JPS62273694A - センスアンプ - Google Patents
センスアンプInfo
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- JPS62273694A JPS62273694A JP61116116A JP11611686A JPS62273694A JP S62273694 A JPS62273694 A JP S62273694A JP 61116116 A JP61116116 A JP 61116116A JP 11611686 A JP11611686 A JP 11611686A JP S62273694 A JPS62273694 A JP S62273694A
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- transistor
- sense amplifier
- transistor pair
- bit line
- transistors
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
- H03K3/02—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses
- H03K3/353—Generators characterised by the type of circuit or by the means used for producing pulses by the use, as active elements, of field-effect transistors with internal or external positive feedback
- H03K3/356—Bistable circuits
- H03K3/356104—Bistable circuits using complementary field-effect transistors
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/06—Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
- G11C7/065—Differential amplifiers of latching type
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K3/00—Circuits for generating electric pulses; Monostable, bistable or multistable circuits
- H03K3/01—Details
- H03K3/011—Modifications of generator to compensate for variations in physical values, e.g. voltage, temperature
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Dram (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
A、産業上の利用分野
本発明は、メモリ装置等における記憶保持される信号の
読み出し等に用いられCMOSトランジスタで構成され
たセンスアンプに関し、特にVい(闇値電圧)のばらつ
きを補償して6′α実な動作を実現するセンスアンプに
関する。
読み出し等に用いられCMOSトランジスタで構成され
たセンスアンプに関し、特にVい(闇値電圧)のばらつ
きを補償して6′α実な動作を実現するセンスアンプに
関する。
B1発明の概要
本発明は、CMOSトランジスタで構成されビット線に
現れる信号をセンシングするセンスアンプにおいて、少
なくとも一対のMOS )ランジスタ対を構成するトラ
ンジスタのゲートを容量接続とし当8亥トランジスタの
ドレインとゲートとの間に第1のスイッチング素子をド
レインとビット線との接続点との間に第2のスイッチン
グをそれぞれ配設することにより、vth(ll値電圧
)のばらつきを補償してセンスアンプの高感度化を実現
するものである。
現れる信号をセンシングするセンスアンプにおいて、少
なくとも一対のMOS )ランジスタ対を構成するトラ
ンジスタのゲートを容量接続とし当8亥トランジスタの
ドレインとゲートとの間に第1のスイッチング素子をド
レインとビット線との接続点との間に第2のスイッチン
グをそれぞれ配設することにより、vth(ll値電圧
)のばらつきを補償してセンスアンプの高感度化を実現
するものである。
C1従来の技術
まず、従来のセンスアンプの構成及び動作を第7図及び
第8図を参照しながら説明する。
第8図を参照しながら説明する。
第7図に示すように、従来のセンスアンプは、各メモリ
セルのアクセストランジスタ(図示せず)を介して情報
信号を記憶する容量と接続されるそれぞれ第1のビット
IBLIと第2のビット&jlBL2と間でラッチ動作
するものであって、その構成は、PMOSトランジスタ
PM、のドレイン及びNMOSトランジスタNM、のド
レインが上記第1のピント線BLIに接続され、PMO
SトランジスタPM2のドレイン及びNMOSトランジ
スタN M zのドレインが上記第2のビット線BL2
に接続される。上記第1のビット線BLIは更に上記P
MOSトランジスタPMよ及びNMOSトランジスタN
M!のゲートに接続され、また、上記第2のビット線B
L2は上記PMOSトランジスタPM+及びNMOSト
ランジスタNM1のゲートに接続される。そして、上記
PMOSトランジスタP M +。PM!のそれぞれソ
ースには制御I雷電圧、Pが供給され、また、上記NM
OSトランジスタNMI、NMIのそれぞれソースには
制御電圧Φ、8が供給される。
セルのアクセストランジスタ(図示せず)を介して情報
信号を記憶する容量と接続されるそれぞれ第1のビット
IBLIと第2のビット&jlBL2と間でラッチ動作
するものであって、その構成は、PMOSトランジスタ
PM、のドレイン及びNMOSトランジスタNM、のド
レインが上記第1のピント線BLIに接続され、PMO
SトランジスタPM2のドレイン及びNMOSトランジ
スタN M zのドレインが上記第2のビット線BL2
に接続される。上記第1のビット線BLIは更に上記P
MOSトランジスタPMよ及びNMOSトランジスタN
M!のゲートに接続され、また、上記第2のビット線B
L2は上記PMOSトランジスタPM+及びNMOSト
ランジスタNM1のゲートに接続される。そして、上記
PMOSトランジスタP M +。PM!のそれぞれソ
ースには制御I雷電圧、Pが供給され、また、上記NM
OSトランジスタNMI、NMIのそれぞれソースには
制御電圧Φ、8が供給される。
このような回路構成の従来のセンスアンプは、第5図に
示すように、まず、上記制御電圧φ、P、Φ、Hとして
Vcc/2の電圧が供給され、さらに上記第1のビット
線BLIと第2のビット1BL2にもVcc/2の電圧
が供給される0次にメモリセルのアクセストランジスタ
がワード線等の選択信号に応じて導通状態になり、当該
メモリセルの容量によって、例えば上記第1のと7)線
BLIの電圧がVcc/2+ΔVsとなり、該第1のビ
ット線の電位ΔVsだけが上がる。ここで上記制御電圧
φ、P、Φ5.IをそれぞれVCCと0に変化させると
、2MOSトランジスタP M + とNMOSトラン
ジスタNM、はそれぞれオン抵抗が小さくなり、また、
2MO3)ランジスクP M xとNMOSトランジス
タNM、はそれぞれオン抵抗が大きくなって、う、チ動
作が行われる。
示すように、まず、上記制御電圧φ、P、Φ、Hとして
Vcc/2の電圧が供給され、さらに上記第1のビット
線BLIと第2のビット1BL2にもVcc/2の電圧
が供給される0次にメモリセルのアクセストランジスタ
がワード線等の選択信号に応じて導通状態になり、当該
メモリセルの容量によって、例えば上記第1のと7)線
