の幅を深さより大きく
したので、ピツチは深さに比し大きく設定するこ
とができ転造加工を可能ならしめ、従つて量産が
容易となり精度もよく信頼性が向上する。しかも
幅が広いためピツチムラもなく、一方、塗布ロー
ラの表面は平滑・非多孔質であるから速度依存性
もない。
刻設した周溝また螺旋状溝の幅を深さより大きく
したので、ピツチは深さに比し大きく設定するこ
とができ転造加工を可能ならしめ、従つて量産が
容易となり精度もよく信頼性が向上する。しかも
幅が広いためピツチムラもなく、一方、塗布ロー
ラの表面は平滑・非多孔質であるから速度依存性
もない。
以下、図示の実施例につき本考案を詳細に説明
する。第1図は、本考案の一実施例を示した側断
面図である。同図において、符号1は現像液2を
貯溜する現像液容器を示している。この容器1に
は、図示されない現像液タンクから、常時一定レ
ベルの現像液が供給されるようになつていて、紙
面に対して垂直方向に延びて配設されている。前
記現像液容器1内には、一対のローラ支持板3
(一方のみ示す)の下端が下垂進入している。こ
の支持板3には、その周面の一部を前記現像液2
に浸漬させた供給ローラ4が回転自在に支持され
ている。供給ローラ4の上位には、塗布ローラ5
及び加圧ローラ6が設置されている。
する。第1図は、本考案の一実施例を示した側断
面図である。同図において、符号1は現像液2を
貯溜する現像液容器を示している。この容器1に
は、図示されない現像液タンクから、常時一定レ
ベルの現像液が供給されるようになつていて、紙
面に対して垂直方向に延びて配設されている。前
記現像液容器1内には、一対のローラ支持板3
(一方のみ示す)の下端が下垂進入している。こ
の支持板3には、その周面の一部を前記現像液2
に浸漬させた供給ローラ4が回転自在に支持され
ている。供給ローラ4の上位には、塗布ローラ5
及び加圧ローラ6が設置されている。
塗布ローラ5は、その軸5aを前記支持板3に
設けられた長孔3aに遊動自在に支持されてい
る。加圧ローラ6も同様に長孔3aに支持されて
いる。そして前記各ローラ4〜6は、それぞれの
軸心が一本の直線上に位置するように配設されて
いる。また、加圧ローラ6にはバツクアツプロー
ラ7が当接している。
設けられた長孔3aに遊動自在に支持されてい
る。加圧ローラ6も同様に長孔3aに支持されて
いる。そして前記各ローラ4〜6は、それぞれの
軸心が一本の直線上に位置するように配設されて
いる。また、加圧ローラ6にはバツクアツプロー
ラ7が当接している。
バツクアツプローラ7は、その軸7aを一対の
支持腕8(一方のみ示す)に回転自在に支持され
ている。この支持腕8は、前記ローラ支持板3に
枢支された回動軸9に固着されている。回動軸9
の一端には、アーム10が固着されている。この
アーム10には、現像装置の作動中、示矢方向に
Pなる圧力が適宜の手段によつて加えられるよう
になつている。この圧力Pによつて、バツクアツ
プローラ7、加圧ローラ6、塗布ローラ5及び供
給ローラ4間の各接触部に適宜の圧力が加えられ
る。
支持腕8(一方のみ示す)に回転自在に支持され
ている。この支持腕8は、前記ローラ支持板3に
枢支された回動軸9に固着されている。回動軸9
の一端には、アーム10が固着されている。この
アーム10には、現像装置の作動中、示矢方向に
Pなる圧力が適宜の手段によつて加えられるよう
になつている。この圧力Pによつて、バツクアツ
プローラ7、加圧ローラ6、塗布ローラ5及び供
給ローラ4間の各接触部に適宜の圧力が加えられ
る。
供給ローラ4は、後記するように本考案の特徴
をなす金属ローラであり、塗布ローラ5は非多孔
質・弾性体から成る表面平滑(例えば表面アラサ
1.5S〜25S)な、例えばゴムローラである。塗布
ローラ5が図示されない駆動源によつて回転させ
られると、これに圧接する各ローラもそれぞれ示
矢方向へ回転し、供給ローラ4によつて汲み上げ
られた現像液2は、塗布ローラ5との接触部で微
量に調整されて、塗布ローラ5表面に均一微量に
延展され、感光紙Sの感光面へ塗布される。
をなす金属ローラであり、塗布ローラ5は非多孔
質・弾性体から成る表面平滑(例えば表面アラサ
1.5S〜25S)な、例えばゴムローラである。塗布
ローラ5が図示されない駆動源によつて回転させ
られると、これに圧接する各ローラもそれぞれ示
矢方向へ回転し、供給ローラ4によつて汲み上げ
られた現像液2は、塗布ローラ5との接触部で微
量に調整されて、塗布ローラ5表面に均一微量に
延展され、感光紙Sの感光面へ塗布される。
装置が作動を停止すると、前記アーム10への
圧力Pが解除されて各ローラ間の圧接力も解除さ
れる。
圧力Pが解除されて各ローラ間の圧接力も解除さ
れる。
各ローラの長さは、第2図に示されるように、
加圧ローラ6は塗布ローラ5より短かく、塗布ロ
ーラ5は供給ローラ4よりも短かく形成されてい
