JPS622632B2

JPS622632B2 -

Info

Publication number: JPS622632B2
Application number: JP58040449A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiro Hirooka
Original assignee: Kawasaki Steel Corp
Current assignee: JFE Steel Corp
Priority date: 1983-03-11
Filing date: 1983-03-11
Publication date: 1987-01-21
Also published as: JPS59166676A

Description

【発明の詳細な説明】本発明の技術分野はめつき工程における化学処
理液による表面の処理方法に関するもので、さら
に詳しくは処理ラインのスピードに対応して化学
処理時間を調整する方法に関する。

一般に、めつき工程においては、製品に対する
めつき処理と、めつき処理の前において製品の表
面を処理する前処理と、めつき処理後になされる
めつき表面への後処理とから成るが、これらの処
理は連続して一つの処理ライン上でなされる。そ
して、必要なめつき量に従つてラインのスピード
は変動する。

以上の事情を電気亜鉛めつき工程において説明
する。電気亜鉛めつき工程の製品構成の中で、60
〜70％の製品はめつき後に化学処理を施こす必要
がある。そして化学処理の内容としては、めつき
された亜鉛の表面に塗装される塗料の密着性と亜
鉛の耐食性を目的として行なわれるリン酸塩処理
と、亜鉛の耐食性を目的として行なわれるクロム
酸処理等がある。これらの化学処理は従来、板状
製品であるストリツプをリン酸塩液またはクロム
酸塩液等の処理液に浸漬するか、スプレーノズル
によつてストリツプにこの処理液をスプレーする
かいずれかの方式で行なわれるのが通例であつ
た。これらの化学処理によつて亜鉛表面に形成さ
れる被膜量はリン酸塩処理およびクロム酸処理と
も適正量があり、従つて、浸漬時間またはスプレ
ー時間等の処理時間が定められている。そして、
めつきと化学処理は連続した流れの中で行なわ
れ、めつきラインと化学処理ラインが連続して形
成される。電気亜鉛めつきラインにおいてはスト
リツプにめつきされるべきめつき量は３g/m²〜
30g/m²程度まであり、めつき付着量の増加に比
例してライン全体のスピードは減少する。このラ
インスピードの変動は化学処理ラインにとつては
好ましいものではないが、めつきラインにおいて
は不可避であり、これに対応するために化学処理
ラインではラインスピードの変動によつてある程
度の処理時間の調整が可能な形式になつている。

この処理時間の調整の方法を、まず従来の浸漬
方式について説明する。浸漬方式では処理槽を２
〜３槽に槽を区分し、ラインスピードの早い場合
は全槽を、遅い場合は一部の槽のみを用いて処理
時間を一定にする。この浸漬方式のうち、一従来
例を第１図において説明する。即ち、ストリツプ
１は２槽に区分された処理槽２，３によつて化学
処理される。処理槽２，３の前後には、処理液が
ストリツプ１上に滞留するのを防止するための絞
りロール４，４′、およびストリツプ１を沈める
ためのダムロール５，５′が備えられている。さ
らに処理槽２，３の内部には内部槽６，７があ
る。通常、前の槽２はラインスピードの如何に拘
らず使用され、後の槽３がラインスピードに応じ
て使用する時としない時があり、この後の槽３に
おいて処理液の要、不要が生じ、その切換時に処
理液面がストリツプ１を上下するため、処理に不
均一性を発生させることになるものであつた。