BLIの電圧がVcc/2+ΔVsとなり、該第1のビ
ット線の電位ΔVsだけが上がる。ここで上記制御電圧
φ、P、Φ5.IをそれぞれVCCと0に変化させると
、2MOSトランジスタP M + とNMOSトラン
ジスタNM、はそれぞれオン抵抗が小さくなり、また、
2MO3)ランジスクP M xとNMOSトランジス
タNM、はそれぞれオン抵抗が大きくなって、う、チ動
作が行われる。
D1発明が解決しようとする問題点
従来のセンスアンプは、上述のような構成を有しラッチ
動作により各メモリセルの容量に記憶された情報信号の
読み出し等を行っている。
動作により各メモリセルの容量に記憶された情報信号の
読み出し等を行っている。
ところで、このようなランチ動作を行うセンスアンプは
、上記PMOSトランジスタPM+、PM8からなるト
ランジスタ対、若しくは上記NMOSトランジスタN
M + 、 N M !からなるトランジスタ対を構成
する各トランジスタが、全く同一の寸法、特性を有する
場合には、メモリセルからの電荷によるΔVsが小さい
場合であっても高感度にセンシングが行われる。
、上記PMOSトランジスタPM+、PM8からなるト
ランジスタ対、若しくは上記NMOSトランジスタN
M + 、 N M !からなるトランジスタ対を構成
する各トランジスタが、全く同一の寸法、特性を有する
場合には、メモリセルからの電荷によるΔVsが小さい
場合であっても高感度にセンシングが行われる。
しかしながら、素子の微細化1頃向にあっては、上記ト
ランジスタPM+、PMz 、NM+、NMzのばらつ
きは素子寸法が小さくなるに従って相対的に大きくなり
、更に、各メモリセルの容量も小さくなるから、センス
アンプにおけるセンシングの条件は厳しいものとなる。
ランジスタPM+、PMz 、NM+、NMzのばらつ
きは素子寸法が小さくなるに従って相対的に大きくなり
、更に、各メモリセルの容量も小さくなるから、センス
アンプにおけるセンシングの条件は厳しいものとなる。
そして、トランジスタ対を構成するトランジスタの■い
のばらつきによっては、各トランジスタ対を構成するト
ランジスタの■いの差(Δ■い)に依存した入力換算オ
フセット電圧v、、1が問題となり、この入力換算オフ
セット電圧v03とΔVsの大小関係によっては誤動作
を生じかねない。
のばらつきによっては、各トランジスタ対を構成するト
ランジスタの■いの差(Δ■い)に依存した入力換算オ
フセット電圧v、、1が問題となり、この入力換算オフ
セット電圧v03とΔVsの大小関係によっては誤動作
を生じかねない。
そこで、本発明は上述の問題点に鑑み、トランジスタ対
を構成するトランジスタの■いのばらつきに影響されず
高感度に動作するセンスアンプの提供を目的とする。
を構成するトランジスタの■いのばらつきに影響されず
高感度に動作するセンスアンプの提供を目的とする。
E0問題点を解決するための手段
本発明は、それぞれソースが共通接続された2MOSト
ランジスタ対とNMOSトランジスタ対とを有し、それ
ぞれソースに供給される制御信号に応じてラッチ動作を
行い第1若しくは第2のビット線に現れる電荷をセンシ
ングするセンスアンプにおいて、少なくとも2MOSト
ランジスタ対若しくはNMO5)ランジスク対の一方の
トランジスタ対では、当該トランジスタ対を構成する各
MOSトランジスタのゲートが第1若しくは第2のビッ
ト線との間でそれぞれ容量接続とされ、そのトランジス
タ対を構成する各MOSトランジスタのドレインとゲー
トとの間にそれぞれ第1のスイッチング素子が配設され
、そのトランジスタ対を構成する各MOSトランジスタ
のドレインとビット線の接続点との間にそれぞれ第2の
スイッチング素子が配設されてなるセンスアンプにより
上述の問題点を解決する。
ランジスタ対とNMOSトランジスタ対とを有し、それ
ぞれソースに供給される制御信号に応じてラッチ動作を
行い第1若しくは第2のビット線に現れる電荷をセンシ
ングするセンスアンプにおいて、少なくとも2MOSト
ランジスタ対若しくはNMO5)ランジスク対の一方の
トランジスタ対では、当該トランジスタ対を構成する各
MOSトランジスタのゲートが第1若しくは第2のビッ
ト線との間でそれぞれ容量接続とされ、そのトランジス
タ対を構成する各MOSトランジスタのドレインとゲー
トとの間にそれぞれ第1のスイッチング素子が配設され
、そのトランジスタ対を構成する各MOSトランジスタ
のドレインとビット線の接続点との間にそれぞれ第2の
スイッチング素子が配設されてなるセンスアンプにより
上述の問題点を解決する。
ここで、上記容量接続にかかる容量と、上記第1及び第
2のスイッチング素子とが上述の接続関係をもって接続
されるトランジスタ対は、PMOSトランジスタ対であ
っても良く、またNMOSトランジスタ対であっても良
い、更に、その双方のトランジスタ対に対して上記容量
、第1及び第2のスイッチング素子をそれぞれ接続する
ようにしても良い。
2のスイッチング素子とが上述の接続関係をもって接続
されるトランジスタ対は、PMOSトランジスタ対であ
っても良く、またNMOSトランジスタ対であっても良
い、更に、その双方のトランジスタ対に対して上記容量
、第1及び第2のスイッチング素子をそれぞれ接続する
ようにしても良い。
F8作用
本発明は、上記PMO3I−ランジスタ対若しくはNM
OSトランジスタ対の少なくとも一方のトランジスタ対
に、上記容量接続にかかる容量と、第1及び第2のスイ
ッチング素子とを上述の接続関係をもって接続させ、セ
ンス期間以前のプリチャージ期間に■いのばらつきΔV
い分の電圧を当該容量に蓄積し、その後ランチ動作させ
ることにより、該VいのばらつきΔVいを補償して、高
感度にセンシングを行うことができる。
OSトランジスタ対の少なくとも一方のトランジスタ対
に、上記容量接続にかかる容量と、第1及び第2のスイ
ッチング素子とを上述の接続関係をもって接続させ、セ
ンス期間以前のプリチャージ期間に■いのばらつきΔV
い分の電圧を当該容量に蓄積し、その後ランチ動作させ
ることにより、該VいのばらつきΔVいを補償して、高
感度にセンシングを行うことができる。
ここで、上記第1及び第2のスイッチング素子は、それ
ぞれ上記センスアンプの回路状態を通常のセンスアンプ
の状態と、プリチャージ期間におけるトランジスタ対を
構成する各トランジスタと容量の直列の回路状態とをつ
くり出すためのものであり、それぞれ所定の制御信号Φ
1.Φ2の信号に基づいて切り替えることが可能である
。
ぞれ上記センスアンプの回路状態を通常のセンスアンプ
の状態と、プリチャージ期間におけるトランジスタ対を
構成する各トランジスタと容量の直列の回路状態とをつ
くり出すためのものであり、それぞれ所定の制御信号Φ
1.Φ2の信号に基づいて切り替えることが可能である
。
例えば、センスアンプを構成するトランジスタ対の中、
NMOSトランジスタ対に対して上記容量、第1及び第
2のスイッチング素子を配した場合には、プリチャージ
期間においては、制御信号φ1によって上記第1のスイ
ッチング素子はオン状態になり、かつ制御信号φ2によ
って上記第2のスイッチング素子はオフ状態になり、上
記トランジスタ対を構成する各トランジスタは、所謂ダ
イオード接続となって、上記各NMOSトランジスタの
ソースに供給される制御信号Φ、Hを下げていったとき
には、ダイオード接続されてなる各トランジスタの電位
降下はそれぞれ各トランジスタのVい、、vいよとなる
。そして、これらにそれぞれ接続されてなるそれぞれ容
量は、一端がビット線の電位であるVCC/2に保持さ
れ上記電界効果型トランジスタのVい、、Vい2に対応
した電圧が加わることになる。すなわち各容量にはVc
c/2とΦ5、の電圧との電位差から、それぞれ■い、
、vLh2を差し引いた電圧が加わることになり、引き
続いて第1及び第2のスイッチング素子を制御して通常
のセンスアンプの回路状態としてセンシングを開始する
場合には、当該容量に蓄積させた■Lb1. vthz
に対応した電圧がそのまま保持されて動作が開始される