る。
加圧ローラ6は塗布ローラ5より短かく、塗布ロ
ーラ5は供給ローラ4よりも短かく形成されてい
る。
塗布ローラ5の軸5aには、シール部材11が
その孔11aを遊嵌させて支持されている。この
シール部材11は、低摩擦係数で、かつ現像液に
対して撥液性を有する材料で形成される。シール
部材11には、前記孔11aの外に凹部11bが
形成されている。再び第1図において、凹部11
bの円弧面の長さは、供給ローラ4と塗布ローラ
5とで形成される断面形状楔形の空間A、Bにお
ける液溜り2aがローラ端面がわへ流れるのを妨
げるに充分なようになつている。そして、供給ロ
ーラ4と塗布ローラ5が圧接させられたとき、前
記シール部材11は、両ローラの接触点Cの上流
及び下流における供給ローラ4の周面部に当接す
ることになる。
その孔11aを遊嵌させて支持されている。この
シール部材11は、低摩擦係数で、かつ現像液に
対して撥液性を有する材料で形成される。シール
部材11には、前記孔11aの外に凹部11bが
形成されている。再び第1図において、凹部11
bの円弧面の長さは、供給ローラ4と塗布ローラ
5とで形成される断面形状楔形の空間A、Bにお
ける液溜り2aがローラ端面がわへ流れるのを妨
げるに充分なようになつている。そして、供給ロ
ーラ4と塗布ローラ5が圧接させられたとき、前
記シール部材11は、両ローラの接触点Cの上流
及び下流における供給ローラ4の周面部に当接す
ることになる。
従つて、各ローラが互いに圧接させられて回転
すると、供給ローラ4が現像液2を汲み上げる。
汲み上げられた現像液2は、塗布ローラ5によつ
て後記するように適量に絞られて該ローラ5の表
面へ供給されたのち、塗布ローラ5と加圧ローラ
6との間に送り込まれた露光済みの感光紙Sへ塗
布される。このとき、供給ローラ4で汲み上げら
れて塗布ローラ5で絞られる現像液2は液溜り2
aを形成するが、この液溜り2aは、ローラの軸
方向への移動(図中左方への移動)をシール部材
11によつて妨げられて、現像液の裏まわりが防
止できる。
すると、供給ローラ4が現像液2を汲み上げる。
汲み上げられた現像液2は、塗布ローラ5によつ
て後記するように適量に絞られて該ローラ5の表
面へ供給されたのち、塗布ローラ5と加圧ローラ
6との間に送り込まれた露光済みの感光紙Sへ塗
布される。このとき、供給ローラ4で汲み上げら
れて塗布ローラ5で絞られる現像液2は液溜り2
aを形成するが、この液溜り2aは、ローラの軸
方向への移動(図中左方への移動)をシール部材
11によつて妨げられて、現像液の裏まわりが防
止できる。
さて、前記現像装置における供給ローラの構成
と作用について説明する。
と作用について説明する。
供給ローラ4は、耐薬品性のステンレス鋼のよ
うな金属で作られ表面仕上は6S以下とする。供
給ローラ4の表面には、深さdが0.01〜0.05mm
で、ピツチ0.1〜1.0mmの周溝もしくは1条又は多
条の螺旋状溝を刻設してあり、第3図によく示さ
れるように、これらの溝4aの肩部に丸味をつけ
ることにより、溝巾Wを前記深さdより広くとつ
てある。例えば、溝の形状が105゜のV字形であ
つて、d=0.03mm、w=0.15mm、肩部の丸味R=
0.07、溝定幅Wa=0.01mm、溝ピツチ0.5mmの寸法
で、第4図に示すように、横軸に供給ローラの周
速度をとり、縦軸にA4サイズ当りの付着量をと
つて、実験したところ、従来装置(曲線b)に比
し、速度による影響を極めて少なく(曲線a)す
ることができた。このような形状は、転造加工に
よつて容易に得ることができる。第5図及び第6
図に、供給ローラ4の表面に刻設した溝の変形例
を示してあり、第5図に示す溝は、前記例と溝底
に平面部がないところだけ異なつており、第6図
に示す溝は、溝底の幅がかなり広いU字形断面を
有している。第5図または第6図に示す溝も、転
造加工で容易にでき得るものである。
うな金属で作られ表面仕上は6S以下とする。供
給ローラ4の表面には、深さdが0.01〜0.05mm
で、ピツチ0.1〜1.0mmの周溝もしくは1条又は多
条の螺旋状溝を刻設してあり、第3図によく示さ
れるように、これらの溝4aの肩部に丸味をつけ
ることにより、溝巾Wを前記深さdより広くとつ
てある。例えば、溝の形状が105゜のV字形であ
つて、d=0.03mm、w=0.15mm、肩部の丸味R=
0.07、溝定幅Wa=0.01mm、溝ピツチ0.5mmの寸法
で、第4図に示すように、横軸に供給ローラの周
速度をとり、縦軸にA4サイズ当りの付着量をと
つて、実験したところ、従来装置(曲線b)に比
し、速度による影響を極めて少なく(曲線a)す
ることができた。このような形状は、転造加工に
よつて容易に得ることができる。第5図及び第6
図に、供給ローラ4の表面に刻設した溝の変形例
を示してあり、第5図に示す溝は、前記例と溝底
