JPS62263024A - 磁気デイスク用二軸配向ポリエチレンテレフタレ−トフイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フィルム基材の片面または両面に磁性層が設
けられてなる磁気ディスク、例えば、フロッピーディス
ク、ビデオフロッピーあるいは磁気カメラ用ディスクな
どに適した二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィル
ムに関するものである。

〔従来の技術〕

従来の二軸配向ポリエチレンテレフレタートフィルムを
基材とする磁気ディスクは、記録密度があまり高くない
範囲では問題がなかったが、最近の高密度記録の進歩に
ともなって、記録再生時のトラッキングミスやドロップ
アウトの増加という問題点が多発するようになってきて
いる。これの解決策の一つとしては、特開昭５９−１９
５３２２＠公報に、ポリエステルフィルムとポリオレフ
ィンフィルムとを貼り合せた積層フィルムを基材とする
磁気ディスクが示されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、かかるディスクも基材が積層フィルムで
あるための諸欠点があり、トラッキングミスやドロップ
アウトの完全な解決には至っていないのが現状である。

本発明は、高密度記録用磁気ディスク（９０ＴＰＩ以上
、特に１５０ＴＰＩ以上）のトラッキングミスやドロッ
プアウト問題を大幅に改良することを目的とするもので
あり、そのために好適な基材である二軸配向ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを提供せんとするものである
。

［問題点を解決するための手段］ 本発明は、Ｃ０ＯＨ末喘基含′ｆＪ但が３０当闇／トン
以下のポリエチレンテレフタレートからなり、厚さ方向
の屈折率が１．４９２以下、表面の耐傷指数２％以下、
面内任意の方向の湿度膨脹係数が４Ｘ１０’／％ＲＨ以
上１０Ｘ１０−６／％ＲＨ以下の範囲内にある磁気ディ
スク用二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムを
その骨子とするものである。

本発明でいうポリエチレンテレフタレートとは、８０モ
ル％以上、好ましくは９０モル％以上、ざらに好ましく
は９５モル％以上がエチレンテレフタレートを繰返し単
位とするものであるが、この限定量範囲内で、酸成分お
よび／又はグリコール成分の一部を下記のような第３成
分と置きかえてもよい。

酸成分： イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１．
５−ナフタレンジカルボン酸、２．７−ナフタレンジカ
ルボン酸、４，４°−ジフェニルジカルボン酸、４゜４
−ジフェニルスルホンジカルボン酸、４，４−ジフェニ
ルエーテルジカルポン酸、Ｐ−β　−ヒドロキシエトキ
シ安息香酸、アジピン酸、７ゼライン酸、セバヂン酸、
ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸
、ε−オキシカプロン酸、トリメリット酸、トリメモレ
駿、ピロメリット酸、α、β−ビスフェノキシエタンー
４，４−ジカルボン酸、α、β　−ビス（２−クロルフ
ェノキシ）エタン−４，４°−ジカルボン酸、５−ナト
リウムスルホイソフタル酸など グリコール成分： プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメ
ヂレングリコール、デカメチレングリコール、ネオベン
チレンゲリコール、１，１−シクロヘキサンジメタツー
ル、１．４−シクロヘキサンジメタツール、２，２−ビ
ス（４−β−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、
ビス（４−β−ヒドロキシエトキシフェニル）スルホン
、ジエヂレングリコール、トリエチレングリコール、ペ
ンタエリスリトール、トリメヂロールプロパン、ポリエ
チレングリコールなと。

また、このポリエチレンテレフタレートの中に公知の添
加剤、例えば、耐熱安定剤、耐酸化安定剤、耐候安定剤
、紫外線吸収剤、有機の易滑剤、顔料、染料、有機また
は無機の微粒子、充填剤、離型剤、帯電防止剤、核剤な
どを配合してもよい。

このポリエチレンテレフタレートの極限粘度（２５℃の
オルソクロロフェノール中で測定）は、０゜４０〜１．
２０、好ましくは０．４５〜０．８０、ざらに好ましく
は０．４８〜０．７５ｄｌ／ｇの範囲にあるものが本発
明内容に適したものである。

本発明で用いるポリエチレンテレフタレート（以後ＰＥ
Ｔと略称する）は、それが製膜されてフィルムになった
状態において、ＣＯＯｌ−１末端基含有量が３０当量／
トン以下、好ましくは２５当量／トン以下、更に好まし
くは２０当最／トン以下であることが必要である。ＣＯ
Ｏｌ−１末端基含有量が上記範囲より多いと、それを基
材とする磁気ディスクのトラッキングミスが増大する。

