JPS6224238B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6224238B2 JPS6224238B2 JP21176782A JP21176782A JPS6224238B2 JP S6224238 B2 JPS6224238 B2 JP S6224238B2 JP 21176782 A JP21176782 A JP 21176782A JP 21176782 A JP21176782 A JP 21176782A JP S6224238 B2 JPS6224238 B2 JP S6224238B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- manipulator
- work table
- air purification
- purification box
- turntable
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000004887 air purification Methods 0.000 claims description 21
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 8
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明は半導体の製造工程におけるワークス
テーシヨンに関し、かつ各工程間を姿勢制御しな
がら正確に移送することのできるマニピユレータ
を持つたワークステーシヨンを提供せんとするも
にである。
テーシヨンに関し、かつ各工程間を姿勢制御しな
がら正確に移送することのできるマニピユレータ
を持つたワークステーシヨンを提供せんとするも
にである。
「従来の技術」
従来、半導体ウエハの加工工程においては、化
学的及び物理的な表面処理、フオトリソグラフ処
理におけるフオトレジスト塗布および現像等が何
回となく行なわれる。この各工程はそれぞれの処
理装置を組合せて製造ラインを構成し、製造ライ
ンは全体をクリーンルーム(無塵室)に収納して
いる。上記製造ラインにおける各処理装置間は、
各入力部分を直線状に配置し、その上部に配設し
た搬送用レールに導かれるウエハハンドラーによ
つて接続され、1つの処理装置からの半導体ウエ
ハをピツクアツプし、これをウエハハンドラーに
よつて他の処理装置に搬送入力する。
学的及び物理的な表面処理、フオトリソグラフ処
理におけるフオトレジスト塗布および現像等が何
回となく行なわれる。この各工程はそれぞれの処
理装置を組合せて製造ラインを構成し、製造ライ
ンは全体をクリーンルーム(無塵室)に収納して
いる。上記製造ラインにおける各処理装置間は、
各入力部分を直線状に配置し、その上部に配設し
た搬送用レールに導かれるウエハハンドラーによ
つて接続され、1つの処理装置からの半導体ウエ
ハをピツクアツプし、これをウエハハンドラーに
よつて他の処理装置に搬送入力する。
「発明が解決しようとする問題点」
しかしながら上記装置においては、上記搬送用
レール部分から塵芥が発生し、各処理工程の雰囲
気に悪影響を及ぼす。また生産速度を向上させる
ための、各処理工程間を接続するウエハハンドラ
−の増大に対応できない。
レール部分から塵芥が発生し、各処理工程の雰囲
気に悪影響を及ぼす。また生産速度を向上させる
ための、各処理工程間を接続するウエハハンドラ
−の増大に対応できない。
「問題を解決するための手段」
そこで本発明は、この自動化に適した半導体製
造工程に応じたワークステーシヨンを提供せんと
するもので、指令により駆動する走行機能を有す
る基台と、基台上に昇降自在に保持された作業テ
ーブルと、作業テーブル上に支持されたターンテ
ーブルと、このターンテーブルと相対的に回転す
るよう作業テーブル上に軸支され、互いに摺動し
て伸縮自在である複数の筒状体で構成されたマニ
ピユレータと、上記ターンテーブルを底面とし、
マニピユレータを収納できる空気浄化ボツクスと
を有することを特徴とするものである。
造工程に応じたワークステーシヨンを提供せんと
するもので、指令により駆動する走行機能を有す
る基台と、基台上に昇降自在に保持された作業テ
ーブルと、作業テーブル上に支持されたターンテ
ーブルと、このターンテーブルと相対的に回転す
るよう作業テーブル上に軸支され、互いに摺動し
て伸縮自在である複数の筒状体で構成されたマニ
ピユレータと、上記ターンテーブルを底面とし、
マニピユレータを収納できる空気浄化ボツクスと
を有することを特徴とするものである。
「実施例」
以下図面に基いて本発明の一実施例を説明する
と、1は走行用の駆動機構を内蔵した基台で、上
面には4隅に支柱2が立設されている。3は、支
柱2に外嵌されるシリンダ4を下面に開口するよ
う取設した作業テーブルである。この作業テーブ
ル3は、上記シリンダ4に作用する油圧、空圧あ
るいはステツピングモータ等によりその昇降を自
在に制御される。
と、1は走行用の駆動機構を内蔵した基台で、上
面には4隅に支柱2が立設されている。3は、支
柱2に外嵌されるシリンダ4を下面に開口するよ
う取設した作業テーブルである。この作業テーブ
