JPS62257643A - 書き換え可能型光デイスク - Google Patents
書き換え可能型光デイスクInfo
- Publication number
- JPS62257643A JPS62257643A JP61098079A JP9807986A JPS62257643A JP S62257643 A JPS62257643 A JP S62257643A JP 61098079 A JP61098079 A JP 61098079A JP 9807986 A JP9807986 A JP 9807986A JP S62257643 A JPS62257643 A JP S62257643A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- substrate
- optical recording
- optical
- photosensitive resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
基板と、書き換え可能な光記録媒体膜と、保護膜とから
なる光ディスクにおいて、基板のレーザ光に起因した熱
的劣化を回避するために、基板を耐熱性基体とその上に
形成した感光性樹脂層とで構成し、光ディスクの耐熱性
および書き換え特性を向上させる。
なる光ディスクにおいて、基板のレーザ光に起因した熱
的劣化を回避するために、基板を耐熱性基体とその上に
形成した感光性樹脂層とで構成し、光ディスクの耐熱性
および書き換え特性を向上させる。
本発明は光記録技術に関する。本発明は、さらに詳しく
述べると、レーザ光のような光パルスをパワー及び照射
時間を異にする２条件の下で光記録媒体層に照射してそ
の層の照射部分において反射率又は透過率の変化をひき
おこして、この光学的な性質の変化を利用して情報の記
録、再生、消去、そして再記録を行なうタイプの光ディ
スクに関する。このようなタイプの光ディスクは、一般
に、情報の書き換えが可能な、換言すると、繰り返し使
用が可能な、書き換え型光ディスクと呼ばれている。
述べると、レーザ光のような光パルスをパワー及び照射
時間を異にする２条件の下で光記録媒体層に照射してそ
の層の照射部分において反射率又は透過率の変化をひき
おこして、この光学的な性質の変化を利用して情報の記
録、再生、消去、そして再記録を行なうタイプの光ディ
スクに関する。このようなタイプの光ディスクは、一般
に、情報の書き換えが可能な、換言すると、繰り返し使
用が可能な、書き換え型光ディスクと呼ばれている。
光学的な情報記録は記録の速度および密度が高いので、
有望な情報記録方法として注目を集めている。従来、光
学的な情報の記録方法としては、第１に、金属薄膜にレ
ーザビームを照射して、照射部位に微細な穴を設けるこ
とによって情報を記録するものがある。しかし、この場
合には情報を記録することはできるが消去して記録を行
なうことは不可能であるという制約がある。第２に、光
学的に情報を記録するだけでなく消去および再記録を行
なうことが可能な記録方法として、Ｔｅ、、。
有望な情報記録方法として注目を集めている。従来、光
学的な情報の記録方法としては、第１に、金属薄膜にレ
ーザビームを照射して、照射部位に微細な穴を設けるこ
とによって情報を記録するものがある。しかし、この場
合には情報を記録することはできるが消去して記録を行
なうことは不可能であるという制約がある。第２に、光
学的に情報を記録するだけでなく消去および再記録を行
なうことが可能な記録方法として、Ｔｅ、、。
Ｇｅｍ５ Ｓｔ Ｐｚのような半導体薄膜を用いて、そ
の２つの梼造状態、すなわち、非晶質状態と結晶状態と
の間をレーザビーム照射で可逆的に変化させる方法が知
られている（特公昭４７−２６８５７号公報参照）、こ
の場合には、非晶質状態は結晶状態へ至る準安定な状態
であり、熱エネルギーあるいは化学エネルギーの印加に
より容易に結晶状態へ遷移するため、情報保持に不安定
さがある。また、非晶質と結晶質という大きな相違のあ
る状態間を遷移させるという使い方をするため、くり返
して記録および消去している間に材料の疲労が起こり、
そのために記録および消去の可能なくり返し回数が少な
いという欠点がある。
の２つの梼造状態、すなわち、非晶質状態と結晶状態と
の間をレーザビーム照射で可逆的に変化させる方法が知
られている（特公昭４７−２６８５７号公報参照）、こ
の場合には、非晶質状態は結晶状態へ至る準安定な状態
であり、熱エネルギーあるいは化学エネルギーの印加に
より容易に結晶状態へ遷移するため、情報保持に不安定
さがある。また、非晶質と結晶質という大きな相違のあ
る状態間を遷移させるという使い方をするため、くり返
して記録および消去している間に材料の疲労が起こり、
そのために記録および消去の可能なくり返し回数が少な
いという欠点がある。
そこで、本出願人は、光（レーザ）パルスを照射するこ