なお、Ｃ０ＯＨ末端基含有量の下限については特に限定
するものではないが、これをＯにすることは実質的に困
難であり、５当母／トン位が実用範囲内における下限と
みなすことができる。ＰＥＴフィルムのＣ０ＯＨ末端基
含有量を少なくする方策は種々あり、特に限定されるも
のではないが、大別すると、ポリマ分解抑制法、同相重
合法、末端基封鎖法などがある。ポリマ分解抑制法の具
体例として　は、ＰＥＴ重合工程における熱履歴を少な
くすることが効果があり、その意味では、いわゆるバッ
チ重合方式よりも連ｔｉｉｆｆ１合方式の方が好ましい
。

また、ＰＥＴを溶融押出して製膜する工程でも、できる
だけ低温で短時間で溶融押出することが有効である。ま
た、フィルムエツジや不合格フィルムを粉砕して、いわ
ゆる回収原料として再使用するのは、フィルムのＣ０Ｏ
Ｈ末端基含有最を増加させやすいので、望ましくない。

固相手合法の具体例としては、ＰＥＴベレットを、真空
中または窒素中で２００℃以上に加熱して、固相重合を
促進させ、ｃ　ｏ　ＯＨ末端基を減らす方法がある。

末端基封鎖法の具体例としては、公知の末端封鎖剤、例
えば、オルソフェニル・フェノキシグリシジルエーテル
、炭酸ジフェニル、ジメチルジフェノキシシランなどを
重合工程または製膜工程でＰＥＴに添加して、Ｃ０ＯＨ
末端旦含有口を減らす方法がある。

次に、本発明フィルムの厚さ方向屈折率（ｎ　ｚと略称
する）は、１．４９２以下、好ましくは１゜４９０以下
、更に好ましくは１．４８８以下であることが必要であ
る。ｎ２の値が上記より大ぎくなると、ドロップアウト
の数が増える傾向があり、また、トラッキングミスも増
大するので、本発明目的に合致しないものとなる。なお
、ｎ２の下限の値は必ずしも限定されるものではないが
、ｎ７の値が小さくなるほど、フィルム厚さ方向の強度
が弱くなり、ディスクとした時の厚さ方向の強靭さに問
題が出るので、１．４７０付近が実用的な下限値とみな
すことができる。

次に、本発明フィルムの表面の耐傷指数は、２％以下、
好ましくは１％以下、更に好ましくは０゜５％以下であ
ることが必要である。耐傷指数が上記値より大きくなる
と、ドロップアウトの数が増加するので、本発明目的に
合致しなくなる。

′耐傷指数の下限値は、当然、０％が最も好ましいもの
であるが、これを達成するのは極めて難しいので、実質
的下限は０．０１％程度とみなしておくのが妥当である
。

耐傷指数を上記範囲内に納める方法は必ずしも限定され
るものではないが、例えば、ＰＥＴフィルム中に、カル
ナウバワックス、モンタン酸ワックス、ライスワックス
あるいは合成ワックスなどのワックス類、シリコン系界
面活性剤類、フッ素系界面活性剤類を０．０１〜０．２
重量％程度含有せしめておくのが有効である。また、フ
ィルム表面の粗大突起密度、つまり、突起の高さが０゜
８７μｍ以上の粗大な突起の単位面積当りの個数を２個
／Ｃｉ以下、より好ましくは１個／−以下、さらに好ま
しくは０．５個／−以下にすることによっても、耐傷指
数を大幅に低下させることができる。粗大突起密度を上
記範囲内に納める手法として最も効果があるのは、未延
伸シートを作る溶融押出工程で、溶融したＰＥＴを精密
ｒ過することである。ｒ適用のフィルターとしては、金
属繊維あるいは金属粉末を焼結したものが好ましく、シ
濾過限界は５μｍカット、好ましくは３μｍカット、更
に好ましくは２μｍカットのものを用いることが望まし
い。

