JPS6227361B2 - - Google Patents
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- JPS6227361B2 JPS6227361B2 JP1736478A JP1736478A JPS6227361B2 JP S6227361 B2 JPS6227361 B2 JP S6227361B2 JP 1736478 A JP1736478 A JP 1736478A JP 1736478 A JP1736478 A JP 1736478A JP S6227361 B2 JPS6227361 B2 JP S6227361B2
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
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- Optical Filters (AREA)
Description
本発明は、適切な半値巾を有し、良好なる反射
特性を有するダイクロイツク膜に関するものであ
る。 ダイクロイツク膜は、通常高屈折率層と低屈折
率層の交互層より成るものである。従来、ダイク
ロイツク膜の構成としては、高屈折率層Hと低屈
折率層Lの基本膜厚が3:1(以下H:L=3:
1の如く略記する)のものが用いられ、従来はそ
の基本膜厚がH:L=3:1のものが多用されて
いる。この構成においては、3色分解光学系の特
に青反射ダイクロイツク膜の半値巾が充分に取れ
ず、青チヤンネルの効率を高める為にはこの半値
巾を広げる事が必要となる。この要求に従つて、
特願昭52−71896ではH:L=3:1構成と、
H:L=1:1構成を混在させ半値巾を広げる方
法が示されている。この方法では、半値巾の拡大
は可能であるが、透過帯でのリツプルを除去する
為に、中間層にリツプル除去の為の膜厚を有する
抑制層を設ける必要があり、蒸着の手順が複雑と
なり製作に技術を要する。 本発明の目的は、適切なる半値巾を有し、反射
特性が秀れていて且つ製造が容易なダイクロイツ
ク膜を提供することにある。 本発明に係るダイクロイツク膜においては、基
本的膜厚がH:L=1:3の膜においては半値巾
が拡大することに着目し、基本的膜厚がH:L=
3:1の構成とH:L=1:3の構成を有効に組
み合わせたものである。そして、その構成によ
り、半値巾が適切であり、入射光線の角度による
反射特性の変化が少なく、且つ製造の容易なダイ
クロイツク膜を得るものである。以下図面を併用
し、本発明を詳述する。 第1図は、高屈折率層に分散がないと仮定した
時の、基本となる膜厚構成がH:L=3:1(実
線)とH:L=1:3(破線)のそれぞれの入射
角0度に対する透過率特性曲線を示す図で、縦軸
に透過率T、横軸に波長λが取られている。第1
図に示す実線11及び破線12に対応するデータ
を第1表に示す。第1図に示す様に、高屈折率層
に分散が無ければ、半値巾はいずれの構成におい
ても等しいが、実際には高屈折率の物質は分散を
有する為、半値巾は等しくならない。
特性を有するダイクロイツク膜に関するものであ
る。 ダイクロイツク膜は、通常高屈折率層と低屈折
率層の交互層より成るものである。従来、ダイク
ロイツク膜の構成としては、高屈折率層Hと低屈
折率層Lの基本膜厚が3:1(以下H:L=3:
1の如く略記する)のものが用いられ、従来はそ
の基本膜厚がH:L=3:1のものが多用されて
いる。この構成においては、3色分解光学系の特
に青反射ダイクロイツク膜の半値巾が充分に取れ
ず、青チヤンネルの効率を高める為にはこの半値
巾を広げる事が必要となる。この要求に従つて、
特願昭52−71896ではH:L=3:1構成と、
H:L=1:1構成を混在させ半値巾を広げる方
法が示されている。この方法では、半値巾の拡大
は可能であるが、透過帯でのリツプルを除去する
為に、中間層にリツプル除去の為の膜厚を有する
抑制層を設ける必要があり、蒸着の手順が複雑と
なり製作に技術を要する。 本発明の目的は、適切なる半値巾を有し、反射
特性が秀れていて且つ製造が容易なダイクロイツ
ク膜を提供することにある。 本発明に係るダイクロイツク膜においては、基
本的膜厚がH:L=1:3の膜においては半値巾
が拡大することに着目し、基本的膜厚がH:L=