ことになり、従って、ランチ動作の際は、それぞれ容量
によってΔVいが補償された状態で動作することになる
。
NMOSトランジスタ対に対して上記容量、第1及び第
2のスイッチング素子を配した場合には、プリチャージ
期間においては、制御信号φ1によって上記第1のスイ
ッチング素子はオン状態になり、かつ制御信号φ2によ
って上記第2のスイッチング素子はオフ状態になり、上
記トランジスタ対を構成する各トランジスタは、所謂ダ
イオード接続となって、上記各NMOSトランジスタの
ソースに供給される制御信号Φ、Hを下げていったとき
には、ダイオード接続されてなる各トランジスタの電位
降下はそれぞれ各トランジスタのVい、、vいよとなる
。そして、これらにそれぞれ接続されてなるそれぞれ容
量は、一端がビット線の電位であるVCC/2に保持さ
れ上記電界効果型トランジスタのVい、、Vい2に対応
した電圧が加わることになる。すなわち各容量にはVc
c/2とΦ5、の電圧との電位差から、それぞれ■い、
、vLh2を差し引いた電圧が加わることになり、引き
続いて第1及び第2のスイッチング素子を制御して通常
のセンスアンプの回路状態としてセンシングを開始する
場合には、当該容量に蓄積させた■Lb1. vthz
に対応した電圧がそのまま保持されて動作が開始される
ことになり、従って、ランチ動作の際は、それぞれ容量
によってΔVいが補償された状態で動作することになる
。
そして、一方のトランジスタ対(PMosトランジスタ
対若しくはNMOSトランジスタ対)で、このようにΔ
■いの補償がなされるときには、ΔVいの補償がなされ
ない方の他のトランジスタ対を、一定の時差Δ【をもっ
て動作させることができる。このように容量、第1及び
第2のスイッチング素子が接続されないトランジスタ対
について、一定の時差Δtをもって動作させ、センシン
グ開始後の少なくとも当該トランジスタ対のΔ■いのば
らつき分より大きく増幅された確定的なデータをもって
動作させることにより、特に当該トランジスタ対のΔ■
いの補償をしなくとも確実な動作を実現することができ
る。
対若しくはNMOSトランジスタ対)で、このようにΔ
■いの補償がなされるときには、ΔVいの補償がなされ
ない方の他のトランジスタ対を、一定の時差Δ【をもっ
て動作させることができる。このように容量、第1及び
第2のスイッチング素子が接続されないトランジスタ対
について、一定の時差Δtをもって動作させ、センシン
グ開始後の少なくとも当該トランジスタ対のΔ■いのば
らつき分より大きく増幅された確定的なデータをもって
動作させることにより、特に当該トランジスタ対のΔ■
いの補償をしなくとも確実な動作を実現することができ
る。
G、実施例
本発明の好適な実施例を図面を参照しながら説明する。
G−■〔第1の実施例〕 (第1図〜第2図)まず、第
1の実施例のセンスアンプは、第1図に示すような回路
構成を有しており、この本実施例のセンスアンプはNM
OSトランジスタ対にΔVいのばらつきを補償するため
の容1c+、cz、第1のスイッチング素子S++、S
□及び第2のスイッチング素子S1□、822が接続さ
れた回路構成になっている。
1の実施例のセンスアンプは、第1図に示すような回路
構成を有しており、この本実施例のセンスアンプはNM
OSトランジスタ対にΔVいのばらつきを補償するため
の容1c+、cz、第1のスイッチング素子S++、S
□及び第2のスイッチング素子S1□、822が接続さ
れた回路構成になっている。
この第1の実施例のセンスアンプは、第1図に示すよう
に、それぞれソースが共通接続されたPMOSトランジ
スタ対とNMOSトランジスタ対とを有し、PMOSト
ランジスタ対はPMOSトランジスタPM、、PM!に
より構成され、一方NMo5トランジスタ対はNMOS
トランジスタNM、、NMtにより構成されている。
に、それぞれソースが共通接続されたPMOSトランジ
スタ対とNMOSトランジスタ対とを有し、PMOSト
ランジスタ対はPMOSトランジスタPM、、PM!に
より構成され、一方NMo5トランジスタ対はNMOS
トランジスタNM、、NMtにより構成されている。
上記PMOSトランジスタ対を構成する上記PMOSト
ランジスタP M +、 P M zのそれぞれソース
には後述するように制御信号Φ□とは時差Δtをもって
Vcc/2からVeCに制御される制御信号Φ、Pが供
給され、P M OS’ )ランジスタP M + の
ドレインには第1のビット線BLIが接続され、更に該
ビット線BLIはPMOSトランジスタPM2のゲート
に接続されている。また、PMOSトランジスタPM2
のドレインには第2のビット線BL2が接続され、更に
該ビット線BL2は上記PMOSトランジスタPMI
のゲートに接続されている。
ランジスタP M +、 P M zのそれぞれソース
には後述するように制御信号Φ□とは時差Δtをもって
Vcc/2からVeCに制御される制御信号Φ、Pが供
給され、P M OS’ )ランジスタP M + の
ドレインには第1のビット線BLIが接続され、更に該
ビット線BLIはPMOSトランジスタPM2のゲート
に接続されている。また、PMOSトランジスタPM2
のドレインには第2のビット線BL2が接続され、更に
該ビット線BL2は上記PMOSトランジスタPMI
のゲートに接続されている。
そして、Δ■いのばらつきが補償される上記NMOSト
ランジスタ対では、上記NMO3I−ランジスタNM、
、NMzのそれぞれソースに制御電圧Φ、Hが供給され
る構成を有してなり、まず、NMOSトランジスタN
M I のドレインには、第1のスイッチング素子S1
1の一端と第2のスイッチング素子S1□の一端が接続
されている。この第1のスイッチング素子S、の他端は
当該NMo5トランジスタNM、のゲートに接続されて
いる。また、第2のスイッチング素子sagの他端は、
上記第1のビット線BLIに接続されている。そして、
これら第1及び第2のスイッチング素子Sll、S11
はそれぞれ制御信号φ5.Φ2により制御される。
ランジスタ対では、上記NMO3I−ランジスタNM、
、NMzのそれぞれソースに制御電圧Φ、Hが供給され
る構成を有してなり、まず、NMOSトランジスタN
M I のドレインには、第1のスイッチング素子S1
1の一端と第2のスイッチング素子S1□の一端が接続
されている。この第1のスイッチング素子S、の他端は
当該NMo5トランジスタNM、のゲートに接続されて
いる。また、第2のスイッチング素子sagの他端は、
上記第1のビット線BLIに接続されている。そして、
これら第1及び第2のスイッチング素子Sll、S11
はそれぞれ制御信号φ5.Φ2により制御される。
また、NMOSトランジスタNM2のドレインには、第
1のスイッチング素子SZ+の一端と第2のスイッチン
グ素子S0の一端が接続されている。
1のスイッチング素子SZ+の一端と第2のスイッチン
グ素子S0の一端が接続されている。
この第1のスイッチング素子S□の他端は当該NMOS
トランジスタNM2のゲートに接続されている。また、
第2のスイッチング素子S。の他端は、上記第2のビッ
ト線BL2に接続されている。
トランジスタNM2のゲートに接続されている。また、
第2のスイッチング素子S。の他端は、上記第2のビッ
ト線BL2に接続されている。
そして、これら第1及び第2のスイッチング素子S2い
Soは、上記第1及び第2のスイッチング素子S、いS
1□と同様なそれぞれ制御信号Φ1、Φ2により制御さ
れる。
Soは、上記第1及び第2のスイッチング素子S、いS
1□と同様なそれぞれ制御信号Φ1、Φ2により制御さ
れる。
次に、本実施例のセンスアンプのNMOSトランジスタ
対を構成する各MOSトランジスタNM+、 N M
tの各ゲートは容量接続とされている。すなわち、NM
OSトランジスタNM、のゲートは上述のように第1の
スイッチング素子S11の他端が接続すると共に容量C
3が接続され、該容ftC1の他端が上記第2のビット
線BL2と接続するように構成されており、また、NM
OSトランジスタNM2のゲートは上述のように第1の
スイッチング素子SZ+の他端が接続すると共に容1c
