JPS6221012Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は常圧又は減圧雰囲気中で使用される半
導体製造装置に係り、主に気相成長装置、エツチ
ング装置、拡散装置等に使用される反応室内、外
のサセプタ間のウエーハ搬送装置に関する。

通常は、半導体製造装置に使用される反応室
内、外のサセプタ（ウエーハ載置台）間のウエー
ハ（半導体基板）搬送は傷、異物接触、塵埃等を
きらうため、人手により行つている。また自動化
されたウエーハ搬送装置としては真空チヤツク
によりウエーハを吸着、搬送する装置、ベルヌ
ーイの法則を利用してウエーハを吸着、搬送する
装置、ベルトによりウエーハを搬送する装置、
往復上下動フオークによりウエーハを保持、搬
送する装置等がある。しかしながらの装置はウ
エーハ表面に異物が接触するのを避けられない。
の装置は原理的に気体吹き付けのためウエーハ
に塵埃が付着する。，の装置は共に真空中で
使用できない。，の装置はサセプタの載置面
に大きな溝等が必要であるためウエーハ内の温度
分布が悪くなる等の欠点がある。

本考案は上記の欠点を解消した自動化の可能な
ウエーハ搬送装置を提供することを目的としたも
ので、以下図面についてその一実施例を説明す
る。

第１図は本考案装置の一実施例を示す斜視図、
第２図は第１図の−線矢視断面図を示し、ま
ずその構成を説明すると、１ａ，１ｂは平行に設
けられた２つの移動台で、２はこれらの移動台１
ａ，１ｂをガイドするガイド部である。３ａ，３
ｂは各移動台１ａ，１ｂにそれぞれ軸受４ａ，４
ｂによつて支承され、互に反対方向に回動せしめ
られるステンレス製の軸、５ａ，５ｂはこれらの
軸３ａ，３ｂに嵌挿され、該軸３ａ，３ｂと移動
台１ａ，１ｂにその両端を固定した回動規制用の
ねじりバネである。

６ａ，６ｂは軸３ａ，３ｂの先端部にそれぞれ
テフロン製のカツプリング７ａ，７ｂを介て固定
した耐高温、耐腐蝕材製の例えば石英製のアーム
で、これらのアーム６ａ，６ｂにはそれぞれ２個
づつ石英製のウエーハ保持用爪８ａ，８ｂが固定
されている。

９はこれらのウエーハ保持用爪８ａ，８ｂにウ
エーハ１０をすくい上げて保持したり、ウエーハ
保持用爪８ａ，８ｂに保持したウエーハ１０をウ
エーハ保持用爪８ａ，８ｂより離脱するべく軸３
ａ，３ｂを互に反対方向に回動するための軸回動
機構である。この軸回動機構９は例えば軸３ａ，
３ｂの回動規制用ねじりバネ５ａ，５ｂと、軸３
ａ，３ｂの後端部に回動レバー９ａ，９ｂを介し
て連結したリンク９ｃと、このリンク９ｃに連結
したコ９ｄと、このコロ９ｄに対接する作動板９
ｅを有する操作軸９ｆ等とよりなる。

１１はウエーハ保持用爪８ａ，８ｂによつて保
持したウエーハ１０を、反応室内サセプタ１２と
反応室外サセプタ（図示せず）との間を搬送する
べく移動台１ａ，１ｂを移動するための移動機構
である。この移動機構１１は例えば、移動台１
ａ，１ｂを連結一体にしたものを駆動するチエー
ン１１ａと、このチエーン１１ａを張架した２つ
のスプロケツト１１ｂ，１１ｃと、一方のスプロ
ケツト１１ｂに連結した回転軸１１ｄ等とよりな
る。

１３はウエーハ保持用爪８ａ，８ｂに対向する
反応室内サセプタ１２の載置面部分に形成した切
欠穴で、ウエーハ保持用爪８ａ，８ｂがアーム６
ａ，６ｂを中心に互に反対方向に回動した際、反
応室内サセプタ１２の載置面に当るのを回避する
ための逃げである。

次に上記の如き構成において本考案の動作を説
明する。

操作軸９ｆを第１図のＡ矢印で示す左方向に操
作すると、作動板９ｅ、リンク９ｃ及び回動レバ
ー９ａ，９ｂを介して軸３ａ，３ｂがそれぞれね
じりバネ５ａ，５ｂに抗してＣ，Ｄ矢印で示す時
計方向及び反時計方向に回動し、軸３ａ，３ｂの
先端部に固定したアーム６ａ，６ｂ及びこれに固
定したウエーハ保持用爪８ａ，８ｂもそれぞれ同
じＣ，Ｄ矢印で示す時計方向及び反時計方向に回
動し、この状態に保持する。