に平面部がないところだけ異なつており、第6図
に示す溝は、溝底の幅がかなり広いU字形断面を
有している。第5図または第6図に示す溝も、転
造加工で容易にでき得るものである。
従つて、溝巾が広ためにピツチが荒くとも、ピ
ツチむらが解消する。供給ローラ4への現像液付
着量は、ほぼ溝の断面積によつて決定されるの
で、ローラ軸線に沿つた単位長当りの溝断面積の
合計はほぼ決まつている。すなわち、溝ピツチを
大きくとれば断面積の大きな溝になりピツチを小
さくすれば小さな断面積の溝が形成される。溝加
工上の観点からすれば、転造加工といえども小さ
な溝加工には限界があり大きな溝ほど加工は容易
である。塗布ローラ5と供給ローラ4間で調整制
御された現像液が塗布ローラ5上に残溜して感光
紙Sの現像に寄与するのであるが、塗布ローラ5
上に残る液の分布は均一でなく、あたかも供給ロ
ーラ4の溝内の現像液が塗布ローラ5上に転写さ
れたように溝ピッチと同一ピツチの線状となつて
付着するので現像されたコピーには細かなピツチ
むらが生ずる。このピツチむらはピツチが細かけ
れば現像液の延展性により自然消失するがピツチ
が荒いと時間が経つても残存し画質を低下させる
ことになる。本考案は、溝の深さdに比して溝の
肩部にRをつけることにより溝巾Wを広くしたも
のである。
ツチむらが解消する。供給ローラ4への現像液付
着量は、ほぼ溝の断面積によつて決定されるの
で、ローラ軸線に沿つた単位長当りの溝断面積の
合計はほぼ決まつている。すなわち、溝ピツチを
大きくとれば断面積の大きな溝になりピツチを小
さくすれば小さな断面積の溝が形成される。溝加
工上の観点からすれば、転造加工といえども小さ
な溝加工には限界があり大きな溝ほど加工は容易
である。塗布ローラ5と供給ローラ4間で調整制
御された現像液が塗布ローラ5上に残溜して感光
紙Sの現像に寄与するのであるが、塗布ローラ5
上に残る液の分布は均一でなく、あたかも供給ロ
ーラ4の溝内の現像液が塗布ローラ5上に転写さ
れたように溝ピッチと同一ピツチの線状となつて
付着するので現像されたコピーには細かなピツチ
むらが生ずる。このピツチむらはピツチが細かけ
れば現像液の延展性により自然消失するがピツチ
が荒いと時間が経つても残存し画質を低下させる
ことになる。本考案は、溝の深さdに比して溝の
肩部にRをつけることにより溝巾Wを広くしたも
のである。
第1図は本考案によるジアゾタイプ湿式複写機
の現像装置の一例を示す側断面図、第2図は前記
例の一部破截正面図、第3図は前記例に示す供給
ローラの溝を示す一部拡大断面図、第4図は第3
図に示した供給ローラを用いた場合の速度依存性
のテスト結果を示すグラフ、第5図及び第6図は
供給ローラの溝の変形例を示す一部拡大断面図、
第7図は溝の肩部のRが小さいときに生ずる転造
加工時の盛り上りを示す断面図である。 4……供給ローラ、5……塗布ローラ、6……
加圧ローラ、4a……溝、d……溝の深さ、W…
…溝幅、R……溝の肩部の丸味。
の現像装置の一例を示す側断面図、第2図は前記
例の一部破截正面図、第3図は前記例に示す供給
ローラの溝を示す一部拡大断面図、第4図は第3
図に示した供給ローラを用いた場合の速度依存性
のテスト結果を示すグラフ、第5図及び第6図は
供給ローラの溝の変形例を示す一部拡大断面図、
第7図は溝の肩部のRが小さいときに生ずる転造
加工時の盛り上りを示す断面図である。 4……供給ローラ、5……塗布ローラ、6……
加圧ローラ、4a……溝、d……溝の深さ、W…
…溝幅、R……溝の肩部の丸味。
Claims (1)
- 露光済みの感光紙の表面に微量の現像液を塗布
するジアゾタイプ複写機の現像装置であつて、感
光紙の表面に現像液を塗布するための非多孔質・
弾性体から成る表面平滑な塗布ローラと、この塗
布ローラと接して前記感光紙を塗布ローラに対し
所定の圧力で押し付ける加圧ローラと、前記塗布
ローラと接して現像液を塗布ローラに供給し、か
つ塗布ローラとの接触線上で所定の圧力のもとに
塗布ローラ上の液量を適正量に制御するための供
給ローラとを有する現像装置において、供給ロー
ラが、その表面に深さ0.01〜0.05mm、ピツチ0.1〜
1.0mmの周溝または螺旋状溝を刻設し、これらの
溝の軸方向における幅を前記深さより大きくした
金属ローラであることを特徴とするジアゾタイプ
湿式複写機の現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980100790U JPS6220840Y2 (ja) | 1980-07-17 | 1980-07-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980100790U JPS6220840Y2 (ja) | 1980-07-17 | 1980-07-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5725341U JPS5725341U (ja) | 1982-02-09 |