。
対を構成する各MOSトランジスタNM+、 N M
tの各ゲートは容量接続とされている。すなわち、NM
OSトランジスタNM、のゲートは上述のように第1の
スイッチング素子S11の他端が接続すると共に容量C
3が接続され、該容ftC1の他端が上記第2のビット
線BL2と接続するように構成されており、また、NM
OSトランジスタNM2のゲートは上述のように第1の
スイッチング素子SZ+の他端が接続すると共に容1c
。
が接続され、該容量C2の他端が上記第2のビット線B
LIと接続するように構成されている。そして、これら
容IC,,C,によって当該トランジスタ対の闇値電圧
のばらつきΔ■いを補償することが可能となる。
LIと接続するように構成されている。そして、これら
容IC,,C,によって当該トランジスタ対の闇値電圧
のばらつきΔ■いを補償することが可能となる。
次に、上述のような回路構成を有するセンスアンプの動
作について第2図を参照しながら説明する。
作について第2図を参照しながら説明する。
まず、はじめに制御信号Φ1のレベルは“L”(ローレ
ベル)であって第1のスイッチング素子Sz+ Sz
+はそれぞれオフ状態であり、上記制御信号Φ2のレベ
ルは“H” (ハイレベル)であって第2のスイッチン
グ素子S1□、S2□はそれぞれオン状態であるが、上
記制御信号Φ、のレベルを′L″からH”にして第1の
スイッチング素子SII+ SZ+をオン状態にし、
さらに上記制御信号Φ2のレベルを”H”から1L”に
して上記第2のスイッチング素子S1□、S22をオフ
状態にする。
ベル)であって第1のスイッチング素子Sz+ Sz
+はそれぞれオフ状態であり、上記制御信号Φ2のレベ
ルは“H” (ハイレベル)であって第2のスイッチン
グ素子S1□、S2□はそれぞれオン状態であるが、上
記制御信号Φ、のレベルを′L″からH”にして第1の
スイッチング素子SII+ SZ+をオン状態にし、
さらに上記制御信号Φ2のレベルを”H”から1L”に
して上記第2のスイッチング素子S1□、S22をオフ
状態にする。
このように各スイッチを切換えることにより、木実施例
のセンスアンプは、通常のセンスアンプの回路構成から
、各NMOSトランジスタNM、、NM2はダイオード
接続となり、各ビット線BLL。
のセンスアンプは、通常のセンスアンプの回路構成から
、各NMOSトランジスタNM、、NM2はダイオード
接続となり、各ビット線BLL。
BL2と容量を介して接続する回路状態に変化する。
次に、センシング前のプリチャージ期間において、上記
制御信号φ8、のレベルが、vcc/2レベルからVI
ICだけ電位差を有し、容1 c r、 c tにプリ
チャージするためのレベル(以下、VIICレベルとい
う、)に変化し、上記各容量Cr、Czには、上記NM
OSトランジスタN M + 、 N M tの各Vt
kに対応する電圧が加わることになる。
制御信号φ8、のレベルが、vcc/2レベルからVI
ICだけ電位差を有し、容1 c r、 c tにプリ
チャージするためのレベル(以下、VIICレベルとい
う、)に変化し、上記各容量Cr、Czには、上記NM
OSトランジスタN M + 、 N M tの各Vt
kに対応する電圧が加わることになる。
即ち、このプリチャージ期間においては、上記各ビット
線BL1.BL2はそれぞれVcc/2レベルに保持さ
れており、上記制御信号φ、HのレベルをVcc/2レ
ベルからプリチャージするためのVIICレベルにした
ときは、それぞれ各NMOSトランジスタN M +、
N M zのゲート電位は、それぞれvDC” vL
h1+ vDC” vLhRの電位となる(ここで■
い1はNMOSトランジスタNM、の閾値電圧、Vい、
はNMOSトランジスタNM2の閾値電圧とする。)。
線BL1.BL2はそれぞれVcc/2レベルに保持さ
れており、上記制御信号φ、HのレベルをVcc/2レ
ベルからプリチャージするためのVIICレベルにした
ときは、それぞれ各NMOSトランジスタN M +、
N M zのゲート電位は、それぞれvDC” vL
h1+ vDC” vLhRの電位となる(ここで■
い1はNMOSトランジスタNM、の閾値電圧、Vい、
はNMOSトランジスタNM2の閾値電圧とする。)。
従って、容1c+にはV cc/2 (Voc+Vい
、)の電圧が加わり、一方容看C2にはVcc/ 2
(Voc+ Vcbz )の電圧が加わることになる
。
、)の電圧が加わり、一方容看C2にはVcc/ 2
(Voc+ Vcbz )の電圧が加わることになる
。
次に、上記制御信号Φ、Hを、VIICレヘルレベ再び
Vcc/2レベルに変化させる。そして、上記容iJ
Cl+ Czでは、上記容量に加えられた電位差がその
まま保持されることになる。
Vcc/2レベルに変化させる。そして、上記容iJ
Cl+ Czでは、上記容量に加えられた電位差がその
まま保持されることになる。
続いて、上記制御信号Φ、のレベルを°[■”から“L
”にして上記第1のスイッチング素子S11゜St+を
それぞれオフ状態とし、上記制御信号Φ2のレベルを“
L”から“H”にして上記第2のスイッチング素子S1
2.sgzをそれぞれオフ状態からオフ状態にする。こ
のような第1及び第2のスイッチング素子S++、St
いSl!、Soの切換動作により、各NMOSトランジ
スタN M + 、 N M zの各ゲートと各ドレイ
ンとの間は遮断状態となり、各NMOSトランジスタN
M I、 N M tはダイオード接続の状態から通
常のトランジスタ対の状態になり、また、本実施例のセ
ンスアンプの回路構成は、従来のセンスアンプの回路構
成にそれぞれ容量C+、Cff1をそれぞれゲートとそ
れぞれビット線BLI、BL2の間に配設した回路構成
となる。
”にして上記第1のスイッチング素子S11゜St+を
それぞれオフ状態とし、上記制御信号Φ2のレベルを“
L”から“H”にして上記第2のスイッチング素子S1
2.sgzをそれぞれオフ状態からオフ状態にする。こ
のような第1及び第2のスイッチング素子S++、St
いSl!、Soの切換動作により、各NMOSトランジ
スタN M + 、 N M zの各ゲートと各ドレイ
ンとの間は遮断状態となり、各NMOSトランジスタN
M I、 N M tはダイオード接続の状態から通
常のトランジスタ対の状態になり、また、本実施例のセ
ンスアンプの回路構成は、従来のセンスアンプの回路構
成にそれぞれ容量C+、Cff1をそれぞれゲートとそ
れぞれビット線BLI、BL2の間に配設した回路構成
となる。
このような回路動作からなるプリチャージ期間の経過の
後、メモリセルの選択線の制御信号に応じてアクセスト
ランジスタがオンとなり、例えば、センスアンプに接続
するビット線BLIに、当該選択されたメモリセルの容
量の!荷が現出することになる。
後、メモリセルの選択線の制御信号に応じてアクセスト
ランジスタがオンとなり、例えば、センスアンプに接続
するビット線BLIに、当該選択されたメモリセルの容
量の!荷が現出することになる。
例えば、メモリセルの容量に記憶される情報信号が“0
1であるときは、例えば第1のビット線BLIの電位は
Vcc/2−ΔVsになる。なお、この時第2のビット
線BL2の電位はVcc/2に維持され、また、情報信
号が“1”の場合には当該ビット線BLIの電位はvc
c/2+ΔVsとなる。
1であるときは、例えば第1のビット線BLIの電位は
Vcc/2−ΔVsになる。なお、この時第2のビット
線BL2の電位はVcc/2に維持され、また、情報信
号が“1”の場合には当該ビット線BLIの電位はvc
c/2+ΔVsとなる。
このように第1のビット線BL1の電位が■。
/2−ΔVsとなり、上述のように容1tczにはvc
c/2− (V。、+yい2)がそのまま保持されてい
るため、NMOSトランジスタN M zのゲートの電
位は、Vcc/2−Δv s −(vcc/2−(Ve
c+VLht ) )すなわちVIIC”vLhR−Δ
VSとなる。一方、この時、第2のビット4iBL2の
電位はVcc/2に維持されており、従って、他方のN
