JPS62273719A

JPS62273719A - 荷電ビ−ム露光装置におけるデ−タ検証方法

Info

Publication number: JPS62273719A
Application number: JP61116069A
Authority: JP
Inventors: Osamu Ikenaga; 修池永
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1986-05-22
Filing date: 1986-05-22
Publication date: 1987-11-27

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】３、発明の詳細な説明〔発明の目的〕（産業上の利用分野）本発明は、荷電ビーム露光装置に於いて、集積回路等の
設計パターンデータから生成した露光ずべき単位図形を
検証するための荷電ビーム亀光装置におけるデータ検証
方法に関する。

（従来の技術）ＬＳＩのパターンは、近年益々微細かつ板体になってお
り、このようなパターン’ｆ−ｑ’−；、５　Ｉｆう装
置としては、荷電ビーム露光装置の１つとじζ二例えば
電子ビーム露光装置が用いられている。ここでは、この
電子ビーム麹光装置を例にパ・“）説明を行なう。

上記電子ビーム露光装置を用いて所望パターンを露光す
る場合、設計ツール（例えばＣＡＤ）で生成される図形
データは通常そのままの形式では上記露光装置の描画デ
ータとして用いることができない。

その理由は、設計データは一般に多角形で表現されてい
るのに対し電子ビーム露光に用いるデータは台形若しく
は矩形データしか許容されない事と、図形間に重なりが
あると多重露光となってし才い描画データとして適さな
いという事に起因している。

従って、上記設計データに例えば輪郭化処理を施して多
重露光の除去を行ない、その後矩形・台形等の基本図形
や描画単位図形に分割し電子ビーム露光装置にとって許
容し得る図形データとしている。

この場合、電子ビーム露光装置で効率良く所望パターン
を露光するためには分割パターン数が最小となるよう図
形分割を施すことが必須となり、一般には第２図体）に
示す多角形を（ｂ）に示す如くＸ方向に存在する頂点Ｐ
ｌ乃至Ｐ６に基づいて図形分割する方法が知られている
。そして、この各図形を更にパターン創成の単位図形で
ある描画単位図形に分割して該データに基づいて描画処
理が行なわれる。

しかし、少なくとも２枚のビーム成形用アパーチャを組
み合わせて電子光学的重なりｌこより成形ビームを生成
し該ビームを用いて描画処理を行なう成形ビーム露光方
式では、電子光学系の収差により電流密度分布の不均一
が存在し、この不均一は特にビームの周辺部において著
しい。（以下上記不均一を「ぼけ」と呼称する）この「ぼけ」の影響により第２図（ｂ）に示す図形を描
画した場合は上記「ぼけ」と同程度あるいはそれ以下の
図形Ｃ以下微小図形と呼称する）である第２図（ｃ）に
示す８１，８２．８３のような図形を描画するには厳密
かつ複雑な制御が必要になるという欠点がある。

近年、上記問題を回避する図形分割方法が、特開昭５７
−１２２５２５号公報に開本されているが実用パターン
で上記微小図形を皆無にするものではない。

上述の状況で発生する上記微小図形の有無を検証する手
段としては描画して得られたＬＳＩパターンを人間が観
察し、図形の寸法詔よぴ分割図形間の「つなぎ」部分等
に対する精度を評価し、その劣化要因を解析し、更に必
要に応じて所望の領域の描画データをプリンタやディス
プレイ等の出力装置に出力して確認する方法や、描画デ
ータに基づいてそのパターン図形をグラフィック装置へ
第３図の如く表示し人間が該パターンを注意深く観察し
て上記微小図形を５判定するという極めて原始的な方法
であり、データ検証の精度および効率を高める上で問題
があった。

また、上記の如く問題は今後ＬＳＩの急速な進歩でパタ
ーンの微細化詔よびＬ８Ｉチップパターンの図形数の増
加により、上記電子ビーム露光装置の効率的な運用およ
び描画積度を高めていく上で大きな問題となる。