3:1の構成とH:L=1:3の構成を有効に組
み合わせたものである。そして、その構成によ
り、半値巾が適切であり、入射光線の角度による
反射特性の変化が少なく、且つ製造の容易なダイ
クロイツク膜を得るものである。以下図面を併用
し、本発明を詳述する。 第1図は、高屈折率層に分散がないと仮定した
時の、基本となる膜厚構成がH:L=3:1(実
線)とH:L=1:3(破線)のそれぞれの入射
角0度に対する透過率特性曲線を示す図で、縦軸
に透過率T、横軸に波長λが取られている。第1
図に示す実線11及び破線12に対応するデータ
を第1表に示す。第1図に示す様に、高屈折率層
に分散が無ければ、半値巾はいずれの構成におい
ても等しいが、実際には高屈折率の物質は分散を
有する為、半値巾は等しくならない。
【表】
第2図及び第3図は高屈折率物質に分散を考慮
した時の特性を示す図で、第2図はH:L=3:
1の場合を、第3図はH:L=1:3の場合を示
す。第2図及び第3図の透過率特性曲線に対応す
る膜構成は第1表に示す構成と同じであるが、異
なる点は高屈折率層の屈折率nHがnH=2.07+
11/λ−318(但しλは波長で、単位はnm)に従
つ て変化することである。第2図及び第3図におい
て、実線21,31は、入射光線の入射角が0度
の場合の特性を、破線22,32は、入射角が
44.6゜の場合の特性を示す。第2図及び第3図か
ら明らかな様に、H:L=3:1の特性はH:L
=1:3の特性に比して入射角0度において明ら
かに半値巾が狭く、入射角43.6度では反射ピーク
を同一波長に移動させて比較すれば、この傾向は
より顕著なものとなる。即ち、H:L=1:3の
構成の方が、H:L=3:1の構成よりも半値巾
が広く、半値巾に関してはH:L=1:3の構成
が好ましい。 一方、入射角が0度に比して43.6度の場合、特
性曲線が短波長側へシフトする移動量は、H:L
=3:1の構成の方がH:L=1:3の構成に比
して小さい。従つて入射光束の角度依存性におい
てはH:L=3:1の構成の方が優れている。 第4図は、本発明に係るダイクロイツク膜の透
過率特性曲線を示すものであり、実線は光線の入
射角が0度、破線は44.6度の場合の特性を示して
いる。第4図に示す特性曲線に対応する膜構成の
データを第2表に掲示する。但しnHはnH=2.07
+11/λ−318(λは波長、単位はnm)に従つて
変 化するものであり、基準波長はλ0=484nmで
ある。第2表に示す如く、本発明の膜構成は、高
屈折率の基本層として3/4λ0と1/4λ0を混在せ
し め、又低屈折率
した時の特性を示す図で、第2図はH:L=3:
1の場合を、第3図はH:L=1:3の場合を示
す。第2図及び第3図の透過率特性曲線に対応す
る膜構成は第1表に示す構成と同じであるが、異
なる点は高屈折率層の屈折率nHがnH=2.07+
11/λ−318(但しλは波長で、単位はnm)に従
つ て変化することである。第2図及び第3図におい
て、実線21,31は、入射光線の入射角が0度
の場合の特性を、破線22,32は、入射角が
44.6゜の場合の特性を示す。第2図及び第3図か
ら明らかな様に、H:L=3:1の特性はH:L
=1:3の特性に比して入射角0度において明ら
かに半値巾が狭く、入射角43.6度では反射ピーク
を同一波長に移動させて比較すれば、この傾向は
より顕著なものとなる。即ち、H:L=1:3の
構成の方が、H:L=3:1の構成よりも半値巾
が広く、半値巾に関してはH:L=1:3の構成
が好ましい。 一方、入射角が0度に比して43.6度の場合、特
性曲線が短波長側へシフトする移動量は、H:L
=3:1の構成の方がH:L=1:3の構成に比
して小さい。従つて入射光束の角度依存性におい
てはH:L=3:1の構成の方が優れている。 第4図は、本発明に係るダイクロイツク膜の透
過率特性曲線を示すものであり、実線は光線の入
射角が0度、破線は44.6度の場合の特性を示して
いる。第4図に示す特性曲線に対応する膜構成の
データを第2表に掲示する。但しnHはnH=2.07
+11/λ−318(λは波長、単位はnm)に従つて
変 化するものであり、基準波長はλ0=484nmで
ある。第2表に示す如く、本発明の膜構成は、高
屈折率の基本層として3/4λ0と1/4λ0を混在せ
し め、又低屈折率
【表】