MOSトランジスタNM、のゲートの電位は、上記容1
c +を介すことにより■cC/2−(Vcc/ 2
(Voc + VLh+ ) )すなわちvDc+
Vい、となる。
c/2− (V。、+yい2)がそのまま保持されてい
るため、NMOSトランジスタN M zのゲートの電
位は、Vcc/2−Δv s −(vcc/2−(Ve
c+VLht ) )すなわちVIIC”vLhR−Δ
VSとなる。一方、この時、第2のビット4iBL2の
電位はVcc/2に維持されており、従って、他方のN
MOSトランジスタNM、のゲートの電位は、上記容1
c +を介すことにより■cC/2−(Vcc/ 2
(Voc + VLh+ ) )すなわちvDc+
Vい、となる。
このようにそれぞれNMOSトランジスタNM+、 N
M tのゲートの電位は理想的な値に対してそれぞれ
の闇値電圧Vい3.vい2だけ高い値となっており、こ
れをソース側で比較した場合には、各NMOSトランジ
スタNM、、NMz固有の閾値電圧vLkl + V
い、で完全に補償されることになり、従って、本実施例
のセンスアンプは、非常に感度の高いセンスアンプとな
る。
M tのゲートの電位は理想的な値に対してそれぞれ
の闇値電圧Vい3.vい2だけ高い値となっており、こ
れをソース側で比較した場合には、各NMOSトランジ
スタNM、、NMz固有の閾値電圧vLkl + V
い、で完全に補償されることになり、従って、本実施例
のセンスアンプは、非常に感度の高いセンスアンプとな
る。
このようにメモリセルの容量がビット%%BL1若しく
はビットBL2を介して供給された後、本実施例のセン
スアンプは、センシングを開始する。
はビットBL2を介して供給された後、本実施例のセン
スアンプは、センシングを開始する。
通常のセンスアンプでは、このセンシングが上記NMO
3I−ランジスタ対のみならず同時にPMOSトランジ
スタ対について行われるため、第8図に示すように、同
時に制御信号φ、Nと制御信号Φ8.をそれぞれ零レベ
ルとVCCレベルに変化させている。しかし、本実施例
のセンスアンプにおいては、上述のように第1のスイッ
チング素子S1.。
3I−ランジスタ対のみならず同時にPMOSトランジ
スタ対について行われるため、第8図に示すように、同
時に制御信号φ、Nと制御信号Φ8.をそれぞれ零レベ
ルとVCCレベルに変化させている。しかし、本実施例
のセンスアンプにおいては、上述のように第1のスイッ
チング素子S1.。
SZ+及び第2のスイッチング素子S I!+ 31
2の切換動作によって、容量C,,CZに閾値電圧に応
じた電圧が蓄積されており、この容1 c +、 c
zによって、NMO3トランジスタ対を構成するNMO
SトランジスタN M + 、 N M zの閾値電圧
Vい、。
2の切換動作によって、容量C,,CZに閾値電圧に応
じた電圧が蓄積されており、この容1 c +、 c
zによって、NMO3トランジスタ対を構成するNMO
SトランジスタN M + 、 N M zの閾値電圧
Vい、。
v thtのばらつきを補償し、入力換算オフセット電
圧VIISを吸収することができるため、先ずこのNM
OSトランジスタ対のみを先にラッチ動作させ、後に、
このNMOSトランジスタ対によるランチ後の確定的な
データ(電位)を利用して、PMoSトランジスタ対を
構成するPMOSトランジスタPM、、PM、をラッチ
動作させることで、特に当該PMOSトランジスタ対を
構成するPMOSトランジスタPM、、PM、のばらつ
きを補償する回路構成を必要とせず確実な動作をさせる
ことができる。
圧VIISを吸収することができるため、先ずこのNM
OSトランジスタ対のみを先にラッチ動作させ、後に、
このNMOSトランジスタ対によるランチ後の確定的な
データ(電位)を利用して、PMoSトランジスタ対を
構成するPMOSトランジスタPM、、PM、をラッチ
動作させることで、特に当該PMOSトランジスタ対を
構成するPMOSトランジスタPM、、PM、のばらつ
きを補償する回路構成を必要とせず確実な動作をさせる
ことができる。
すなわち、第2図に示すように、上述のプリチャージ期
間中では、上記容t c 1. c zにNMOSトラ
ンジスタ対を構成する各NMOSトランジスタN M
+ 、 N M 2の闇値電圧■th+ 、 Vい、
を補償する電圧が蓄積されるため、上述のように第1の
ビット線の電位が−ΔVsとされたときには、NMOS
トランジスタN M zのゲートの電位は■。
間中では、上記容t c 1. c zにNMOSトラ
ンジスタ対を構成する各NMOSトランジスタN M
+ 、 N M 2の闇値電圧■th+ 、 Vい、
を補償する電圧が蓄積されるため、上述のように第1の
ビット線の電位が−ΔVsとされたときには、NMOS
トランジスタN M zのゲートの電位は■。
+Vい2−ΔVsとなり、NMOSトランジスタNM、
のゲートの電位はvDC+■い、となる。
のゲートの電位はvDC+■い、となる。
次に、センス期間の開始と共に、先ず、上記制御信号Φ
、NをVec/2から零レベルに変化させていき、ゲー
ト・ソース間電圧がそれぞれ闇値電圧Vい1.■い2以
上になったときに、どちらかのNMo5トランジスタが
先にオンになるが、上述のゲート電位の関係から、ソー
ス電位としてはその差が、l−Δ■s1のみであって、
闇値電圧Vい1.vい2のばらつきが完全に補償されて
いるため、上述のように第1のビット綿の電位が一ΔV
sとされたときには、ゲート電位がΔVsだけ高いNM
OSトランジスタNMIが先にオン状態となり、ラッチ
動作を開始することになる。
、NをVec/2から零レベルに変化させていき、ゲー
ト・ソース間電圧がそれぞれ闇値電圧Vい1.■い2以
上になったときに、どちらかのNMo5トランジスタが
先にオンになるが、上述のゲート電位の関係から、ソー
ス電位としてはその差が、l−Δ■s1のみであって、
闇値電圧Vい1.vい2のばらつきが完全に補償されて
いるため、上述のように第1のビット綿の電位が一ΔV
sとされたときには、ゲート電位がΔVsだけ高いNM
OSトランジスタNMIが先にオン状態となり、ラッチ
動作を開始することになる。
次に、このようなばらつきの補償されたラッチ動作の開
始後、第2図に示すように、一定の時差Δtをもって上
記制御信号φ8.をVcc/2からVCCに変化させる
。このとき、PMOSトランジスタ対を構成するPMO
SトランジスタPM、、PM8はランチ動作を開始する
ことになるが、各ビット線BLI、BL2の電位は、そ
れぞれ上記NMo5トランジスタ対のランチ動作によっ
て、確定的な電位となっている。したがって、当8亥P
MOSトランジスタ対では、この確定的な電位をセンシ
ングするため、特にばらつきの補償のための素子等を形
成せずして、確実なランチ動作を行うことができる。
始後、第2図に示すように、一定の時差Δtをもって上
記制御信号φ8.をVcc/2からVCCに変化させる
。このとき、PMOSトランジスタ対を構成するPMO
SトランジスタPM、、PM8はランチ動作を開始する
ことになるが、各ビット線BLI、BL2の電位は、そ
れぞれ上記NMo5トランジスタ対のランチ動作によっ
て、確定的な電位となっている。したがって、当8亥P
MOSトランジスタ対では、この確定的な電位をセンシ
ングするため、特にばらつきの補償のための素子等を形
成せずして、確実なランチ動作を行うことができる。
ここで、Δ【については、上記N M OS )ランジ
スタ対に於けるラッチ動作によって電位が確定して行く
際に、PMOSトランジスタ対のΔ■いのばらつき分よ
り大きく、NMOSトランジスタ対での電位が増幅され
る時間とすれば良く、換言すれば、このように時差Δ【
を設定することにより、特にPMOSトランジスタ対の
Δ■、の補償をしなくとも確実な動作を実現させること
ができる。
スタ対に於けるラッチ動作によって電位が確定して行く
際に、PMOSトランジスタ対のΔ■いのばらつき分よ
り大きく、NMOSトランジスタ対での電位が増幅され
る時間とすれば良く、換言すれば、このように時差Δ【
を設定することにより、特にPMOSトランジスタ対の