ル3は、上記シリンダ4に作用する油圧、空圧あ
るいはステツピングモータ等によりその昇降を自
在に制御される。
作業テーブル3上には、作業テーブル3に内蔵
したモータで駆動されるターンテーブル5が、回
転自在に支承されている。このターンテーブル5
上には、半導体ウエハを収納したキヤリアを載置
するスペース6が、所定の間隔で複数箇所設けら
れている。
したモータで駆動されるターンテーブル5が、回
転自在に支承されている。このターンテーブル5
上には、半導体ウエハを収納したキヤリアを載置
するスペース6が、所定の間隔で複数箇所設けら
れている。
上記作業テーブル3上にはまた、ターンテーブ
ル5と相対的に回転するようマニピユレータ7が
軸支され、これは上記ターンテーブル5を底面と
する空気浄化ボツクス8内に収容され、空気浄化
ボツクス8と一体的に回転する。マニピユレータ
7は、油圧、空圧、あるいはステツピングモータ
等により伸縮及び回転を自在に制御され、伸長し
た際には空気浄化ボツクス8に設けた開放窓9か
ら突出し、最小の長さに縮めたときは空気浄化ボ
ツクス8内にコンパクトに収容される。その際マ
ニピユレータ7の先端ハンドリング部10は、上
記ターンテーブル5のスペース6上に位置してい
る。このマニピユレータ7は、複数の筒状体で形
成され、他端は排気ダクト11として空気浄化ボ
ツクス8外に開口している。しかしてマニピユレ
ータ7には、内部の中空部12に作用する吸気装
置が付設され、上記他端から空気浄化ボツクス8
外に排気されて、マニピユレータ7の作動中に塵
芥が空気浄化ボツクス8内に散逸することを防止
している。
ル5と相対的に回転するようマニピユレータ7が
軸支され、これは上記ターンテーブル5を底面と
する空気浄化ボツクス8内に収容され、空気浄化
ボツクス8と一体的に回転する。マニピユレータ
7は、油圧、空圧、あるいはステツピングモータ
等により伸縮及び回転を自在に制御され、伸長し
た際には空気浄化ボツクス8に設けた開放窓9か
ら突出し、最小の長さに縮めたときは空気浄化ボ
ツクス8内にコンパクトに収容される。その際マ
ニピユレータ7の先端ハンドリング部10は、上
記ターンテーブル5のスペース6上に位置してい
る。このマニピユレータ7は、複数の筒状体で形
成され、他端は排気ダクト11として空気浄化ボ
ツクス8外に開口している。しかしてマニピユレ
ータ7には、内部の中空部12に作用する吸気装
置が付設され、上記他端から空気浄化ボツクス8
外に排気されて、マニピユレータ7の作動中に塵
芥が空気浄化ボツクス8内に散逸することを防止
している。
また、上記ハンドリング部10の先端には、前
記した半導体ウエハ用のキヤリアを認識するため
のセンサを付設した、把持部13が取付けられて
いる。
記した半導体ウエハ用のキヤリアを認識するため
のセンサを付設した、把持部13が取付けられて
いる。
空気浄化ボツクス8は円筒状の側壁を有し、マ
ニピユレータ7を収納した際に適宜の手段で開放
窓9を遮蔽される。例えば図示したように、作業
テーブル3上に固定扉14を立設し、空気浄化ボ
ツクス8を回転して開放窓9をこの固定扉14に
対面させ、気密性を有するよう遮蔽すれば良い。
この空気浄化ボツクス8は、高性能のエアフイル
タ等を用いて常法により常時清浄な空気を供給さ
れ、外気よりもやや内圧を高く保持している。し
たがつて空気浄化ボツクス8の開放窓9が開放状
態にあつても、すなわちマニピユレータ7が空気
浄化ボツクス8外で作業している場合であつて
も、塵芥が空気浄化ボツクス8内に進入してくる
ことはない。
ニピユレータ7を収納した際に適宜の手段で開放
窓9を遮蔽される。例えば図示したように、作業
テーブル3上に固定扉14を立設し、空気浄化ボ
ツクス8を回転して開放窓9をこの固定扉14に
対面させ、気密性を有するよう遮蔽すれば良い。
この空気浄化ボツクス8は、高性能のエアフイル
タ等を用いて常法により常時清浄な空気を供給さ
れ、外気よりもやや内圧を高く保持している。し
たがつて空気浄化ボツクス8の開放窓9が開放状
態にあつても、すなわちマニピユレータ7が空気
浄化ボツクス8外で作業している場合であつて
も、塵芥が空気浄化ボツクス8内に進入してくる
ことはない。
空気浄化ボツクス8は従来のクリーンルームと
異つて非常に小型化され得る。また上述のように
排気ダクト11は空気浄化ボツクス8外に開口し
ており、マニピユレータ7内に吸気作用が働いて
いることと相まつて、空気浄化ボツクス8のクリ
ーン度は飛躍的に高められる。
異つて非常に小型化され得る。また上述のように
排気ダクト11は空気浄化ボツクス8外に開口し
ており、マニピユレータ7内に吸気作用が働いて
いることと相まつて、空気浄化ボツクス8のクリ
ーン度は飛躍的に高められる。
「発明の効果」
この発明のワークステーシヨンは以上のように
構成したので、半導体製造工程における半導体ウ
エハの移送等のためのハンドリングに好適に使用
され、かつ各工程間をキヤリアの姿勢を制御しな
がら正確に移送することができる。
構成したので、半導体製造工程における半導体ウ
エハの移送等のためのハンドリングに好適に使用
され、かつ各工程間をキヤリアの姿勢を制御しな
がら正確に移送することができる。
また、大量に塵芥を発生する作業者や搬送装置
