JPS622111A - 反射光による表面粗さ計 - Google Patents

反射光による表面粗さ計

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JPS622111A
JPS622111A JP14184085A JP14184085A JPS622111A JP S622111 A JPS622111 A JP S622111A JP 14184085 A JP14184085 A JP 14184085A JP 14184085 A JP14184085 A JP 14184085A JP S622111 A JPS622111 A JP S622111A
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JP
Japan
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light
light source
modulation frequency
surface roughness
detector
Prior art date
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Pending
Application number
JP14184085A
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English (en)
Inventor
Yoshizo Honda
芳三 本多
Tokuyasu Oki
沖 十九康
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Ando Electric Co Ltd
Original Assignee
Ando Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Ando Electric Co Ltd filed Critical Ando Electric Co Ltd
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Publication of JPS622111A publication Critical patent/JPS622111A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (a)発明の技術分野 この発明は、光源の光を被測定物に照射し、被測定物か
らの鏡面反射光と散乱光とを検出して被測定物の表面の
粗さを測定する場合において、光源以外の自然光や室内
の照明光などが被測定物に入ってきても、光源以外の光
の影響を受けないで被測定物の表面の粗さを測定するこ
とができる表面粗さ計に関するものである。
Tal従来技術と問題点 反射光による表面粗さ計は、被測定物に光源の光を照射
し、被測定物からの反射光を検出して被測定物の表面の
粗さを測定する。この場合、測定パラメータとして、鏡
面反射光の光強度と、ある特定の反射方向の散乱光強度
とを求め、これらを比較して被M1定物の表面の粗さを
測定する。
このような場合の従来技術の構成図を第2図に示す。
第2図の1は光源、2と3は検出器、4は被測定物であ
る。
第2図では、光源1の光を被測定物4に入射角θで照射
し、被測定物4からの鏡面反射光が反射角θで反射して
いる。検出器2は反射角θの鏡面反射光を検出する。
被測定物4からは、表面の粗さに応じて鏡面反 、  
  □射光以外の散乱光が発生する。
検出器3は、鏡面反射光以外の特定の反射角に対する散
乱光を検出するためのものである。
第2図のような場合で、光源以外の自然光や室内の照明
光などが被測定物4に入ってくるような条件下では、検
出器2の出力と検出器3の出力の比を求めても、光源以
外の外来光が出力として検出されるので、周囲の明るさ
によって測定結果が変わってしまい、正確な測定ができ
ないという問題がある。
(c)発明の目的 この発明は、測定系を特別に遮蔽しなくても光源以外の
光の影響を受けないで測定をすることができる表面粗さ
計の提供を目的とする。
(d)発明の実施例 この発明による実施例の構成図を第1図に示す。
第1図の5は変調器、6と7はフィルタである。
変調器5は、光源1を変調周波数で変調する。
変調器5で変調された光源1の光はチII−/プ光とな
って被測定物4を照射し、検出器2と検出器3で検出さ
れる。
光源1以外の光が交流電源で点灯されている場合には、
変調器5の変調周波数を例えば270Hzなどのように
交流電源の周波数の整数倍にならないような周波数にす
る。これは、交流電源の影響をな(すためである。
フィルタ6は検出42の出力に接続されており、検出器
2で検出した鏡面反射光の中から変調周波数の成分だけ
を取り出す。
フィルタ7は検出器3の出力に接続されており、検出器
3で検出した散乱光の中から変調周波数の成分だけを取
り出す。
したがって、フィルタ6の出力とフィルタ7の出力には
光R1以外の外来光の影響を受けない出力が得られるの
で、被測定物4の表面の粗さを正確に測定することがで
きる。
(e)発明の効果 この発明によれば、光源1を変調器5の変調周波数で変
調し、検出器2の出力と検出器3の出力からそれぞれフ
ィルタ6とフィルタ7で変調周波数を取り出しているの
で、光源1以外の外来光が被測定物4に入ってきても、
外米光の影響を受けることな(、被測定物4の表面の粗
さを測定することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明による実施例の構成図、第2図は従来
技術の構成図。 1・・・・・・光源、2・・・・・・検出器、3・・・
・・・検出器、4・・・・・・被測定物、5・・・・・
・変調器、6・・・・・・フィルタ、7・・・・・・フ
ィルタ。 代理人  弁理士  小 俣 欽 d1j!1 2  
図 検出器

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 光源の光を被測定物に照射し、前記被測定物からの
    鏡面反射光と散乱光を検出器で検出する表面粗さ計にお
    いて、 前記光源を変調周波数で変調する変調器と、前記検出器
    の出力から前記変調周波数を取り出すフィルタとを備え
    ることを特徴とする反射光による表面粗さ計。
JP14184085A 1985-06-28 1985-06-28 反射光による表面粗さ計 Pending JPS622111A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14184085A JPS622111A (ja) 1985-06-28 1985-06-28 反射光による表面粗さ計
DE19863621567 DE3621567A1 (de) 1985-06-28 1986-06-27 Mit reflektiertem licht arbeitender oberflaechenrauheitsanalysator
GB8615726A GB2177793B (en) 1985-06-28 1986-06-27 Reflected light type surface roughness analyzer
GB8901426A GB2211711B (en) 1985-06-28 1989-01-23 Reflected light type surface roughness analyzer
GB8901427A GB2211712B (en) 1985-06-28 1989-01-23 Reflected light type surface roughness analyzer

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JP14184085A JPS622111A (ja) 1985-06-28 1985-06-28 反射光による表面粗さ計

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JPS622111A true JPS622111A (ja) 1987-01-08

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JP14184085A Pending JPS622111A (ja) 1985-06-28 1985-06-28 反射光による表面粗さ計

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JP (1) JPS622111A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5474381A (en) * 1993-11-30 1995-12-12 Texas Instruments Incorporated Method for real-time semiconductor wafer temperature measurement based on a surface roughness characteristic of the wafer
US5689757A (en) * 1994-07-18 1997-11-18 Xerox Corporation Method and apparatus for detecting substrate roughness and controlling print quality

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