Δ■、の補償をしなくとも確実な動作を実現させること
ができる。
このように、第1の実施例のセンスアンプは、上記容i
t c +、 C2に、NMOSトランジスタ対を構成
するNMOSトランジスタNM、、NM、の各閾値電圧
のばらつきΔ■いに対応する電圧をそれぞれ蓄1!する
ことができ、このため当1亥ばらつきΔVいを完全に補
償したラッチ動作を実現することができる。
t c +、 C2に、NMOSトランジスタ対を構成
するNMOSトランジスタNM、、NM、の各閾値電圧
のばらつきΔ■いに対応する電圧をそれぞれ蓄1!する
ことができ、このため当1亥ばらつきΔVいを完全に補
償したラッチ動作を実現することができる。
そして、メモリセルの容量を小さくしていった場合にも
、上述のように本実施例のセンスアンプは高感度である
ため、誤動作なく確実に動作することになり、高集積化
されたメモリ装置に適用して好適である。
、上述のように本実施例のセンスアンプは高感度である
ため、誤動作なく確実に動作することになり、高集積化
されたメモリ装置に適用して好適である。
また、特に本実施例のセンスアンプは、Vいのばらつき
を補償し得るため、歩留まりの向上を図ることができる
が、更にVい等の経時的な変化が生じた場合にあっても
、確実に入力換算オフセット電圧VOSを除くことがで
きるため、信開性の向上を図ることができる。
を補償し得るため、歩留まりの向上を図ることができる
が、更にVい等の経時的な変化が生じた場合にあっても
、確実に入力換算オフセット電圧VOSを除くことがで
きるため、信開性の向上を図ることができる。
G−■ 第2の実施例 〔第3図〜第4図〕上述の第1
の実施例では、NMO3)ランジスク対に対してばらつ
きを補償するための容量やスイッチング素子を配したも
のとしたが、本発明のセンスアンプにかかる第2の実施
例は、PMOSトランジスタ対に対して用いた例であっ
て、第3図に示すように、PMOSトランジスタ対にΔ
■lのばらつきを補償するための容I C+、 Cz
、第1のスイッチング素子S++、S□及び第2のスイ
ッチング素子S11. Szzが接続された回路構成
になっている。
の実施例では、NMO3)ランジスク対に対してばらつ
きを補償するための容量やスイッチング素子を配したも
のとしたが、本発明のセンスアンプにかかる第2の実施
例は、PMOSトランジスタ対に対して用いた例であっ
て、第3図に示すように、PMOSトランジスタ対にΔ
■lのばらつきを補償するための容I C+、 Cz
、第1のスイッチング素子S++、S□及び第2のスイ
ッチング素子S11. Szzが接続された回路構成
になっている。
この第2の実施例のセンスアンプは、第3図に示すよう
に、それぞれソースが共通接続された2MOSトランジ
スタ対とNMOSトランジスタ対とを有し、PMO5)
ランジスタ対はPMOSトランジスタPM、、PM2に
より構成され、一方NMO3)ランジスク対はNMOS
トランジスタNM1.NMzにより構成されている。
に、それぞれソースが共通接続された2MOSトランジ
スタ対とNMOSトランジスタ対とを有し、PMO5)
ランジスタ対はPMOSトランジスタPM、、PM2に
より構成され、一方NMO3)ランジスク対はNMOS
トランジスタNM1.NMzにより構成されている。
この第2の実施例のセンスアンプは、上述の第1の実施
例のセンスアンプとは異なり、上記NM○Sトランジス
タ対を構成する上記NMOSトランジスタNM、、NM
、のそれぞれソースには後述するように制御信号Φ、P
とは時差ΔtをもってOレベルに制御される制御信号Φ
!8が供給され、NMOSトランジスタN M + の
ドレインには第1のビット線BLIが接続され、更に該
ビット線BL1はNMO3)ランジスクNM2のゲート
に接続されている。また、NMOSトランジスタN M
zのドレインには第2のピント線BL2が接続され、
更に該ビット線BL2は上記NMOSトランジスタNM
、のゲートに接続されている。
例のセンスアンプとは異なり、上記NM○Sトランジス
タ対を構成する上記NMOSトランジスタNM、、NM
、のそれぞれソースには後述するように制御信号Φ、P
とは時差ΔtをもってOレベルに制御される制御信号Φ
!8が供給され、NMOSトランジスタN M + の
ドレインには第1のビット線BLIが接続され、更に該
ビット線BL1はNMO3)ランジスクNM2のゲート
に接続されている。また、NMOSトランジスタN M
zのドレインには第2のピント線BL2が接続され、
更に該ビット線BL2は上記NMOSトランジスタNM
、のゲートに接続されている。
そして、Δ■いのばらつきが補償される上記PMOSト
ランジスタ対では、上記PMOSトランジスタP M
+ 、 P M zのそれぞれソースに制御電圧Φ、P
が供給される構成を有してなり、まず、2MOSトラン
ジスタPM、のドレインには、第1のスイ・7チング素
子S、の一端と第2のスイッチング素子S1□の一端が
接続されている。この第1のスイッチング素子S11の
他端は当該PMOSトランジスタPM、のゲートに接続
されている。また、第2のスイッチング素子S1!の他
端は、上記第1のビット線BL1に接続されている。そ
して、これら第1及び第2のスイッチング素子Sll、
S12はそれぞれ制御信号Φ1.Φ2により制御される
。
ランジスタ対では、上記PMOSトランジスタP M
+ 、 P M zのそれぞれソースに制御電圧Φ、P
が供給される構成を有してなり、まず、2MOSトラン
ジスタPM、のドレインには、第1のスイ・7チング素
子S、の一端と第2のスイッチング素子S1□の一端が
接続されている。この第1のスイッチング素子S11の
他端は当該PMOSトランジスタPM、のゲートに接続
されている。また、第2のスイッチング素子S1!の他
端は、上記第1のビット線BL1に接続されている。そ
して、これら第1及び第2のスイッチング素子Sll、
S12はそれぞれ制御信号Φ1.Φ2により制御される
。
また、2MOSトランジスタPMfのドレインには、第
1のスイッチング素子S2+の一端と第2のスイッチン
グ素子Szxの一端が接続されている。
1のスイッチング素子S2+の一端と第2のスイッチン
グ素子Szxの一端が接続されている。
、二の第1のスイッチング素子S!+の他端は当該PM
OSトランジスタPMZのゲートに接続されている。ま
た、第2のスイッチング素子S、の他端は、上記第2の
どノド線BL2に接続されている。
OSトランジスタPMZのゲートに接続されている。ま
た、第2のスイッチング素子S、の他端は、上記第2の
どノド線BL2に接続されている。
そして、これら第1及び第2のスイッチング素子S2い
S。は、上記第1及び第2のスイッチング素子S、いS
1□と同様なそれぞれ制御信号φ9.Φつにより制御さ
れる。
S。は、上記第1及び第2のスイッチング素子S、いS
1□と同様なそれぞれ制御信号φ9.Φつにより制御さ
れる。
次に、本実施例のセンスアンプのPMO3I−ランジス
タ対を構成する各トランジスタPM、、PM2の各ゲー
トは容量接続とされている。すなわち、PMOSトラン
ジスタPM、のゲートは上述のように第1のスイッチン
グ素子S、の他端が接続すると共に容1 c +が接続
され、政客Ic、の他端が上記第2のビット線BL2と
接続するように構成されており、また、PMOSトラン
ジスタPM8のゲートは上述のように第1のスイッチン
グ素子SZIの他端が接続すると共に容■C2が接続さ
れ、政客ff1czの他端が上記第1のビット線BL1
と接続するように構成されている。そして、これら容I
C、C2によって、上述の第1の実施例の容1c+、
c2の機能と同様に、当該トランジスタ対の閾値電圧の
ばらつきΔ■いを補償することが可能となる。
タ対を構成する各トランジスタPM、、PM2の各ゲー
トは容量接続とされている。すなわち、PMOSトラン
ジスタPM、のゲートは上述のように第1のスイッチン
グ素子S、の他端が接続すると共に容1 c +が接続
され、政客Ic、の他端が上記第2のビット線BL2と