とにより情報を記録し、しかも必要なときにはすでに記
録した情報を消去でき、さらに情報を安定に保持できる
光記録媒体（共晶現象を示す二成分以上の元素の組成を
有するもの）を提案した（特願昭５９−２５５６７２号
、５９−２５５６７３号、５５−２７４５０２号、５９
−２７４５３７号、６０−６６６９号、６０−６６７０
号、６０−６６７１号および６０−６７９８３号参照）
。この光記録媒体の薄膜においては、光学的特性（光反
射率、光透過率など）に差異のある２つ以上の安定状態
（結晶賞状Ｂ）が存在して、パワーおよび照射時間の異
なる２条件下で光（レーザ）パルスを照射することによ
って、その２つの安定状態のどちらかの状態を取らせて
情報を記録している。そして、この光記録媒体膜を基板
上に形成し、さらに保護膜を形成して書き換え可能型光
ディスクとしている。
とにより情報を記録し、しかも必要なときにはすでに記
録した情報を消去でき、さらに情報を安定に保持できる
光記録媒体（共晶現象を示す二成分以上の元素の組成を
有するもの）を提案した（特願昭５９−２５５６７２号
、５９−２５５６７３号、５５−２７４５０２号、５９
−２７４５３７号、６０−６６６９号、６０−６６７０
号、６０−６６７１号および６０−６７９８３号参照）
。この光記録媒体の薄膜においては、光学的特性（光反
射率、光透過率など）に差異のある２つ以上の安定状態
（結晶賞状Ｂ）が存在して、パワーおよび照射時間の異
なる２条件下で光（レーザ）パルスを照射することによ
って、その２つの安定状態のどちらかの状態を取らせて
情報を記録している。そして、この光記録媒体膜を基板
上に形成し、さらに保護膜を形成して書き換え可能型光
ディスクとしている。
上述の本出願人に係る特許出願にて開示した光ディスク
では基板がポリメチルメクリレー） （ＰＭＭＡ）のよ
うなアクリル樹脂（熱可塑性樹脂）である。
では基板がポリメチルメクリレー） （ＰＭＭＡ）のよ
うなアクリル樹脂（熱可塑性樹脂）である。
この光ディスクにレーザビームを照射して情報の書き込
み、消去を行なうと光記録媒体膜の照射部分は高温にな
るために、この熱によって基板に劣化、変形が生じて書
き換え特性が低下する問題がある。
み、消去を行なうと光記録媒体膜の照射部分は高温にな
るために、この熱によって基板に劣化、変形が生じて書
き換え特性が低下する問題がある。
本発明は上述の基板に起因する書き換え特性の低下を防
止することを目的としており、（ア）基板と、（イ）該
基板上に形成されかつ光の照射によって惹起される照射
部分の光学的特性の変化から情報の記録、再生、消去そ
して再記録が可能である光記録媒体膜と、（つ）該光記
録媒体膜上に形成された保護膜とからなる光ディスクに
おいて、基板が耐熱性基体と、該基体上に形成された感
光性樹脂Ｎ（ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ １ａｙｅｒ）
とからなることを特徴とする書き換え型光ディスクを提
供することによって上述の目的を達成する。
止することを目的としており、（ア）基板と、（イ）該
基板上に形成されかつ光の照射によって惹起される照射
部分の光学的特性の変化から情報の記録、再生、消去そ
して再記録が可能である光記録媒体膜と、（つ）該光記
録媒体膜上に形成された保護膜とからなる光ディスクに
おいて、基板が耐熱性基体と、該基体上に形成された感
光性樹脂Ｎ（ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ １ａｙｅｒ）
とからなることを特徴とする書き換え型光ディスクを提
供することによって上述の目的を達成する。
感光性樹脂は紫外線等の照射によって硬化した（例えば
、光重合した）樹脂であり、例えば、アクリル樹脂（ジ
アクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリ
レートなどの重合体）が好ましい。また、感光性樹脂層
にはレーザビーム案内のための溝が形成されており、そ
の層厚さは２０〜４０μｍ程度である。
、光重合した）樹脂であり、例えば、アクリル樹脂（ジ
アクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリ
レートなどの重合体）が好ましい。また、感光性樹脂層
にはレーザビーム案内のための溝が形成されており、そ
の層厚さは２０〜４０μｍ程度である。
耐熱性基体は薄い感光性樹脂層を担持するものであって
、ガラス板（円板）であるのが好ましく、エポキシ円板
であってもよい。
、ガラス板（円板）であるのが好ましく、エポキシ円板
であってもよい。
光記録媒体膜を構成する材料は共晶現象を示す二成分以
上の元素の合金又は化合物組成を有するものであって、
例えば、下記に示したものである。
上の元素の合金又は化合物組成を有するものであって、
例えば、下記に示したものである。
Ｉｎ Ｓｂ ｒ ＡＮ −Ｃａ ＋ ＾ＩＩ −