【表】
の基本層としても3/4λ0と1/4λ0を混在せしめ
る構 成を取つている。即ち、低屈折率層の基本層とし
て少なくとも1層を3/4λ0の膜厚とすることによ り半値巾の拡大を計り、高屈折率の膜厚に3/4λ0 を多用することにより入射光束の角度依存性の向
上を計つたもので、第4図に示す如く両膜構成を
効果的に混在せしめることにより、半値巾も充分
に広く、又角度依存性にも優れたダイクロイツク
膜が作成される。 又、斯様な本発明に係る膜構成においては、従
来のリツプル抑制法を用いて有効にリツプルを除
去できるもので、基板側から第1層目、第2層目
及び最終層をリツプル除去用の調整層として基本
膜層から変化させている。この様に、基板側の層
と媒質側の層を調整層とする場合は、中間層に調
整層が入る場合に比して遥かに蒸着技術は簡単と
なり、製造上容易に蒸着する事ができる。 リツプル抑制用の層の厚さは、第2表に示した
値には限らず、多少変化しても実用上さしつかえ
なく、第1層の膜厚をd1、第2層目の膜厚をd2、
第12層目の膜厚をd12とすると、d1、d2、d12は
2.5・λ0/4<d1<3.5・λ0/4、0.5・λ0/4<d
2<1.5・ λ0/4、0.5・λ0/4<d12<1.9・λ0/4に存す
ればリツプ ルは有効に除去できる。又、上記高屈折率層とは
屈折率が2.0から2.5なる値を、低屈折率層とは屈
折率が1.35から1.50の値を有する層が最も適する
ものである。 以上、本発明に係るダイクロイツク膜において
は、高屈折率層の基本層としてλ0/4と3/4λ0の
層を 又低屈折率層としてλ0/4と3/4λ0の層をそれぞ
れ有 効に混在せしめることにより、半値巾が充分取
れ、反射率特性曲線の入射角度による移動が少な
く、且つ製造が容易という優れた効果を有するも
のである。
る構 成を取つている。即ち、低屈折率層の基本層とし
て少なくとも1層を3/4λ0の膜厚とすることによ り半値巾の拡大を計り、高屈折率の膜厚に3/4λ0 を多用することにより入射光束の角度依存性の向
上を計つたもので、第4図に示す如く両膜構成を
効果的に混在せしめることにより、半値巾も充分
に広く、又角度依存性にも優れたダイクロイツク
膜が作成される。 又、斯様な本発明に係る膜構成においては、従
来のリツプル抑制法を用いて有効にリツプルを除
去できるもので、基板側から第1層目、第2層目
及び最終層をリツプル除去用の調整層として基本
膜層から変化させている。この様に、基板側の層
と媒質側の層を調整層とする場合は、中間層に調
整層が入る場合に比して遥かに蒸着技術は簡単と
なり、製造上容易に蒸着する事ができる。 リツプル抑制用の層の厚さは、第2表に示した
値には限らず、多少変化しても実用上さしつかえ
なく、第1層の膜厚をd1、第2層目の膜厚をd2、
第12層目の膜厚をd12とすると、d1、d2、d12は
2.5・λ0/4<d1<3.5・λ0/4、0.5・λ0/4<d
2<1.5・ λ0/4、0.5・λ0/4<d12<1.9・λ0/4に存す
ればリツプ ルは有効に除去できる。又、上記高屈折率層とは
屈折率が2.0から2.5なる値を、低屈折率層とは屈
折率が1.35から1.50の値を有する層が最も適する
ものである。 以上、本発明に係るダイクロイツク膜において
は、高屈折率層の基本層としてλ0/4と3/4λ0の
層を 又低屈折率層としてλ0/4と3/4λ0の層をそれぞ
れ有 効に混在せしめることにより、半値巾が充分取
れ、反射率特性曲線の入射角度による移動が少な
く、且つ製造が容易という優れた効果を有するも
のである。
第1図は、高屈折率層に分散が無いと仮定した
場合のH:L=3:1とH:L=1:3を基本構
成とするダイクロイツク膜の透過率特性を示す
図、第2図は、高屈折率層が分散を有する場合、
H:L=3:1を基本構成とするダイクロイツク
膜の透過率特性の一実施例を示す図、第3図は高
屈折率層が分散を有する場合、H:L=1:3を
基本構成とするダイクロイツク膜の透過率特性の
一実施例を示す図、第4図は本発明に係るダイク
ロイツク膜の透過率特性の一実施例を示す図であ
る。 T……透過率、λ……波長。
場合のH:L=3:1とH:L=1:3を基本構
成とするダイクロイツク膜の透過率特性を示す
図、第2図は、高屈折率層が分散を有する場合、