接続するように構成されており、また、PMOSトラン
ジスタPM8のゲートは上述のように第1のスイッチン
グ素子SZIの他端が接続すると共に容■C2が接続さ
れ、政客ff1czの他端が上記第1のビット線BL1
と接続するように構成されている。そして、これら容I
C、C2によって、上述の第1の実施例の容1c+、
c2の機能と同様に、当該トランジスタ対の閾値電圧の
ばらつきΔ■いを補償することが可能となる。
このような回路構成を存する本実施例のセンスアンプ已
よ、上述の第1の実施例のセンスアンプと略同様、第4
図に示すように、プリチャージ期間として制御(3号φ
1.Φ2のレベルを原作して通常のセンスアンプの状態
から、容量にダイオード接続されるトランジスタが直列
に配される回路状態に切換え、かつ、本実施例の場合に
は制御信号φ3Fのレベルを一定期間所定電圧大きくす
ることにより、PMOSトランジスタ対に上述の接続関
係で接続される上記各NC+、Ctに、各PMOSトラ
ンジスタPM、、PM!の各閾値電圧Vい2.vLhi
に対応した電圧がそのまま保持されることになる。
よ、上述の第1の実施例のセンスアンプと略同様、第4
図に示すように、プリチャージ期間として制御(3号φ
1.Φ2のレベルを原作して通常のセンスアンプの状態
から、容量にダイオード接続されるトランジスタが直列
に配される回路状態に切換え、かつ、本実施例の場合に
は制御信号φ3Fのレベルを一定期間所定電圧大きくす
ることにより、PMOSトランジスタ対に上述の接続関
係で接続される上記各NC+、Ctに、各PMOSトラ
ンジスタPM、、PM!の各閾値電圧Vい2.vLhi
に対応した電圧がそのまま保持されることになる。
そして、上述の第1の実施例と同様に、メモリセルの容
量に記憶される情報信号を第1若しくは1亥2のビット
線BL1.BL2に現出させ、続いて、上記制御信号φ
3.をVcc/2レベルからVCCレベルにすることで
、PMOSトランジスタPM+、PM意によるラッチ動
作が開始される。
量に記憶される情報信号を第1若しくは1亥2のビット
線BL1.BL2に現出させ、続いて、上記制御信号φ
3.をVcc/2レベルからVCCレベルにすることで
、PMOSトランジスタPM+、PM意によるラッチ動
作が開始される。
このとき当該PMOSトランジスタPMI、PMよでは
、上記容量C,,C,によりVいのばらつきが補償され
ているため、ビット線に現れる電荷を確実にセンシング
して動作を行うことになり、さらに上述の第1の実施例
と同様に一定の時差Δtの後、NMOS)ランジスク対
を構成するNMOSトランジスタN M + 、 N
M zのう・7チ動作を制御信号Φ、Hによって行う、
この場合において、NMOS)ランジスタN M +
、 N M zのラッチ動作は、上記PMOSトランジ
スタ対のラッチ動作による確定的なデータを基礎に行わ
れるため、特にNMOSトランジスタ対に対してばらつ
きの補償のための容量等を接続させることもなく、確実
なセンスアンプとして動作を行うことができる。
、上記容量C,,C,によりVいのばらつきが補償され
ているため、ビット線に現れる電荷を確実にセンシング
して動作を行うことになり、さらに上述の第1の実施例
と同様に一定の時差Δtの後、NMOS)ランジスク対
を構成するNMOSトランジスタN M + 、 N
M zのう・7チ動作を制御信号Φ、Hによって行う、
この場合において、NMOS)ランジスタN M +
、 N M zのラッチ動作は、上記PMOSトランジ
スタ対のラッチ動作による確定的なデータを基礎に行わ
れるため、特にNMOSトランジスタ対に対してばらつ
きの補償のための容量等を接続させることもなく、確実
なセンスアンプとして動作を行うことができる。
このような動作を行う第2の実施例のセンスアンプは、
上記第1の実施例と同様に、上記各ICI+C!に、P
MOSトランジスタ対を構成するPMOSトランジスタ
P M + 、 P M 2の各閾値電圧のばらつき
Δ■いに対応する電圧をそれぞれ蓄積することができ、
このため当HlばらつきΔ■、を完全に補償したランチ
動作を実現することができる。また、第1の実施例のセ
ンスアンプと同様に、高集積化されたメモリ装置に適用
して好適である。
上記第1の実施例と同様に、上記各ICI+C!に、P
MOSトランジスタ対を構成するPMOSトランジスタ
P M + 、 P M 2の各閾値電圧のばらつき
Δ■いに対応する電圧をそれぞれ蓄積することができ、
このため当HlばらつきΔ■、を完全に補償したランチ
動作を実現することができる。また、第1の実施例のセ
ンスアンプと同様に、高集積化されたメモリ装置に適用
して好適である。
更に、本実施例のセンスアンプは、Vthのばらつきを
補償し得るため、歩留まりの向上を図ることができ、■
い等の経時的な変化が生じた場合にあっても、確実に入
力換算オフセット電圧VOSを除くことができるため、
信頼性の向上を図ることができる。
補償し得るため、歩留まりの向上を図ることができ、■
い等の経時的な変化が生じた場合にあっても、確実に入
力換算オフセット電圧VOSを除くことができるため、
信頼性の向上を図ることができる。
G−■ 第3の実施例 〔第5図〜第6図〕第3の実施
例のセンスアンプは、PMOSトランジスタ対及びNM
O5I−ランジスタ対の双方に■いのばらつきを補償す
るための容量並びに第1及び第2のスイッチング素子を
配設したセンスアンプである。
例のセンスアンプは、PMOSトランジスタ対及びNM
O5I−ランジスタ対の双方に■いのばらつきを補償す
るための容量並びに第1及び第2のスイッチング素子を
配設したセンスアンプである。
先ず、その回路構成は、第5図に示すように、PMOS
トランジスタ対を構成するPMOSトランジスタP M
+ 、 P M ! 、N M OS )ランジスタ
対を構成するNMOSトランジスタNM、、NM!のそ
れぞれがソース共通接続とされ、各ソースには制御信号
φ、P、Φ、8がそれぞれ供給される。PMOSトラン
ジスタPM、とNMOS)ランジスタN M + のゲ
ートはそれぞれ容1c、いC□を介して第2のビット線
BL2と接続され、PMOSトランジスタPM、とNM
OS)ランジスタN M sのゲートはそれぞれ容I
CP 2、CN2を介して第1のどノド線BLIと接続
され、さらに各MOSトランジスタPM+、PMz 、
NM+、NMzのゲートは当j亥トランジスタのドレイ
ンに、それぞれ制御信号φ1により制御されるそれぞれ
第1のスイッチング素子S P ++、S P tr、
SN、い5N21を介して接続され、また、MOSトラ
ンジスタPM+。
トランジスタ対を構成するPMOSトランジスタP M
+ 、 P M ! 、N M OS )ランジスタ
対を構成するNMOSトランジスタNM、、NM!のそ
れぞれがソース共通接続とされ、各ソースには制御信号
φ、P、Φ、8がそれぞれ供給される。PMOSトラン
ジスタPM、とNMOS)ランジスタN M + のゲ
ートはそれぞれ容1c、いC□を介して第2のビット線
BL2と接続され、PMOSトランジスタPM、とNM
OS)ランジスタN M sのゲートはそれぞれ容I
CP 2、CN2を介して第1のどノド線BLIと接続
され、さらに各MOSトランジスタPM+、PMz 、
NM+、NMzのゲートは当j亥トランジスタのドレイ
ンに、それぞれ制御信号φ1により制御されるそれぞれ
第1のスイッチング素子S P ++、S P tr、
SN、い5N21を介して接続され、また、MOSトラ
ンジスタPM+。
NM、の各ドレインは制御信号φ2により制御される第
2のスイッチング素子SP、□、SN、□を介して第1
のビット線BLIに接続され、さらに、MOS)ランジ
スタP M z、 N M zの各ドレインは制御信号
Φ2により制御される第2のスイッチング素子SP!!
、SNoを介して第2のビット線BL2に接続されてい
る。
2のスイッチング素子SP、□、SN、□を介して第1
のビット線BLIに接続され、さらに、MOS)ランジ
スタP M z、 N M zの各ドレインは制御信号
Φ2により制御される第2のスイッチング素子SP!!