をなくすことができるため、従来のクリーンルー
ムと併用することにより半導体製造装置全体のク
リーン度を飛躍的に向上させることができた。
をなくすことができるため、従来のクリーンルー
ムと併用することにより半導体製造装置全体のク
リーン度を飛躍的に向上させることができた。
図面は本発明のワークステーシヨンの一実施例
を示し、第1図はその斜視図、第2図は作業テー
ブル3を降下させた状態の側面図、第3図は作業
中の断面図、第4図はマニピユレータ7収納時の
断面図、第5図はその平面図、第6図は作業中の
平面図である。 1……基台、3……作業テーブル、4……シリ
ンダ、5……ターンテーブル、7……マニピユレ
ータ、8……空気浄化ボツクス、9……開放窓、
11……排気ダクト、12……中間部、14……
固定扉。
を示し、第1図はその斜視図、第2図は作業テー
ブル3を降下させた状態の側面図、第3図は作業
中の断面図、第4図はマニピユレータ7収納時の
断面図、第5図はその平面図、第6図は作業中の
平面図である。 1……基台、3……作業テーブル、4……シリ
ンダ、5……ターンテーブル、7……マニピユレ
ータ、8……空気浄化ボツクス、9……開放窓、
11……排気ダクト、12……中間部、14……
固定扉。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 指令により駆動する走行機能を有する基台
と、基台上に昇降自在に保持された作業テーブル
と、作業テーブル上に支持されたターンテーブル
と、このターンテーブルと相対的に回転するよう
作業テーブル上に軸支され、互い摺動して伸縮自
在である複数の筒状体で構成されたマニピユレー
タと、上記ターンテーブルを底面とし、マニピユ
レータを収納できる空気浄化ボツクスとを有する
ことを特徴とするワークステーシヨン。 2 作業テーブルが、下面に開口するシリンダを
上面に立設され、基台上に立設した複数本の支柱
に上記シリンダを嵌挿することにより、基台上に
昇降自在に保持されてなる特許請求の範囲第1項
記載のワークステーシヨン。 3 空気浄化ボツクスが、マニピユレータと一体
的に回転するとともに、ターンテーブルを底面と
して気密を保持し得るようにした特許請求の範囲
第1項または第2項記載のワークステーシヨン。 4 空気浄化ボツクスが、マニピユレータが出没
可能で、作業テーブル上に立設した固定扉に対面
した時に閉じるようにした、開放窓を形成してな
る特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれか
に記載のワークステーシヨン。 5 マニピユレータが、内部に中空部を有すると
ともに、この中空部を空気浄化ボツクス外に開口
する排気ダクトに連結してなる特許請求の範囲第
1項ないし第4項のいずれかに記載のワークステ
ーシヨン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21176782A JPS59102581A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | ワ−クステ−シヨン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21176782A JPS59102581A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | ワ−クステ−シヨン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59102581A JPS59102581A (ja) | 1984-06-13 |
| JPS6224238B2 true JPS6224238B2 (ja) | 1987-05-27 |
Family
ID=16611242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21176782A Granted JPS59102581A (ja) | 1982-12-01 | 1982-12-01 | ワ−クステ−シヨン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59102581A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH072316B2 (ja) * | 1986-05-23 | 1995-01-18 | 東京エレクトロン株式会社 | 無塵室用搬送ロボットによる搬送方法 |
| US4986715A (en) * | 1988-07-13 | 1991-01-22 | Tokyo Electron Limited | Stock unit for storing carriers |
-
1982
- 1982-12-01 JP JP21176782A patent/JPS59102581A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59102581A (ja) | 1984-06-13 |
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