Ｇｅ、 ＾６−？１ｇ、Ａｌｔ−Ｔｅ、Ａｓ−Ｉｎ、
Ａｓ−Ｐｂ、Ａｕ−Ｂ１．Ｂ１−Ｉｎ、Ｂ１−Ｐｂ。
Ｇｅ、 ＾６−？１ｇ、Ａｌｔ−Ｔｅ、Ａｓ−Ｉｎ、
Ａｓ−Ｐｂ、Ａｕ−Ｂ１．Ｂ１−Ｉｎ、Ｂ１−Ｐｂ。
Ｂ１−３ｎ 、 Ｂｉ −Ｔｅ 、 Ｃａ−Ｍｇ 、
Ｃａ−５ｂ 、 Ｇｅ−５ｂ 、 Ｇｅ −Ｔｅ、 Ｉ
ｎ−５ｎ、 Ｉｎ−Ｔｅ、Ｍｇ−５ｕ、Ｐｂ−３ｂ、Ｐ
ｂ−５ｎ。
Ｃａ−５ｂ 、 Ｇｅ−５ｂ 、 Ｇｅ −Ｔｅ、 Ｉ
ｎ−５ｎ、 Ｉｎ−Ｔｅ、Ｍｇ−５ｕ、Ｐｂ−３ｂ、Ｐ
ｂ−５ｎ。
Ｐｂ−Ｔｅ 、 ５ｂ−Ｔｅ 、 ５ｎ−Ｔｅ 、 ５
ｎ−Ｚｎ 、 ５ｎ−ＴＩ等。
ｎ−Ｚｎ 、 ５ｎ−ＴＩ等。
さらに、上述の二元系組成ばかりでなく三元系、四元系
組成のものであってもよい。
組成のものであってもよい。
光記録媒体膜の上に形成する保護膜は、有機高分子材料
（例えばＰＭＭＡ 、ポリスチレン等の熱可塑性樹脂や
紫外線硬化型の感光性樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化樹
脂）、酸化物（例えば、ＳｉＯ２。
（例えばＰＭＭＡ 、ポリスチレン等の熱可塑性樹脂や
紫外線硬化型の感光性樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化樹
脂）、酸化物（例えば、ＳｉＯ２。
Ａｊ２２０３等）、窒化物などで光記録媒体に悪影響を
及ぼさないものである。
及ぼさないものである。
本発明に係る光ディスクの基板を構成する感光性樹脂は
ＰＭＭＡ （熱可塑性樹脂）よりも耐熱性があり、レー
ザビームによる光記録媒体層の加熱時の熱による感光性
樹脂層の劣化、変形、分解は生じない。
ＰＭＭＡ （熱可塑性樹脂）よりも耐熱性があり、レー
ザビームによる光記録媒体層の加熱時の熱による感光性
樹脂層の劣化、変形、分解は生じない。
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施態様例
によって本発明の詳細な説明する。
によって本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明に係る書き換え型光ディスクの部分断面
図である。
図である。
第１図において、耐熱性基体であるガラス基体１の上に
感光性樹脂Ｎ２を形成して光ディスクの基板３とする。
感光性樹脂Ｎ２を形成して光ディスクの基板３とする。
この感光性樹脂層２には光案内溝（図示せず）が形成さ
れており、その上に光記録媒体膜４が形成されている。
れており、その上に光記録媒体膜４が形成されている。
そして、光記録媒体膜４上に保護膜５が形成されている
。
。
このような光ディスクは、例えば、次のようにして製作
される。まず、所定の光（レーザビーム）案内溝が形成
さているスタンパ−（Ｎｉ型金型）上に重合開始剤とし
てベンゾインイソブチルエーテルを５％添加したビスヒ
ドロキシメチルトリシクロデカンのジアクリレートを塗
布する。
される。まず、所定の光（レーザビーム）案内溝が形成
さているスタンパ−（Ｎｉ型金型）上に重合開始剤とし
てベンゾインイソブチルエーテルを５％添加したビスヒ
ドロキシメチルトリシクロデカンのジアクリレートを塗
布する。
次に、外径３０ｃｍ、厚さ１．２龍のガラス基体（円板
）ｌを塗布材をはさむようにスタンパ−に押し付け、紫
外線をガラス基体を通して塗布材に当て、重合させてア
クリル樹脂層２とする。この樹脂層の厚さは、例えば、
２０μｍである。光重合による硬化後にスタンパ−から
外して案内溝を有するディスク基板３が得られる。
）ｌを塗布材をはさむようにスタンパ−に押し付け、紫
外線をガラス基体を通して塗布材に当て、重合させてア
クリル樹脂層２とする。この樹脂層の厚さは、例えば、
２０μｍである。光重合による硬化後にスタンパ−から
外して案内溝を有するディスク基板３が得られる。
このディスク基板３上にＩｎ５ｂｌ膜の光記録媒体膜４
を真空蒸着法によって形成する。各成分（Ｉｎおよびｓ
ｂ）をそれぞれ独立の蒸発源（個々に温度制御されてい
る）より蒸発させ、基板３を回転させることで蒸着膜中
の組成がほぼ一定になるように制御する。形成したｒｎ
ｓｂｌ膜４の厚さ１１００ｎである。そして、ＩｎＳｂ
ｍ膜４の上に保護膜５としてＺｎＳ膜を厚さ０．１μｍ
で形成すること、によって書き換え可能型光ディスクが
得られる。
を真空蒸着法によって形成する。各成分（Ｉｎおよびｓ
ｂ）をそれぞれ独立の蒸発源（個々に温度制御されてい
る）より蒸発させ、基板３を回転させることで蒸着膜中
の組成がほぼ一定になるように制御する。形成したｒｎ
ｓｂｌ膜４の厚さ１１００ｎである。そして、ＩｎＳｂ
ｍ膜４の上に保護膜５としてＺｎＳ膜を厚さ０．１μｍ
で形成すること、によって書き換え可能型光ディスクが
得られる。
得られた光ディスクの光記録媒体膜４にレーザビーム６
を対物レンズ７によって絞って当てて情報の書き込みお
よび消去の書き換えを行なう。レーザビーム６には半導