次に、本発明二軸配向ＰＥＴフィルムの湿度膨脹係数は
、（４〜１０）ｘｌｏ−６／％ＲＨ１好ましくは（４〜
８）Ｘ１０’／％ＲＨの範囲内にあることが必要である
。湿度膨脹係数の値が上記範囲より大きくなると、記録
密度の高い磁気ディスク（例えば、１〜ラック密度１０
０ＴＰ１以上のフロッピーディスクなど）では、記録再
生時にトラッキングミスを起こしやすくなり、信号の正
確な再生が難しくなる。また、湿度膨脹係数の値が上記
範囲より小さくなると、ディスク製造工程でディスクを
打ら恢く時、割れたり、ひびが入ったり、あるいは打ち
後ぎ端面がギザギザになったりするので本発明目的に適
さなくなる。なお、湿度膨脹係数の値は、フィルム面内
、すなわち、フィルムの長手方向、幅方向あるいは斜め
方向のいずれの方向でも上記範囲内にあることが必要で
ある。ある方向の値が本発明範囲内に入っており、他の
方向の値が入っていないようなフィルムでは、磁気ディ
スクにした時、湿度変化による寸法変化がディスクの円
周の方向によって異なることになり、やはりトラッキン
グミスの原因となる。

次に本発明フィルムの製造方法について説゛明する。実
質的に粒子を含まない高純度のＰＥＴペレット（２５℃
のＯ−クロロフェノール中で測定された極限粘度０．４
９ｄｌ／ｃ＋）を回転型真空重合装置の中に入れ、固相
重合を行なう。この同相重合されたペレットに、マスタ
ーペレットの形でカルナウバワックス、メヂルフェニル
ポリシロキザン、末端封鎖剤であるＯ−フェニル・フェ
ノキシグリシジルエーテルおよび微粒子として、コロイ
ダルシリカを添加し、これを押出機に供給して、できる
　゛だけ低い温度、例えば２７５°Ｃ（溶融ポリマの温
度）で溶融押出する。この溶融押出系内は、できるだ（
プ高い真空度、例えば、１０ｍＩＴｌｔ（ｑに保ら、か
つ、ポリマの溶融押出系内滞留時間（押出機ホッパー根
元から原料が押出機内にかみ込まれてから、口金から出
てくるまでの平均時間）をできるだけ短く、例えば１５
分以内とする。また、押出機と口金の間に、精密；濾過
装置を入れ、この装置で、溶融ポリマ中の粗大粒子や異
物を除去することが重要であり、できれば、５μｍより
大きいものは除去できる。いわゆる５μｍカットのフィ
ルター、更に望ましくは３μｍカットのフィルターを用
いると好結果が得られやすい。このようにシ濾過された
溶融ポリマを口金に導いて、シート状に成形し、この溶
融シートを、冷却ドラムに巻きつけて冷却固化せしめて
、未延伸フィルムを作る。この冷却固化に際して、溶融
シートと冷却ドラムとの密着性を向上させるために、高
電圧電極を溶融シート側にセットし、励起される静電荷
を利用する、いわゆる静電キャスチング方法を用いても
よい。かくして得られた未延伸フィルムを８０〜１３０
’Ｃの温度に加熱して、二軸方向に各々２．５〜３゜５
倍第一次二軸延伸とする。この第一次二軸延伸は、同時
二軸延伸あるいは逐次二軸延伸のいずれでもよい。この
ように第一次二軸延伸されたフィルムを、第一次二輪延
伸中に用いられた温度の中で最高の温度よりも５℃以上
高く、かつ、俊述する第二次二輪延伸温度よりは低い範
囲の温度で、０．５〜５秒間程度熱処理し、次いで。再
び二軸方向に各々１．５〜２．５倍、同時二軸延伸する
。

この時の温度は、前述の熱処理温度よりも高く、かつ、
１９０℃よりも低い範囲の温度が望ましい。

かくして、第二次二輪延伸されたフィルムを、第二次二
輪延伸温度より５℃以上高く、２３０’Ｃよりも低い範
囲の温度で、０．５〜３０秒間、熱処理する。この熱処
理中に、二軸方向に、各々０゜１〜５％の弛緩を与える
のが極めて望ましい。熱処理されたフィルムを、１００
〜１５０℃の温度範囲で中間冷却し、次いで、室温まで
徐冷することにより、本発明二軸配向ＰＥＴフィルムが
得られる。