H:L=3:1を基本構成とするダイクロイツク
膜の透過率特性の一実施例を示す図、第3図は高
屈折率層が分散を有する場合、H:L=1:3を
基本構成とするダイクロイツク膜の透過率特性の
一実施例を示す図、第4図は本発明に係るダイク
ロイツク膜の透過率特性の一実施例を示す図であ
る。 T……透過率、λ……波長。
Claims (1)
- 1 高屈折率層と低屈折率層とが交互に配された
12層で構成され、基準波長をλ0とすると、前記
低屈折率層の基本層の光学的膜厚はλ0/4と3
λ0/4が混在し、前記高屈折率層の基本層の光
学的膜厚はλ0/4と3λ0/4が混在し、基板
側から数えて第1、第3、第5、及び第7層目は
3λ0/4を基本膜厚とする高屈折率層、第9及
び第11層目はλ0/4を基本膜厚とする高屈折率
層、第2、第4、第6、第8及び第12層目はλ
0/4を基本膜厚とする低屈折率層、第10層目は
3λ0/4を基本膜厚とする低屈折率層であるこ
とを特徴とするダイクロイツク膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1736478A JPS54110855A (en) | 1978-02-17 | 1978-02-17 | Dichroic film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1736478A JPS54110855A (en) | 1978-02-17 | 1978-02-17 | Dichroic film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54110855A JPS54110855A (en) | 1979-08-30 |
| JPS6227361B2 true JPS6227361B2 (ja) | 1987-06-15 |
Family
ID=11941968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1736478A Granted JPS54110855A (en) | 1978-02-17 | 1978-02-17 | Dichroic film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS54110855A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6444468A (en) * | 1987-08-12 | 1989-02-16 | Fuji Xerox Co Ltd | Developing method |
| US7298550B2 (en) | 2004-07-22 | 2007-11-20 | Olympus Corporation | Dichroic mirror, fluorescence filter set, and fluoroscopy apparatus |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4837279B2 (ja) * | 2004-04-05 | 2011-12-14 | オリンパス株式会社 | 落射顕微鏡および蛍光フィルターセット |
-
1978
- 1978-02-17 JP JP1736478A patent/JPS54110855A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6444468A (en) * | 1987-08-12 | 1989-02-16 | Fuji Xerox Co Ltd | Developing method |
| US7298550B2 (en) | 2004-07-22 | 2007-11-20 | Olympus Corporation | Dichroic mirror, fluorescence filter set, and fluoroscopy apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54110855A (en) | 1979-08-30 |
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