体レーザ光（８３０ｎｍ）を用い対物レンズ７により１
μｍスポットに絞り、書き込み時には１０ｍＷのパワー
で照射時間を４００ｎｓとし、消去時には５ｍＷのパワ
ーで照射時間を８００ｎｓとする。この書き込みと消去
を繰り返す書き換えが１０．０００回以上行なえた。
を対物レンズ７によって絞って当てて情報の書き込みお
よび消去の書き換えを行なう。レーザビーム６には半導
体レーザ光（８３０ｎｍ）を用い対物レンズ７により１
μｍスポットに絞り、書き込み時には１０ｍＷのパワー
で照射時間を４００ｎｓとし、消去時には５ｍＷのパワ
ーで照射時間を８００ｎｓとする。この書き込みと消去
を繰り返す書き換えが１０．０００回以上行なえた。
比較例として基板をＰＭＭＡで製作して、光記録媒体膜
および保護膜を上述した条件と同じに形成して光ディス
クを作る。この比較例光ディスクに対して上述した書き
込みおよび消去のレーザビームによる情報の書き換えを
行なったところ、書き換えは１００〜２００回程度し・
か行なえなかった。
および保護膜を上述した条件と同じに形成して光ディス
クを作る。この比較例光ディスクに対して上述した書き
込みおよび消去のレーザビームによる情報の書き換えを
行なったところ、書き換えは１００〜２００回程度し・
か行なえなかった。
本発明によれば、ＰＭＭＡ基板に代えて感光性樹脂層と
耐熱性基体とからなる基板を用いることによってレーザ
ビームの熱に起因する基板の劣化、変形は生じないので
、情報の書き換え特性が大幅に向上する。
耐熱性基体とからなる基板を用いることによってレーザ
ビームの熱に起因する基板の劣化、変形は生じないので
、情報の書き換え特性が大幅に向上する。
第１図は本発明に係る書き換え可能型光ディスクの部分
断面図である。 １・・・ガラス基体、 ２・・・感光性樹脂層、３
・・・基板、 ４・・・光記録媒体膜、６・
・・レーザビーム、 ７・・・対物レンズ。
断面図である。 １・・・ガラス基体、 ２・・・感光性樹脂層、３
・・・基板、 ４・・・光記録媒体膜、６・
・・レーザビーム、 ７・・・対物レンズ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基板と、該基板上に形成されかつ照射によって惹起
される照射部分の光学的特性の変化から情報の記録、再
生、消去そして再記録が可能である光記録媒体膜と、該
光記録媒体膜上に形成された保護膜とからなる光ディス
クにおいて、前記基板が耐熱性基体と、該基体上に形成
された感光性樹脂層とからなることを特徴とする書き換
え可能型光ディスク。 ２、前記光記録媒体膜が共晶現象を示す二成分以上の元
素の組成を有することを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61098079A JPS62257643A (ja) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | 書き換え可能型光デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61098079A JPS62257643A (ja) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | 書き換え可能型光デイスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62257643A true JPS62257643A (ja) | 1987-11-10 |
Family
ID=14210339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61098079A Pending JPS62257643A (ja) | 1986-04-30 | 1986-04-30 | 書き換え可能型光デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62257643A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62275336A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-30 | Toshiba Corp | 情報記録媒体 |
-
1986
- 1986-04-30 JP JP61098079A patent/JPS62257643A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62275336A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-30 | Toshiba Corp | 情報記録媒体 |
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