いま、ウエーハがエア搬送等によつて反応室外
サセプタ（反応室内サセプタ１２の後方位置にあ
る。図示せず）上に載置されているものとする。
そこで回転軸１１ｄをＧ矢印で示す時計方向に回
転し、スプロケツト１１ｂ，１１ｃ及びチエーン
１１ａを介して移動台１ａ，１ｂをＩ矢印で示す
後方へ移動させ、移動台１ａ，１ｂに支承した軸
３ａ，３ｂ、これに固定したアーム６ａ，６ｂ及
びこれに固定したウエーハ保持用爪８ａ，８ｂを
同じくＩ矢印で示す後方へ移動させて、ウエーハ
保持用爪８ａ，８ｂの位置が反応室外サセプタ上
のウエーハ位置に対向したところで停止させる。

次いで操作軸９ｆをＢ矢印で示す方向に操作す
ると、コロ９ｄが作動板９ｅより離れるので、コ
ロ９ｄが作動板９ｅに対接するべくねじりバネ５
ａ，５ｂのバネ力により軸３ａ，３ｂがそれぞれ
Ｅ，Ｆ矢印で示す反時計方向及び時計方向に回動
し、アーム６ａ，６ｂ及びウエーハ保持用爪８
ａ，８ｂも同じＥ，Ｆ矢印で示す反時計方向及び
時計方向に回動する。ウエーハ保持用爪８ａ，８
ｂの反時計方向及び時計方向の回動によつてウエ
ーハをすくい上げウエーハ保持用爪８ａ，８ｂに
保持する。

この状態のまま、回転軸１１ｄをＨ矢印で示す
反時計方向に回転し、スプロケツト１１ｂ，１１
ｃ及びチエーン１１ａを介して移動台１ａ，１ｂ
をＪ矢印で示す前方へ移動させ、軸３ａ，３ｂ、
アーム６ａ，６ｂ及びウエーハ保持用爪８ａ，８
ｂを同じくＪ矢印で示す前方へ移動させて、ウエ
ーハ保持用爪８ａ，８ｂの位置が反応室内サセプ
タ１２上の所定位置に対向したところで停止させ
る。

次に操作軸９ｆをＡ矢印で示す左方向に操作す
ると、上記と同様にアーム６ａ，６ｂ及びウエー
ハ保持用爪８ａ，８ｂをそれぞれＣ，Ｄ矢印で示
す時計方向及び反時計方向に回動し、これによつ
てウエーハ１０は第２図の仮想線で示すように反
応室内サセプタ１２上に載置される。このように
して本考案装置によりウエーハ１０を反応室内サ
セプタ１２と反応室外サセプタ（図示せず）との
間を搬送することができる。

以上の説明より明らかなように本考案によれ
ば、ウエーハ１０の表面（上面）にアーム６
ａ，６ｂやウエーハ保持用爪８ａ，８ｂが接触し
ないから、ウエーハ表面に異物が付着しない。
ウエーハ表面に塵埃が付着するおそれは殆んどな
い。常圧又は減圧雰囲気（真空）中で使用する
ことができる。アーム６ａ，６ｂやウエーハ保
持用爪８ａ，８ｂを石英等のような耐高温、耐腐
蝕材製とすることにより高温雰囲気中においても
使用できる。サセプタ１２の載置面に、ウエー
ハ保持用爪８ａ，８ｂが当らないような大きさの
切欠穴１３を設けるだけでよいので、サセプタ１
２上のウエーハ１０内の温度むらを最小に（温度
分布をほぼ均一に）することができる。軸回動
機構９及び移動機構１１を制御装置によつて自動
制御しさえすれば自動化も容易に達成できる等の
効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案装置の一実施例を示す斜視図、
第２図は第１図の−線矢視断面図である。 １ａ，１ｂ……移動台、２……ガイド部、３
ａ，３ｂ……軸、４ａ，４ｂ……軸受、６ａ，６
ｂ……アーム、８ａ，８ｂ……ウエーハ保持用
爪、９……軸回動機構、１０……ウエーハ、１１
……移動機構、１２……反応室内サセプタ、１３
……切欠穴。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 移動台と、移動台に平行に支承され、互に反対
   方向に回動せしめられる二軸と、これらの軸の先
   端部にそれぞれ固定したアームと、これらのアー
   ムにそれぞれ２個づつ固定されたウエーハ保持用
   爪と、これらのウエーハ保持用爪にウエーハをす
   くい上げて保持したり、ウエーハ保持用爪に保持
   したウエーハを離脱するべく上記各軸を互に反対
   方向に同一角度回動するための軸回動機構と、前
   記移動台を移動するための移動機構とよりなるウ
   エーハ搬送装置。