| JPS6220840Y2 true JPS6220840Y2 (ja) | 1987-05-27 |
Family
ID=29462337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1980100790U Expired JPS6220840Y2 (ja) | 1980-07-17 | 1980-07-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6220840Y2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62237594A (ja) * | 1986-04-09 | 1987-10-17 | サミー工業株式会社 | セレクタ− |
| JPH071182Y2 (ja) * | 1989-01-27 | 1995-01-18 | 株式会社オリンピア | メダルセレクター |
| US6205313B1 (en) * | 1999-11-23 | 2001-03-20 | Xerox Corporation | Toner charging system for atom imaging process |
| JP4581592B2 (ja) * | 2004-09-22 | 2010-11-17 | セイコーエプソン株式会社 | 液体現像装置及び画像形成装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL172373C (nl) * | 1972-05-26 | 1983-08-16 | Oce Van Der Grinten Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van diazotypkopieen. |
| JPS53117424A (en) * | 1977-03-24 | 1978-10-13 | Ricoh Co Ltd | Developing device for diazo type wet copier |
-
1980
- 1980-07-17 JP JP1980100790U patent/JPS6220840Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5725341U (ja) | 1982-02-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3626833A (en) | Liquid developing apparatus | |
| US3694071A (en) | Apparatus for prewetting photoelectrostatic offset masters | |
| JPS6220840Y2 (ja) | ||
| US4135475A (en) | Apparatus for applying liquid to sheetlike material | |
| JPS63137766A (ja) | 転写装置 | |
| US3995585A (en) | Liquid application-device | |
| US4130056A (en) | Lithographic moisture system and method | |
| JPS6227381B2 (ja) | ||
| JPS63172186A (ja) | 離型剤塗布ロ−ラ | |
| JPS60663B2 (ja) | ジアゾタイプ湿式複写機の現像装置 | |
| US4141314A (en) | Photocopying systems | |
| JPS6255134B2 (ja) | ||
| JPS5983182A (ja) | 定着装置 | |
| JPH05289528A (ja) | 湿式現像装置 | |
| JPS6231180Y2 (ja) | ||
| JPS6067980A (ja) | 定着装置 | |
| JPS5931701B2 (ja) | ジアゾタイプ湿式複写機の現像装置 | |
| JPS6220841Y2 (ja) | ||
| JPS6255133B2 (ja) | ||
| JPS6016928Y2 (ja) | ロ−ラ定着装置の離型剤塗布装置 | |
| JPH02293068A (ja) | 塗工装置 | |
| JPS58156976A (ja) | 定着用ゴムロ−ラ | |
| JPH0546042Y2 (ja) | ||
| JPS61240266A (ja) | 複写機等の定着装置 | |
| JPH0727155Y2 (ja) | オフセット印刷機 |