以上に述べたような方法で作られる本発明フィルムの片
面または両面に、公知の手法で磁性層を設け、ディスク
状に打ら扱くことによって、磁気ディスク、例えばフロ
ッピーディスクを作ることができる。勿論、本発明フィ
ルム表面に、コロナ放電処理とかプラズマ処理など公知
の表面処理を施したり、あるいは公知のアンカーコート
剤を塗布したりして、磁性層との接着性を改良すること
もできる。また、磁性層としては、強磁性金属またはそ
の酸化物の微粒子をバインダー中に分散させて、それを
塗布する塗布型の磁性層、あるいは、強磁性金属または
その酸化物を、蒸着、スパッター、イオンブレーティン
グあるいはメッキのような手法で薄膜化して作る薄膜型
の磁性層のいずれでも用いることができる。磁性による
記録の方法は、水平記録おるいは垂直記録のいずれでも
よい。

なお、本発明フィルムの表面をコロナ放電処理、火炎処
理、間化性薬品による酸化処３！ｌ！おるいは低温プラ
ズマ処理などで活性化し、表面の濡れ張力を高くする（
あるいは、表面の水滴に対する接触角を低くする）こと
は、フィルム表面と磁性層との接着層を向上させ、ひい
ては、磁気ディスクの品質を向上させることになる。ま
た、同じような意味で、本発明フィルムの片面または両
面に、各種のコーティング層あるいは下塗り層を設ける
ことは、磁性層との接着性改良だけではなく、静電ノイ
ズの防止などにも有効である。

〔作用〕

本発明フィルムは、フィルム面内の任意の方向における
湿度膨脹係数が小さく、しかも各方向にお（プる湿度膨
脹係数の値の差も小さいので、このフィルムを基材とし
て作った磁気ディスクは環境湿度の変化による記録再生
のエラー（トラッキングミス）が少ないという利点があ
る。また、逆に言えば、磁気ディスクのトラック密度を
あげて、記録密度を高めることができる。また、本発明
フィルム表面は、傷がつぎにくく、また、表層が削れた
りしにくいという特徴があるので、このフィルムを基材
として磁気ディスクを作ると、ドロップアウトの数が少
なくなるという利点がある。

〔測定および評価方法〕

本発明で用いた測定および評価方法を以下にまとめて示
しておく。

湿度膨脹係数（β）： フィルム試料から、測定すべき方向を長手として、長さ
１００ｍｍ、幅１０ｍｍの試片を切り出し、これを、恒
温恒湿槽内に定張力微小変位計（日本自動制御（株）製
）を組み込んだ伸縮測定器に初期長さＣ０でセットする
。張力は１０Ｃｌ／Ｍ２一定とし、かつ、槽内雰囲気を
２０℃、３５％Ｒ１−１一定として、変位計出力が安定
するまで、数十分ないし数時間放置する。この安定した
時の出力をｘｌとする。次に、張力、温度は一定のまま
にして、湿度を８５％ＲＨまで上げて、再び出力が安定
するまで数十分ないし数時間放置する。この安定した時
の出力を×２とする。（Ｘ２−Ｘｌ）を試片の長さ変化
に換算した値をΔαとすると、湿度ＷＢ服係数（β）は
次式に求められる。

β＝Δ（１／　（５０）ｎｏ　） 耐傷指数二 対象とするフィルムから、艮ざ２５０ｍｍ、幅１２．５
ｍ１Ｔｌのテープ状サンプルを切り出す。この時、フィ
ルムの長手方向をテープの長手方向に合せる。

このテープ状サンプルの両端を固定し、４　ｋｌ　／　
ｍｍ２の張力をかけてぴんと張り、その中央部に片刃の
レザー刃を押しあてる。この時、刃は真下を向くように
し、試料長手方向に対して直角の方向に向ける。押しあ
てる力は、その刃によって、フィルムが５ｍｍたわむよ
うな力とする。次いで、このレザー刃を、４ｍ／分の速
度で動かし、フィルム表面を１０回こする。次に、この
フィルムサンプルを取外し、ベサジャ一式蒸着機を用い
て、こすったフィルム表面に、アルミニウムを蒸着する
。

次に、微分干渉顕微鏡で蒸着表面を観察し、拡大倍率１
０００倍で、任意の部分について５０視野の写真をとる
。この５０枚の写真の各々について、傷がついている部
分をマークし、５０枚すべてについている傷の部分の面
積を合計し、この合計面積を５０枚の写真の全面積の合
計面積で割り、１００を乗じた値を耐傷指数（％）とす
る。この耐傷指数の値が小ざいフィルムはど、フィルム
の実用過程で表面に傷がつきにくく、すぐれたフィルム
であると言うことができる。