（発明の鱗形しようとする問題点）本発明は荷電ビーム露光装置の従来のデータ検証方法に
おける上記のような問題を解決するためになされたもの
で、その目的はデータの検証精度を高めかつ効率的なデ
ータ検証をはかり得る荷電ビーム露光装置におけるデー
タ検証方法を提供することにある。

〔発明の構成〕

（問題点を解決するための手段）本発明の骨子は、上記「ぼけ」の影響により電子ビーム
の照射位置や照射時間を厳密かつ複雑に制御する必要の
ある微小図形と他の図形とを容易に識別せられる形式で
パターン表示して装置を効率良く運用することにある。

すなわち、本発明は少なくとも２枚のビーム成形用アパ
ーチャを有するマスクを備え、これらのマスクの各アパ
ーチャの電子光学的重なりを偏向器により制御して荷電
ビームの寸法及び形状を成形し、この成形ビームを試料
上に照射してこの試料に所望パターンを露光する荷電ビ
ーム露光装置において、前記荷電ビームで単一照射可能
な図形群にＬＳＩパターンを分割し、該図形群を図形表
示手段により図形表示する場合に、前記荷電ビームに許
容し得る最小長に満たない短辺を含む図形を他の図形と
色違い若しくはハツチングして図形表示するというもの
である。

（作用）本発明によれば、ＣＡＤなどの設計システムから出力さ
れるＬＳＩのパターンデータから電子ビーム描画装置で
用いるデータを生成する際に発生する微小図形を極めて
容易に判別することが可能となり、描画精度の低下要因
を解析する上で有効であると共にパターンデータの検証
精度を高める事ができる。また、上記微小図形の発生を
防止すべく図形分割方法を検証することが容易となり、
その開発を短縮する事ができ、その結果として極めて効
率良く電子ビーム描画装置を運用することができる。

（実施例）以下本発明を実施例に沿って説明する。第１図は本実施
例で用いられる装置の概略構成を示すブロック図である
。

描画パターンを示すセルデータ１はセルデータバッファ
２に格納される。描画位置とセルデータをさすポインタ
で構成される描画データ３は描画データデコーダ９で解
釈されセルデータ各７がセルデータバッファ２に送られ
て指定のセルデータがセルデータバッファ２から読み出
される。サブフィールド番号１０は主偏向器コントロー
ラ１１ζこ送られ、オフセットデータ１４は副偏向器コ
ントローラ１５に送られる。パターンデータデコーダ４
はパターンデータ３を解釈しサブフィールドの位置決め
データを主偏向器ドライバ１２に送る。

電子ビームは主偏向器１３で指定のサブフィールド位置
に偏向走査される。

副偏向器コントローラ１５は描画データデコーダ９から
オフセットデータ１４を、またセルデータバッファ２か
らセルサイズ１８を受は取り副偏向器走査のコントロー
ル信号を発生し、これを受けた副偏向器ドライバ１６は
副偏向信号を発生し、副偏向器１７によりサブフィール
ドでの図形描画位置の位置決めを行なうというものであ
る。

第４図は上述の電子ビーム描画装置を運用する際に用い
る描画パターンデータの生成工程を示す模式図である。

ＣＡＤシステムで設計されたＬＳＩデータは第５図（ａ
）に示す如く多角形データＡ、Ｂ。

Ｃにより構成されており、上記データ形式を電子ビーム
描画装置で許容しつる形式とするため、上記ＬＳＩデー
タを磁気テープを介してホスト計算機に転送する。そし
て、ホスト計算機では電子ビームで多重露光となる領域
ａ１　、ａ２を除去するため第５図（ｂ）の如く輪郭化
処理を施し多角形りを得て、更に該図形りを矩形ｔよび
台形で表現される基本図形とするため多角形りの各頂点
に対しＹ方向（紙面上下方向）で図形分割を行ないセル
データＳ１乃至Ｓ７を生成し、該データが電子ビーム描
画装置に送出され描画単位図形に展開され、このデータ
に基づいて電子ビーム描画装置が制御計算機で制御され
て描画処理されるものとなっている。