次に従来のスプレー方式について処理時間の増
減の方法を説明する。スプレー方式では通常４区
分程度に区分され、ラインスピードの低下に応じ
て使用する区分の数を４，３，２，１とし、スプ
レヘツダーの使用総数を減少して処理する。この
スプレー方式の一従来例を第２図において説明す
る。処理槽８，９の内部には、ストリツプ１に向
かつてストリツプ１の上下に多数のスプレーノズ
ル２０，２１が設けてあり、４つの区分１０，１
１，１２，１３毎に使用可能なように、図示しな
いポンプ、または自動弁が４つの区分毎に設けら
れている。また、処理液がストリツプ１上で滞留
しないように絞りロール１４，１４′が各区分間
に設けられている。ラインスピードが減少してい
く場合には第１区分１３より順次第２区分１２、
第３区分１１と処理液供給を止めることにより処
理時間を一定にする。ところが、第３図に示すご
とく各区分においてスプレーノズル２０，２１は
ストリツプ１幅方向にも並べられており、ストリ
ツプ１より上のノズル２０から処理液供給停止後
の液落ちが発生してしまうものであつた。またス
プレー方式ではストリツプ１の幅方向に通常10ケ
程度のスプレーノズル２０，２１が取り付けられ
るのでその合計数は200ケ以上にもなりノズル詰
りの点検、あるいは交換にかなりの時間を要する
ものであつた。

以上の従来方式の長点欠点について以下まとめ
る。まず、従来の浸漬方式は、ラインスピードが
一定ならば装置が単純であり被膜外観にむらがな
く一様な処理が可能であるが、ラインスピードの
変更が生じ槽数を変える時に処理液面の増減に
時間を要すること、また処理液面がストリツプ
近くになるときは処理液がストリツプに不規則に
触れることになり被膜の外観にむらが生じ、製品
にはならないという欠点があつた。次に従来のス
プレー形式は、ラインスピードの変化に比較的対
応が容易であるが、スプレーノズルによる均一
な処理は難かしく、またノズルの詰りによる処
理むらが生じることが多かつた。加えて最大の欠
点は処理液の供給を止めても時間を経てからノ
ズル先端から処理液が落ちることがあるというも
のであり、他の化学処理を行なつている場合に落
ちると不良品の発生になるものであつた。

以上の浸漬方式とスプレー方式における欠点
は、以上述べた従来例の電気亜鉛めつき工程にお
ける後処理の場合に限らず、他のめつき工程の後
処理についても言えるものである。

本発明の目的は、めつき工程の後処理におい
て、ラインスピードの変動に拘らず均一な化学処
理を行なえ、さらに、ラインスピードの変動に対
応するときに処理液面が製品を上下して処理むら
を生ずることもなく、かつスプレー方式のように
均一な処理が困難となることのない処理方法を提
供するものである。

本発明の概要は、化学処理をはじめ浸漬方式に
よる処理で行ないその後スプレー方式による複数
のスプレー区分によつて処理を行なうものであ
り、ラインスピードが速くなれば使用するスプレ
ー区分の数を増加し、遅くなれば使用するスプレ
ー区分を減少することを特徴とするものである。
浸漬方式に用いる浸漬槽の長さは最小のラインス
ピード時の処理時間に合わせることが望ましい。
即ち浸漬槽はどのようなラインスピード時にも常
時使用状態にある。スプレー方式に用いるスプレ
ー区分はラインスピードの変動量が少ない場合は
１〜２区分、多い場合は３〜４区分程度設置する
のが望ましい。ラインスピードの変動量は、めつ
き電源容量と製品のめつき付着量によつて決定さ
れる。が、これによるラインスピードの変動にか
かわらず、化学処理が均一な密度でなされ、浸漬
方式、スプレー方式の各々の欠点を相殺できるも
のである。

また、スプレー区分において、製品の上面に対
してはサイドスプレーを採用することにより、処
理液供給停止後にスプレーノズルの先端から処理
液が落ちて、むらを生じることを防止できる。