、SNoを介して第2のビット線BL2に接続されてい
る。
このような構成を有する第3の実施例のセンスアンプは
、第6図に示すように、センシング前のプリチャージ期
間に、制御信号Φ31.Φ、Nによって上記各fft
CP l、CHl、cpz、0M2にそれぞれVlのば
らつきを補償するための各トランジスタの闇値電圧に対
応した電圧が加わり、それがそのまま保持される。そし
て、その後、上記制御信号Φ、P、Φ、Hをそれぞれ■
、いOレベルに変化させることによりばらつきを補償し
て確実なセンシングを実現することが可能となる。
、第6図に示すように、センシング前のプリチャージ期
間に、制御信号Φ31.Φ、Nによって上記各fft
CP l、CHl、cpz、0M2にそれぞれVlのば
らつきを補償するための各トランジスタの闇値電圧に対
応した電圧が加わり、それがそのまま保持される。そし
て、その後、上記制御信号Φ、P、Φ、Hをそれぞれ■
、いOレベルに変化させることによりばらつきを補償し
て確実なセンシングを実現することが可能となる。
H0発明の効果
本発明のセンスアンプは、上述のようにCMO3のセン
スアンプに適用して、Vいのばらつきによる感度の低下
を抑えて、確実なセンシング動作を実現することができ
る。そして、特に素子の微細化を図った場合には、感度
が問題となるが、本発明を適用することにより、容易に
この問題を解決できる。さらに、本発明を用いることに
より、容量のサイズを小さくしても確実なセンシング動
作を行うことができるため、十分な高集積化が可能であ
る。また、本発明のセンスアンプでは、V、hのばらつ
きが完全に補償されるため、歩留まりの向上を図ること
ができ、また、経時的にも確実な動作が実現される。
スアンプに適用して、Vいのばらつきによる感度の低下
を抑えて、確実なセンシング動作を実現することができ
る。そして、特に素子の微細化を図った場合には、感度
が問題となるが、本発明を適用することにより、容易に
この問題を解決できる。さらに、本発明を用いることに
より、容量のサイズを小さくしても確実なセンシング動
作を行うことができるため、十分な高集積化が可能であ
る。また、本発明のセンスアンプでは、V、hのばらつ
きが完全に補償されるため、歩留まりの向上を図ること
ができ、また、経時的にも確実な動作が実現される。
第1図は本発明のセンスアンプの一例を示す回路図、第
2図はその動作を説明するためのタイムチャート、第3
図は本発明のセンスアンプの他の例を示す回路図、第4
図はその動作を説明するためのタイムチャート、第5図
は本発明のセンスアンプの更に他の例を示す回路図、第
6図はその動作を説明するためのタイムチャートである
。 また、第7図は従来のセンスアンプの一例を示す回路図
、第8図は従来のセンスアンプの動作を説明するための
タイムチャートである。 PM、、PMffi ・・・PMOSトランジスタN
M、、NMt ・・・NMOSトランジスタC,、C
言、C□+ Cpt+ Cs+、 Cut・・・容量S
l l * S 11、SP++、SPz+、SN
++、SNz+・・・第1のスイッチング素子 S 11 S tz、SP+*、5Pzz、SN+z
、5Nzz・・・第2゛のスイッチング素子 φ!2.ΦSN+ φ1.Φ2 ・・・制御信号BLI
・・・第1のビット線 BL2・・・第2のビット線
2図はその動作を説明するためのタイムチャート、第3
図は本発明のセンスアンプの他の例を示す回路図、第4
図はその動作を説明するためのタイムチャート、第5図
は本発明のセンスアンプの更に他の例を示す回路図、第
6図はその動作を説明するためのタイムチャートである
。 また、第7図は従来のセンスアンプの一例を示す回路図
、第8図は従来のセンスアンプの動作を説明するための
タイムチャートである。 PM、、PMffi ・・・PMOSトランジスタN
M、、NMt ・・・NMOSトランジスタC,、C
言、C□+ Cpt+ Cs+、 Cut・・・容量S
l l * S 11、SP++、SPz+、SN
++、SNz+・・・第1のスイッチング素子 S 11 S tz、SP+*、5Pzz、SN+z
、5Nzz・・・第2゛のスイッチング素子 φ!2.ΦSN+ φ1.Φ2 ・・・制御信号BLI
・・・第1のビット線 BL2・・・第2のビット線
Claims (1)
- それぞれソースが共通接続されたPMOSトランジスタ
対とNMOSトランジスタ対とを有し、それぞれソース
に供給される制御信号に応じてラッチ動作を行い第1若
しくは第2のビット線に現れる電荷をセンシングするセ
ンスアンプにおいて、少なくとも上記PMOSトランジ
スタ対若しくは上記NMOSトランジスタ対の一方のト
ランジスタ対では、当該トランジスタ対を構成する各M
OSトランジスタのゲートが第1若しくは第2のビット
線との間でそれぞれ容量接続とされ、当該トランジスタ
対を構成する各MOSトランジスタのドレインとゲート
との間にそれぞれ第1のスイッチング素子が配設され、
当該トランジスタ対を構成する各MOSトランジスタの
ドレインとビット線の接続点との間にそれぞれ第2のス
イッチング素子が配設されてなるセンスアンプ。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61116116A JPS62273694A (ja) | 1986-05-22 | 1986-05-22 | センスアンプ |
| KR1019870002642A KR950012021B1 (ko) | 1986-05-22 | 1987-03-23 | 센스앰프 |
| US07/031,569 US4858195A (en) | 1986-05-22 | 1987-03-30 | Bit line charge sensing apparatus having CMOS threshold voltage compensation |
| GB8708490A GB2190808B (en) | 1986-05-22 | 1987-04-09 | Apparatus for sensing an electric charge appearing on a bit line of a memory cell |
| DE19873716803 DE3716803A1 (de) | 1986-05-22 | 1987-05-19 | Leseverstaerker fuer halbleiterspeicher |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61116116A JPS62273694A (ja) | 1986-05-22 | 1986-05-22 | センスアンプ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62273694A true JPS62273694A (ja) | 1987-11-27 |
Family
ID=14679085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61116116A Pending JPS62273694A (ja) | 1986-05-22 | 1986-05-22 | センスアンプ |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4858195A (ja) |
| JP (1) | JPS62273694A (ja) |
| KR (1) | KR950012021B1 (ja) |
| DE (1) | DE3716803A1 (ja) |
| GB (1) | GB2190808B (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100275345B1 (ko) * | 1996-06-14 | 2000-12-15 | 아끼구사 나오유끼 | 반도체 회로에 사용되는 트랜지스터의 임계전압 보상 회로 및 임계전압 보상 방법 |
| JP2007235718A (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-13 | Nec Electronics Corp | 信号増幅器 |
| JP2010049770A (ja) * | 2008-08-25 | 2010-03-04 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置、及びそれを用いたトリミング方法 |
| KR100946943B1 (ko) * | 2001-11-30 | 2010-03-15 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 센스 증폭기 및 이를 사용한 전자 장치 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH02142214A (ja) * | 1988-11-24 | 1990-05-31 | Nippon Motoroola Kk | オフセット電圧を補償したラッチングコンパレータ |
| US5020028A (en) * | 1989-08-07 | 1991-05-28 | Standard Microsystems Corporation | Four transistor static RAM cell |
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| US5032744A (en) * | 1989-10-31 | 1991-07-16 | Vlsi Technology, Inc. | High speed comparator with offset cancellation |
| US5017815A (en) * | 1989-12-20 | 1991-05-21 | At&T Bell Laboratories | Sense amplifier with selective pull up |
| JPH04186593A (ja) * | 1990-11-21 | 1992-07-03 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
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| KR950010567B1 (ko) * | 1992-10-30 | 1995-09-19 | 삼성전자주식회사 | 반도체장치의 출력단회로 |
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| JP2937027B2 (ja) * | 1994-09-07 | 1999-08-23 | 日本電気株式会社 | コンパレータ |
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| KR102234600B1 (ko) | 2014-07-09 | 2021-04-02 | 삼성전자주식회사 | 트랜지스터들 간의 미스매치를 보상할 수 있는 비트라인 센스 증폭기 및 이를 포함하는 반도체 메모리 장치 |
| KR102562312B1 (ko) | 2016-08-24 | 2023-08-01 | 삼성전자주식회사 | 비트라인 센스 앰프 |
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1986
- 1986-05-22 JP JP61116116A patent/JPS62273694A/ja active Pending
-
1987
- 1987-03-23 KR KR1019870002642A patent/KR950012021B1/ko not_active Expired - Lifetime
- 1987-03-30 US US07/031,569 patent/US4858195A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-04-09 GB GB8708490A patent/GB2190808B/en not_active Expired
- 1987-05-19 DE DE19873716803 patent/DE3716803A1/de not_active Withdrawn
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| GB2190808B (en) | 1989-12-13 |
| GB8708490D0 (en) | 1987-05-13 |
| KR950012021B1 (ko) | 1995-10-13 |
| GB2190808A (en) | 1987-11-25 |
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