粗大突起密度： フィルム表面に存在する突起のうち、高さが０゜８７μ
ｍ以上のものの個数（ｉｏａｆ当り）で表示する。測定
方法は、フィルムを平滑なガラス表面に押しつけて密着
せしめ、フィルム表面を単色光（ナトリウムＤ線）で照
射した時に、突起の周囲に生じるニュートン環を顕微鏡
観察し、三重以上のニュートン環を生じる突起の数を、
フィルム面積１０−にわたって数え、この数を１ｄ当り
に換算して求める。

厚さ方向屈折率： ＡＳＴＭ　　Ｄ５４２−５０に記載されている方法に準
じて、アラへの屈折計で測定した。なＪ３、接触液には
ヨウ化メチレンを用い、光源には、ナトリウムランプを
用いた。

Ｃ０ＯＨ末端基含有」： Ａｎｄｒｅ’　Ｃｏｎ１ｘ：ｌ’ｌａｋｒｏｍｏ１．　
Ｃｆ１ｃｍ、Ｖｏｌ、２６．２２６〜２３５　（１９５
８）記載の方法（ベンジルアルコールにＰＥＴ試料を溶
解し、これを水酸化ナトリウム水溶液で滴定する）で測
定した。

フロッピーディスクの製造と特性評（ｉ［ｔｉ：厚さ７
５ミクロンのフィルムの両面に、下記の磁性塗料を塗布
し、乾燥して、磁性層厚さを１ミクロンとした後、円板
状に打ち扱いて、直径５インチのフロッピーディスクを
作った。

ＣＯ含有７−　Ｆ　ｅ　２０３粉末　　：４５ｆｆｌｆ
ｆ１部塩化ビニル酢酸ビニル共単合体：１７重量部アク
リロニトリル・ブタジェン：　　３ｆｆｌｆｆｉ部共重
合体 ポリイソシアネート　　　　　：　１重量部メヂルイソ
ブヂルケ１〜ン　　　：、５０ｔω部トルエン　　　　
　　　　　　：５０重量部カーボンブラック　　　　　
　＝　４重量部このディスクを、９６ＴＰＩのミニフロ
ッピーディスクドライブに装着し、２０℃２０％Ｒ１−
１の環境下で記録した後、２０℃８０％ＲＨの環境下で
再生して、その時の出ツノ低下の大小によりトラッキン
グミスの大小を判断した。また、ドロップインアウトカ
ウンターを用いて、同一種類のディスク１０枚について
ドロップアウトの個数を計り、これをディスク１枚当り
に換算して、ドロップアウト個数とした。

（実施例） 次に実施例および比較例によって、本発明の実施態様を
示すが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。

実施例１ 極限粘度０．４８ｄｌ／ｇの実質的に内部に粒子を含ま
ないＰＥＴチップを、２２０℃、１５時間、１ｍｍＨ（
ｌの真空下で同相重合し、これに、オルソフェニル・フ
ェノキシグリシジルエーテル２モル％、メチルフェニル
・オルガノポリシロキサンｉｏｐｐｍカルナウバワック
ス０．１ｆｆｉｆｆｉ％および微粒子シリカ（粒径２０
ミリミクロン）０．３重量％を添加して、押出機に供給
し、ポリマ温度２７３℃で溶融押出した。このと時、押
出系内を２０ｍｍ１ｌ（］の真空度に保ち、かつ、ポリ
マの溶融押出系内平均滞留時間を１０分間とした。

押出機から出てきた溶融体を、３ミクロンカットの性能
を持つ金属繊維焼結フィルターを通して；濾過し、次い
でＴ型口金でシート状に成形し、これを表面温度５０℃
の冷却ドラムに巻きつけて冷却固化せしめて、厚さ約２
．４ｍｍの未延伸シートを作った。冷却ドラムと溶融体
との密着性を向上せしめるため、溶融体側にワイヤ電極
を置き、これに１万Ｖの直流を印加して、冷却時の均一
性を保持した。この未延伸シートを９０℃に予熱した後
、赤外線ヒーターで加熱しつつ、長手方向に、３．３倍
延伸し、ただちに２０℃まで冷却した。

次いで、これを１００℃の熱風で予熱した後、１０５℃
の熱風中で、幅方向に３．３倍延伸した。

次に、このフィルムを１４０℃の熱風中で２秒間熱処理
した後、同時二軸延伸式ステン夕へ送り込み、１５０℃
の熱風で加熱しつつ、長手方向、幅方向同時に、各々１
．７倍づつ延伸し、次いで、二軸方向１％つづの弛緩を
与えつつ、２００℃の熱風中で１０秒間熱固定した後、
１２０℃の熱風中で５秒間、中間冷却し、次いで、徐冷
して室温と巻取り、厚さ７５ミクロンの二軸配向ＰＥＴ
フィルムを得た。このフィルムおよびこれを用いて作っ
たフロッピーディスクの特性を表１に示す。