次に、第４図に示す実施例によつて具体的に説
明する。ラインの最大スピードは150m/min、め
つきの電源容量は片面75KAずつの合計150KAで
あり、処理すべきストリツプ１の幅は1000mmであ
る。めつきの付着量が片面当り順次10g/m²、20
g/m²、30g/m²と変更されるとき夫々のラインス
ピードはこれに対応して順次、144m/min、72m/
ｍｉｎ、48m/minと変更される。処理区分は2m長
さの浸漬槽から成る浸漬区分１５と、これに続く
２つの1.5m長さのスプレー区分１６，１７と、
さらに続く２つの2.5m長さのスプレー区分１
８，１９との５区分になつている。浸漬区分１５
の先後には絞りロール４，４′およびダムロール
５，５′が備えられている。各スプレー区分１
６，１７，１８，１９の先後には絞りロール４，
４′が備えられ、ストリツプ１の上下にはストリ
ツプ１に向かつて多数のスプレーノズル２０，２
１が設けられている。このうち上側のノズル２０
は、ストリツプの幅よりも横に設けられ斜めにス
プレーするように構成されている。ストリツプ１
が浸漬およびスプレーにより処理液に接触してい
る処理時間は、約４秒程度が標準であり、この処
理時間を満たすため各ラインスピードに対して次
のように処理槽を使用する。144m/min（10g/
m²）時は全区分を使用し、72m/min（20g/m²）
時ははじめの３つの区分１５，１６，１７を使用
し、48m/min（30g/m²）時ははじめの２つ区分
１５，１６を使用する。本実施例においては上側
ノズル２０は、液落ち防止のため、第５図のごと
くストリツプ幅より横に設けられ、斜めにスプレ
ーするサイドスプレー方式をとつている。リン酸
塩およびクロム酸両処理とも最初の反応が一様で
あることが重要であるが、この要請は最初に浸漬
槽で処理することにより満され、その後のスプレ
ーは完全に一様性でないものでも処理むらが発生
しないため、前記サイドスプレー方式が採用でき
るものである。なお、サイドスプレーはストリツ
プの長手方向に左右交互に配置するのが望まし
い。

本実施例による効果をまとめると、従来の浸
漬方式のようにラインスピードの変動への対応に
時間を要することがなく、ポンプまたは自動弁の
切換えによつて迅速に対応できる。また、この
対応時に処理液面がストリツプを上下して被膜外
観にむらを生ずることもない。さらに、最初の
化学処理反応が浸漬槽で一様になされるため、従
来のスプレー方式のように均一な処理が困難であ
るということもない。また、ノズルの数が大幅
に減少するため、ノズルの詰りによる処理むらが
減少し、ノズルの先端から処理液が落ちること
も減少する。さらにサイドスプレーを採用してい
るため処理液が誤つて落ちても、不良品の発生す
るのを防止できる。

本発明のめつき工程の化学処理方法によれば、
ラインスピードの変動に拘らず均一な化学処理を
行なえ、さらに、ラインスピードの変動に対応す
るときに処理液面が製品を上下して処理むらを生
ずることもなく、かつスプレー方式のように均一
な処理が困難となることもない。

また、処理液供給停止後にスプレーノズルの先
端から処理液が落ちて、製品の不良品を発生する
ことを防止できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の浸漬方式による化学処理ライン
の側面図、第２図は従来のスプレー方式による化
学処理ラインの側面図、第３図は第２図の正面断
面図、第４図は本発明に係る一実施例の化学処理
ライン側面図、第５図は第４図の正面断面図であ
る。１…ストリツプ、２，３…処理槽、４，４′…
絞りロール、５，５′…ダムロール、６，７…内
部槽、８，９…処理槽、１０，１１…スプレー区
分、１４，１４′…絞りロール、１５…浸漬区
分、１６，１７，１８，１９…スプレー区分、２
０，２１…スプレーノズル。

Claims

【特許請求の範囲】

１製品に対するめつき処理に引き続きリン酸塩
処理もしくはクロム酸処理の後処理を施すにあた
り、はじめ浸漬方式による処理がされ、ついで複
数のスプレーを区分を有し且つ前記製品の上面に
対してはサイドスプレーを採用したスプレー方式
による処理がされるものであり、ラインスピード
が速くなれば、使用するスプレー区分の数を増加
し、遅くなれば使用するスプレー区分の数を減少
することを特徴とするめつき工程の化学処理方
法。