上記工程で上記基本図形が正しく生成されているかを検
証するため、上記基本図形および基本図形をホスト計算
機で図形分割して得られる描画単位図形をホスト計算機
からパターン表示装置としてグラフィックディスプレイ
に表示するに際して第６図に示す如く図形の幅および高
さが電子ビーム描画装置で許容しうる長さεより大きな
図形ｇｌ乃至ｇ４を第１の色（例えば緑色）で表示し、
図形の幅および高さの少なくとも一方が上記εに満たな
い辺を含む図形γ１乃至ｒ３を第２の色（例えば赤色）
若しくは塗り潰し等のハツチング表示することにより、
描画精度の低下を招く微小図形を極めて容易に識別する
ことができた′。

以上の結果として極めて効率良く電子ビーム描画装置を
運用することができた。

なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
い。例えば電子ビーム光学系の構造も何ら実施例に限定
されるものでなく適宜変更可能である。また、本実施例
では電子ビームを例にとり説明したが、ビームも電子ビ
ームに限定される事なく、イオンビームを含む荷電ビー
ムに対し適用可能であり、更にパターン表示装置として
静電プロッタ若しくはペンプロッタでもよい。また、パ
ターン表示装置への表示は制御計算機で行なってもよく
、その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形し
て実施することができる。

〔発明の効果〕

本発明によれば高精度で、効率的にデータ検証を行うこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例で使用する装置を示すブロッ
ク図、第２図および第３図は従来の問題点を説明するた
めの図、第４図は上記装置に係わる描画データを生成す
る工程を示す模式図、第５図は基本図形を生成する過程
を示す模式図、第６図は描画パターンを検証するための
パターン表示の一例を示す説明図である。１・・・セルデータ、２・・・セルデータバッファ、３
・・・パターンデータ、４・・・パターンデータデコー
ダ、５・・・可変ビーム成形缶ドライバ、６・・・可変
ビーム成形器、７・・・セルデータ名、８・・・描画デ
ータ、９・・・描画データデコーダ、１０・・・サブフ
ィールド番号、１１・・・主偏向器コントローラ、１２
・・・主偏、内器ドライバ、１３・・・主偏向器、１４
・・・オフセットデータ、１５・・・副偏向器コントロ
ーラ、１６・・・副偏向器ドライバ、１７・・・副偏向
器、１８・・・セルサイズ。代理人　弁理士　則　近　憲　佑同　　　　竹　花　喜久男第　　８　図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）少なくとも２枚のビーム成形用アパーチャを有す
るマスクを備え、これらのマスクの各アパーチャの電子
光学的重なりを偏向器により制御して荷電ビームの寸法
及び形状を成形し、この成形ビームを試料上に照射して
この試料に所望パターンを露光する荷電ビーム露光装置
において、前記荷電ビームで単一照射可能な図形群にＬ
ＳＩパターンを分割し、該図形群を図形表示手段により
図形表示する場合に、前記荷電ビームに許容し得る最小
長に満たない短辺を含む図形を他の図形と区別して表示
することを特徴とする荷電ビーム露光装置におけるデー
タ検証方法。
（２）特許請求の範囲第１項記載のデータ検証方法にお
いて、前記荷電ビームに許容し得る最小長に満たない短
辺を含む図形を他の図形と色違いにして表示することを
特徴とする荷電ビーム露光装置におけるデータ検証方法
。
（３）特許請求の範囲第１項記載のデータ検証方法にお
いて、前記荷電ビームに許容し得る最小長に満たない短
辺を含む図形をハッチング表示して他の図形と識別する
ことを特徴とする荷電ビーム露光装置におけるデータ検
証方法。