実施例２ 極限粘度０．４６ｄｌ／（Ｊの実質的に内部に粒子を含
まないＰＥＴチップを、２３０℃、５時間、１ｍｍ１ｌ
（ｌの真空中で加熱処理し、次いで、同じ真空度で１９
５℃、８時間加熱処理して、固相重合した。

このチップに、マスターペレットの形で、炭酸ジフェニ
ル０．５型組％、ジメチルポリシロキザン’１５ｐｐｍ
、モンタン酸ワックス０．１重量％およびコロイダル酸
化チタン（粒径１６０ミリミクロン）０．４重量％を添
加して、以後は実施例１と同様の手法により、厚さ７５
ミクロンの二軸配向ＰＥＴフィルムを得た。このフィル
ムおよびこれを用いて作ったフロッピーディスクの特性
を表１に示す。

比較例１ 通常、市販されている二軸配向ＰＥＴフィルム（厚さ７
５ミクロン）およびそれを用いて作ったフロッピーディ
スクの特性を比較用として表１に示す。なお、このフィ
ルムの製法の概要は次の通りである。

極限粘［０，６２のＰＥＴチップ（Ｃａ−Ｌｉ・Ｐ系析
出粒子を約０．２５重量％含有）を、５０ｍｍ１ＩＱの
真空中で、１８０℃、６時間乾燥する。

このチップを押出懇に供給して、ポリマ温度２９０℃で
溶融押出する。押出系内の真空度は、１００ｍｍＨ９、
ポリマの溶融押出系内平均滞留時間は２０分間でおる。

この溶融ポリマを、１５ミクンカツトのフィルターを通
して一過し、次いで、Ｔ型口金でシート状に成形し、こ
れを表面温度６０’Ｃの冷却ドラムに巻きつけて冷却固
化せしめ、厚さ約０．９ｒｎｍの未延伸シートとする。

このシートを約９０°Ｃに加熱して、長手方向に３．４
倍延伸し、次いで、１００°Ｃに加熱して、幅方向に３
．８倍延伸し、引続いて、２２０°Ｃに加熱して、約５
秒間の熱処理を行なう。この熱処理中に、フィルム幅方
向に約５％の弛緩を与える。次いで、室温まで徐冷する
ことにより、通常の二軸配向ＰＥＴフィルムが得られる
。

表　　　１ 以上の結果から、本発明フィルムは、従来の二軸配向Ｐ
ＥＴフィルムに比べて、各方向の湿度膨脹係数が小さく
、しかも方向による差も小さいことがわかる。また、耐
傷指数、粗大突起密度ともに優れているので、フロッピ
ーディスク用基材として用いると、トラッキングミスや
ドロップアウトの少ないディスクが１ｑられることか明
らかである。

（発明の効果〕 本発明フィルムは、フィルム面内各方向の湿度膨脹係数
が小さく、しかも方向差も少ないので、磁気ディスク用
基材として用いると、１〜ラツギングミスの少ないディ
スクが得られる。また、トラッキングミスが少ないので
、ディスクの記録密度を高くすることができる。また、
本発明フィルムは、表面の耐傷指数が小さくて良好ゆえ
、ディスクのドロップアウト減少にも有効である。

本発明ＰＥＴフィルムは、上記の如く、磁気ディスク用
基材に適しているが、特にまた、フロッピーディスク用
基材として有用である。また、記録密度の高い（例えば
１００ＴＰＩ以上）フロッピーディスク用基材としては
、とりわけ優れたものである。本発明フィルムは、その
伯、ビデオフロッピーディスク用基材あるいは磁気カメ
ラ用ディスクの基材としても有用である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ＣＯＯＨ末端基含有量が３０当量／トン以下のポリエチ
   レンテレフタレートからなり、厚さ方向の屈折率が１．
   ４９２以下、表面の耐傷指数２％以下、面内任意の方向
   の湿度膨脹係数が４×１０＾−＾６／％ＲＨ以上１０×
   １０＾−＾６／％ＲＨ以下の範囲内にある磁気ディスク
   用二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム。