JPS62283535A - 陰極線管 - Google Patents
陰極線管Info
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- JPS62283535A JPS62283535A JP62122674A JP12267487A JPS62283535A JP S62283535 A JPS62283535 A JP S62283535A JP 62122674 A JP62122674 A JP 62122674A JP 12267487 A JP12267487 A JP 12267487A JP S62283535 A JPS62283535 A JP S62283535A
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- Video Image Reproduction Devices For Color Tv Systems (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
本発明は、陰極螢光表示スクリーンとフェースプレート
の内側間に配置した多層干渉フィルターを有する陰極線
管およびその製造方法に関するものである。
の内側間に配置した多層干渉フィルターを有する陰極線
管およびその製造方法に関するものである。
多層干渉フィルターは、高屈折率を有する材料と低屈折
率を有する材料から交互に製造された若干の層を備える
。かかる干渉フィルターを備える投写形表示管は、欧州
特許出願公開第０１７０３２０号明細書、未公開のオラ
ンダ国特許出願第８５０２２２６号（ＰＩＩＮ １１．
４６０）明細書および未公開の英国特許出願８５１３５
５８号（ＰＨ０８５，００７）明細書に開示されている
。代表的に、交互の層は、低屈折率材料の場合のＳｉｎ
ｇ ＣＭ折率ｎ＝１．４７）またはｈｇｌ？、 （ｎ
＝１．３８）と、高屈折率材料の場合のＴｉ０ｚ （ｎ
＝２．３５）またはＴａ２ｅｓ （ｎ ＝２．ＯＯ
） とから構成することができ、且の正確な値は、蒸
着中の基板温度、また、蒸着後のアニールサイクルに左
右される。これら知られている多層フィルターは、各々
高および低屈折率材料から製造された少なくとも６個し
かし一層代表的には少なくとも１４個の交互の層を備え
る。
率を有する材料から交互に製造された若干の層を備える
。かかる干渉フィルターを備える投写形表示管は、欧州
特許出願公開第０１７０３２０号明細書、未公開のオラ
ンダ国特許出願第８５０２２２６号（ＰＩＩＮ １１．
４６０）明細書および未公開の英国特許出願８５１３５
５８号（ＰＨ０８５，００７）明細書に開示されている
。代表的に、交互の層は、低屈折率材料の場合のＳｉｎ
ｇ ＣＭ折率ｎ＝１．４７）またはｈｇｌ？、 （ｎ
＝１．３８）と、高屈折率材料の場合のＴｉ０ｚ （ｎ
＝２．３５）またはＴａ２ｅｓ （ｎ ＝２．ＯＯ
） とから構成することができ、且の正確な値は、蒸
着中の基板温度、また、蒸着後のアニールサイクルに左
右される。これら知られている多層フィルターは、各々
高および低屈折率材料から製造された少なくとも６個し
かし一層代表的には少なくとも１４個の交互の層を備え
る。
層は、次式
（式中の１は層の材料の屈折率、丈は厚さを示す）で表
される光学的厚さを有し、個々の層の光学的厚さは２Ｏ
．２ λｆ〜０．３ スｆである。但し、λｆはρ×
λに等しく、λは関連する表示管の螢光材料によって発
せられるスペクトルから選択される所望の中心波長、ｐ
は湾曲したフェースプレートに対して１．１８〜１．３
２、平坦なフェースプレートに対して１．１８〜１．３
６の数である。積重ね全体に亘る平均光学的厚さは２Ｏ
．１２５ λｆの最も外側の末端層を除いて２Ｏ．２５
λｆであり、λｆはフィルターの中心波長である。これ
ら知られている短波長透過多層フィルターは、かなり満
足に働くが、更に調査の結果、管の製造が完了した後に
、フィルターが、クレージング（亀裂の生成）を被り得
ることを示した。クレージングは、フィルター層の蒸着
に続いて、４００〜４６０℃の温度までの温度サイクル
を含む管の処理後に、それ自体出現する。かかるクレー
ジングは、多層干渉フィルターの光学的性能の質を減す
る。
される光学的厚さを有し、個々の層の光学的厚さは２Ｏ
．２ λｆ〜０．３ スｆである。但し、λｆはρ×
λに等しく、λは関連する表示管の螢光材料によって発
せられるスペクトルから選択される所望の中心波長、ｐ
は湾曲したフェースプレートに対して１．１８〜１．３
２、平坦なフェースプレートに対して１．１８〜１．３
６の数である。積重ね全体に亘る平均光学的厚さは２Ｏ
．１２５ λｆの最も外側の末端層を除いて２Ｏ．２５
λｆであり、λｆはフィルターの中心波長である。これ
ら知られている短波長透過多層フィルターは、かなり満
足に働くが、更に調査の結果、管の製造が完了した後に
、フィルターが、クレージング（亀裂の生成）を被り得
ることを示した。クレージングは、フィルター層の蒸着
に続いて、４００〜４６０℃の温度までの温度サイクル
を含む管の処理後に、それ自体出現する。かかるクレー
ジングは、多層干渉フィルターの光学的性能の質を減す
る。
本発明の目的は、陰極線管に使用する多層干渉フィルタ
ーにおけるクレージングを減少、好ましくは回避せんと
するにある。
ーにおけるクレージングを減少、好ましくは回避せんと
するにある。
本発明の他の目的は、フィルター蒸着のためのサイクル
時間を減少せんとするにある。
時間を減少せんとするにある。
本発明の第１の見地において、フェースプレートの内側
に面する表面に設けた多層干渉フィルターを備える陰極
線管を製造するに当たり、５酸化ニオブを含有する比較
的高い屈折率の材料と、比較的低い屈折率の材料との交
互の層を、フェースプレート上に堆積することを特徴と
する陰極線管の製造方法を提供する。
に面する表面に設けた多層干渉フィルターを備える陰極
線管を製造するに当たり、５酸化ニオブを含有する比較
的高い屈折率の材料と、比較的低い屈折率の材料との交
互の層を、フェースプレート上に堆積することを特徴と
する陰極線管の製造方法を提供する。
本発明の第２の見地において、フェースプレート、陰極
螢光スクリーンおよびフェースプレートとスクリーンと
の間に設けた多層干渉フィルターを備える陰極線管にお
いて、該干渉フィルターが、５酸化ニオブを含有する比
較的高い屈折率の材料と、比較的低い屈折率の材料との
交互の層をフェースプレート上に堆積して有することを
特徴とする陰極線管を提供する。
螢光スクリーンおよびフェースプレートとスクリーンと
の間に設けた多層干渉フィルターを備える陰極線管にお
いて、該干渉フィルターが、５酸化ニオブを含有する比
較的高い屈折率の材料と、比較的低い屈折率の材料との
交互の層をフェースプレート上に堆積して有することを
特徴とする陰極線管を提供する。
２酸化チタンと比較して、５酸化ニオブを使用する利点
は、第１に、２酸化チタンでは３００ ℃であるのと比
較して５酸化ニオブでは著しく低い温度、８０℃で蒸着
させることができ、これがサイクル時間を約１７２に減
少させ、第２には、５酸化ニオブを用いて得られるフィ
ルターは作製したフェースプレートを加工するのに必要
である４００〜４６０℃−までの温度を含む加熱サイク
ルで処理する場合、クレージングに対してより抵抗性を
有することである。
は、第１に、２酸化チタンでは３００ ℃であるのと比
較して５酸化ニオブでは著しく低い温度、８０℃で蒸着
させることができ、これがサイクル時間を約１７２に減
少させ、第２には、５酸化ニオブを用いて得られるフィ
ルターは作製したフェースプレートを加工するのに必要
である４００〜４６０℃−までの温度を含む加熱サイク
ルで処理する場合、クレージングに対してより抵抗性を
有することである。
２酸化チタンを低温で蒸着する場合、酸化速度は、幾分
遅く、十分に酸化されず従って吸光層が形成されるかま
たは許容できない長い蒸着時間および低屈折率層を生ず
る。５酸化ニオブは、既に８０℃の温度において高速度
で蒸着することができ、高屈折率を有する層を生ずる。
遅く、十分に酸化されず従って吸光層が形成されるかま
たは許容できない長い蒸着時間および低屈折率層を生ず
る。５酸化ニオブは、既に８０℃の温度において高速度
で蒸着することができ、高屈折率を有する層を生ずる。
５酸化ニオブの蒸着のかかる高速度は、８０℃において
フィルター蒸着のためのサイクル時間を減少する。
フィルター蒸着のためのサイクル時間を減少する。
５酸化タンタルと比較して、５酸化ニオブを使用する利
点は、第１に、５酸化ニオブが、著しく広い反射帯を有
するフィルターを生ずる著しく高い屈折率を有し、第２
には、５酸化ニオブを用いる干渉フィルターが、４００
〜４６０℃までの温度を含む加熱サイクルで処理する場
合、クレージングに対して一層抵抗性があることである
。
点は、第１に、５酸化ニオブが、著しく広い反射帯を有
するフィルターを生ずる著しく高い屈折率を有し、第２
には、５酸化ニオブを用いる干渉フィルターが、４００
〜４６０℃までの温度を含む加熱サイクルで処理する場
合、クレージングに対して一層抵抗性があることである
。
−例のフィルターは、高屈折率材料としての５酸化ニオ
ブと低屈折率材料としての２酸化ケイ素を有する。８０
．２００および３００℃の基板温度で蒸着シタ２０層−
Ｎｂ２Ｏｓ／ ５ｉＯｚ７ イルターは、４６０℃の温
度に加熱した後に、クレージングがほとんどまたは全く
なく、このこと自体予期し得ない結果であった。この驚
くべき結果の得られた理由は、（１） ３００および４
００℃の基板温度で蒸着した２０層−ＴｉＯ，／５ｉＯ
ｚ７ イＪＬ／ター、（２） ８０および２００℃の基
板温度で蒸着した２０層−ＴａｔＯｓ／ ＳｉＯ□フィ
ルター、および（３）また、異なる基板温度で蒸着した
（１０／４）λｆ ＳｉＯ□層、即ち上記（１）と（２
）のフィルターの場合と同じ厚さのＳｉＯ□を有する層
を用いたすべての試験は、４６０℃までの温度でサイク
ルする同じ温度で処理した場合、一層大で、且つ相互に
極めて似た量のクレージングを示した。５酸化ニオブで
２酸化ケイ素をはさみ込むとクレージングの発生が減じ
、若干の場合、クレージングが生じないような範囲に減
する。これら比較試験は、基板材料として９５Ｘ１０−
’の膨張係数を有する投写形テレビジョンフェースプレ
ートガラスを使用して行った。
ブと低屈折率材料としての２酸化ケイ素を有する。８０
．２００および３００℃の基板温度で蒸着シタ２０層−
Ｎｂ２Ｏｓ／ ５ｉＯｚ７ イルターは、４６０℃の温
度に加熱した後に、クレージングがほとんどまたは全く
なく、このこと自体予期し得ない結果であった。この驚
くべき結果の得られた理由は、（１） ３００および４
００℃の基板温度で蒸着した２０層−ＴｉＯ，／５ｉＯ
ｚ７ イＪＬ／ター、（２） ８０および２００℃の基
板温度で蒸着した２０層−ＴａｔＯｓ／ ＳｉＯ□フィ
ルター、および（３）また、異なる基板温度で蒸着した
（１０／４）λｆ ＳｉＯ□層、即ち上記（１）と（２
）のフィルターの場合と同じ厚さのＳｉＯ□を有する層
を用いたすべての試験は、４６０℃までの温度でサイク
ルする同じ温度で処理した場合、一層大で、且つ相互に
極めて似た量のクレージングを示した。５酸化ニオブで
２酸化ケイ素をはさみ込むとクレージングの発生が減じ
、若干の場合、クレージングが生じないような範囲に減
する。これら比較試験は、基板材料として９５Ｘ１０−
’の膨張係数を有する投写形テレビジョンフェースプレ
ートガラスを使用して行った。
他の例では、高屈折率材料として５酸化ニオブ、低屈折
率材料としてフッ化マグネシウムを含む。
率材料としてフッ化マグネシウムを含む。
２００および３００ ℃の基板温度で蒸着したこれら２
０層−フィルターは、何らクレージングを示さなかった
。
０層−フィルターは、何らクレージングを示さなかった
。
本発明によって作製した陰極線管は、各層が次式
（式中の１は材料の屈折率、丈は厚さを示す）で表され
る光学的厚さを有する少な（とも９個、代表的に１４〜
３０個の層を備えることができる。光学的厚さ且＼止は
０．２ λｆ〜０．３ λｆ３更に特に０゜２３λｆ〜
０．２７λｆの範囲であり、平均光学的厚さが０．２５
λｆであるように選定する。但しλｆは次式 ％式％ （式中のλは陰極螢光スクリーン材料によって発せられ
るスペクトルから選ばれる所望の中心波長、ｐは１．２
０〜１．３３の間の数を示す）で表される。
る光学的厚さを有する少な（とも９個、代表的に１４〜
３０個の層を備えることができる。光学的厚さ且＼止は
０．２ λｆ〜０．３ λｆ３更に特に０゜２３λｆ〜
０．２７λｆの範囲であり、平均光学的厚さが０．２５
λｆであるように選定する。但しλｆは次式 ％式％ （式中のλは陰極螢光スクリーン材料によって発せられ
るスペクトルから選ばれる所望の中心波長、ｐは１．２
０〜１．３３の間の数を示す）で表される。
フェースプレートは、酸化鉛をほとんど含有せず０〜４
００ ℃の温度で８５Ｘ１０−７〜１０５ Ｘ １０−
’／ ℃の範囲の膨張係数を有する混合アルカリガラ
スから構成することができる。
００ ℃の温度で８５Ｘ１０−７〜１０５ Ｘ １０−
’／ ℃の範囲の膨張係数を有する混合アルカリガラ
スから構成することができる。
かかるガラスの主要な成分（重量％）を第１表に示す。
但し、（１） ＢａＯとＳｒＯは一緒に１６〜２４重量
％であり、（２） Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ ２０およびＫ２Ｏ
による組合せは１４〜１７重量％である。
％であり、（２） Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ ２０およびＫ２Ｏ
による組合せは１４〜１７重量％である。
第１表
Ｓｉ０□ ５０〜６５
ＡｌｔＯｌ Ｏ〜４
ＢａＯ０，５〜１５
ＳｒＯ８〜２２
Ｋ２Ｏ３〜ｌｌ
Ｎａ２Ｏ３〜９
Ｌｉ２ＯＯ〜４
ピータ−マーチン（Ｐｅｔｅｒ Ｍａｒｔｉｎ）、ワル
ターバウレヴイクツ（Ｗａｌｔｅｒ Ｐａｗｌｅｗｉｃ
ｚ）、デビッドコウルト（Ｄａｖｉｄ Ｃｏｕｌｔ）お
よびヨセフ ジ５７（Ｊｏｓｅｐｈ Ｊｏｎｅｓ）によ
る［多層フィルター被覆の異常な温度湿潤安定度の観察
（Ｏｂｓｅｒｖａｔｉｏｎ ｏｆ ｅｘｃｅｐｔｉｏｎ
ａｌ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ｈｕｍｉｄｉｔｙ ５
ｔａｂｉｌｉｔｙ ｉｎ ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ ｆｉ
ｌｔｅｒ ｃｏａｔｉｎｇｓ） 」と題する文献１アプ
ライド オプティックス（Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔｉｃ
ｓ）、第２３巻第９号、 １９８４年５月１８、第１３
０７〜１３０Ｂ頁、には、Ｓ ｉ ３ Ｎ ４ ／ Ｓ
ｉＯ□およびＮｂ２Ｏ５／ ５ｉ０２を高および低屈
折率層として使用する反応性スパッタリング技術によっ
て作製した多層フィルター被覆が開示されている。Ｓｔ
、Ｎ４／ＳｉＯ□フイルターの設計はＬＬ（）ＩＬ）”
ＩＩＬＬ 、但し、ＬおよびＨは各々、低および高屈折
率材料の四分の一波長厚さを示すが、Ｎｂ２Ｏ５／Ｓｉ
Ｏ□フイルターの設計は、ＬＬ （ＩＩＬ） ｌ ”で
ある。この文献には、７５℃〜１４０℃の温度範囲およ
び０〜８５％の相対湿度での温度および相対湿度試験が
報告されており、側波帯の透過率に関する限り、５ｉＪ
４／ ＳｉＯ□被覆は、Ｎｂ２Ｏｓ／ＳｉＯ□被覆より
著しく安定であることが示されている。この文献には、
各多層フィルターの製造方法、特に基板の性質、堆積温
度およびクレージングに対する若干の挙動を有するフィ
ルターの引き続く加工、眉間の結合の質および硬さ、層
の材料の実際の屈折率の詳細が示されていない。更に、
この文献の著者は陰極線管に干渉フィルターを設けるこ
とを試みなかった。この場合、特に １、 管の加工に使用される著しく高い温度、４００℃
以上。クレージングが約３３０℃以上の温度で始まるこ
とが見出された。
ターバウレヴイクツ（Ｗａｌｔｅｒ Ｐａｗｌｅｗｉｃ
ｚ）、デビッドコウルト（Ｄａｖｉｄ Ｃｏｕｌｔ）お
よびヨセフ ジ５７（Ｊｏｓｅｐｈ Ｊｏｎｅｓ）によ
る［多層フィルター被覆の異常な温度湿潤安定度の観察
（Ｏｂｓｅｒｖａｔｉｏｎ ｏｆ ｅｘｃｅｐｔｉｏｎ
ａｌ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ｈｕｍｉｄｉｔｙ ５
ｔａｂｉｌｉｔｙ ｉｎ ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒ ｆｉ
ｌｔｅｒ ｃｏａｔｉｎｇｓ） 」と題する文献１アプ
ライド オプティックス（Ａｐｐｌｉｅｄ ０ｐｔｉｃ
ｓ）、第２３巻第９号、 １９８４年５月１８、第１３
０７〜１３０Ｂ頁、には、Ｓ ｉ ３ Ｎ ４ ／ Ｓ
ｉＯ□およびＮｂ２Ｏ５／ ５ｉ０２を高および低屈
折率層として使用する反応性スパッタリング技術によっ
て作製した多層フィルター被覆が開示されている。Ｓｔ
、Ｎ４／ＳｉＯ□フイルターの設計はＬＬ（）ＩＬ）”
ＩＩＬＬ 、但し、ＬおよびＨは各々、低および高屈折
率材料の四分の一波長厚さを示すが、Ｎｂ２Ｏ５／Ｓｉ
Ｏ□フイルターの設計は、ＬＬ （ＩＩＬ） ｌ ”で
ある。この文献には、７５℃〜１４０℃の温度範囲およ
び０〜８５％の相対湿度での温度および相対湿度試験が
報告されており、側波帯の透過率に関する限り、５ｉＪ
４／ ＳｉＯ□被覆は、Ｎｂ２Ｏｓ／ＳｉＯ□被覆より
著しく安定であることが示されている。この文献には、
各多層フィルターの製造方法、特に基板の性質、堆積温
度およびクレージングに対する若干の挙動を有するフィ
ルターの引き続く加工、眉間の結合の質および硬さ、層
の材料の実際の屈折率の詳細が示されていない。更に、
この文献の著者は陰極線管に干渉フィルターを設けるこ
とを試みなかった。この場合、特に １、 管の加工に使用される著しく高い温度、４００℃
以上。クレージングが約３３０℃以上の温度で始まるこ
とが見出された。
２、管操作中の電子衝撃
のため問題が異なる。
また、本発明は、異なる色を発する陰極螢光スクリーン
を有する３個の陰極線管を備える投写形テレビジョン装
置に関するものでもあり、この場合、上記陰極線管の少
なくとも１個は、本発明によって作製された管から成る
。
を有する３個の陰極線管を備える投写形テレビジョン装
置に関するものでもあり、この場合、上記陰極線管の少
なくとも１個は、本発明によって作製された管から成る
。
以下、本発明を、図面を参照して実施例により説明する
。
。
図面では、同じ参照番号を用いて対応する主要点を示し
た。
た。
第１図に示す投写形陰極綿管１０は、フェースプレート
１２、円錐部１３およびネック１４によって形成された
ガラス容器を備える。電子銃１５を、ネックＩ４中に備
え、電子ビーム１６を発生し、電子ビーム１６は、フェ
ースプレート１２上に設けられた陰極螢光スクリーン構
造１７上にスポット１８を生ずる。スポット１８は、容
器のネック−円錐部移行点に取付けられた偏光コイル１
９によって直交方向ＸおよびＹにおいて偏光される。ピ
ン２１を介してキャップ２０の容器の内部へ電気接続さ
れる。
１２、円錐部１３およびネック１４によって形成された
ガラス容器を備える。電子銃１５を、ネックＩ４中に備
え、電子ビーム１６を発生し、電子ビーム１６は、フェ
ースプレート１２上に設けられた陰極螢光スクリーン構
造１７上にスポット１８を生ずる。スポット１８は、容
器のネック−円錐部移行点に取付けられた偏光コイル１
９によって直交方向ＸおよびＹにおいて偏光される。ピ
ン２１を介してキャップ２０の容器の内部へ電気接続さ
れる。
第１図に示す管１０は、平坦なフェースプレート１２を
有し、フェースプレート１２およびスクリーン構造１７
の一部分を第２図に示す。スクリーン構造１７は、フェ
ースプレートの内部表面に被着する多層短波長透過干渉
フィルター２２、フィルター２２に被着する陰極螢光ス
クリーン材料２３およびスクリーン材料２３を被覆する
アルミニウム１膜２４を備える。フィルター２２の詳細
な構造は、後に第４図を参照して説明する。
有し、フェースプレート１２およびスクリーン構造１７
の一部分を第２図に示す。スクリーン構造１７は、フェ
ースプレートの内部表面に被着する多層短波長透過干渉
フィルター２２、フィルター２２に被着する陰極螢光ス
クリーン材料２３およびスクリーン材料２３を被覆する
アルミニウム１膜２４を備える。フィルター２２の詳細
な構造は、後に第４図を参照して説明する。
第３図は、投写形テレビジョン陰極線管のフェースプレ
ートの他の例を示し、この場合、フェースプレート１２
の少なくとも内部表面、しかし更に都合よくは、フェー
スプレート１２の両方の表面は、容器の内部から見て凸
面である。凸状表面は、１５０Ｉｎｍ〜７３０ ａｍの
曲率半径を有する部分球面であることができる。光軸と
スクリーンの中心から最も離間した点における内部凸状
表面への法線との間の角度として定義する曲率角度ψは
、Ｘ８°の最大角度を有する。挿入図で示したスクリー
ン構造１７は、第２図を参照して説明したと同様である
。
ートの他の例を示し、この場合、フェースプレート１２
の少なくとも内部表面、しかし更に都合よくは、フェー
スプレート１２の両方の表面は、容器の内部から見て凸
面である。凸状表面は、１５０Ｉｎｍ〜７３０ ａｍの
曲率半径を有する部分球面であることができる。光軸と
スクリーンの中心から最も離間した点における内部凸状
表面への法線との間の角度として定義する曲率角度ψは
、Ｘ８°の最大角度を有する。挿入図で示したスクリー
ン構造１７は、第２図を参照して説明したと同様である
。
第４図を参照して、多層干渉フィルター２２は、高い（
Ｈ）および低い（Ｌ）屈折率（ｎ）を有する交互の層を
、少なくとも９個、しかし代表的に１４〜３０個備える
。各層の光学的厚さは、ニー止である。但し、ユは材料
の屈折率、丈は実際の層厚を示す。個々の層の光学的厚
さは０．２ λｆ〜０．３λｆ、更に特に０．２３λｆ
〜０．２７λｆで、積重ね全体に亘る平均光学的厚さは
０．２５λｆである。但し、λｆはＰ×λに等しく、ｐ
は１．２０〜１．３３の数、λは陰極螢光スクリーン２
３によって発せられたスペクトルから選ばれる所望の中
心波長を示す。フィルター２２の構成において、フェー
スプレートから最も離間する高屈折率層２５は、特定の
範囲の光学的厚さを有するが、この層２５を、低屈折率
（Ｌ′）を有し一層薄い末端層２６によって被覆するこ
とができる。
Ｈ）および低い（Ｌ）屈折率（ｎ）を有する交互の層を
、少なくとも９個、しかし代表的に１４〜３０個備える
。各層の光学的厚さは、ニー止である。但し、ユは材料
の屈折率、丈は実際の層厚を示す。個々の層の光学的厚
さは０．２ λｆ〜０．３λｆ、更に特に０．２３λｆ
〜０．２７λｆで、積重ね全体に亘る平均光学的厚さは
０．２５λｆである。但し、λｆはＰ×λに等しく、ｐ
は１．２０〜１．３３の数、λは陰極螢光スクリーン２
３によって発せられたスペクトルから選ばれる所望の中
心波長を示す。フィルター２２の構成において、フェー
スプレートから最も離間する高屈折率層２５は、特定の
範囲の光学的厚さを有するが、この層２５を、低屈折率
（Ｌ′）を有し一層薄い末端層２６によって被覆するこ
とができる。
前述の記載から明らかな如く、光学的厚さの値は、Ｐお
よびλの選定値に左右される。例えば、スクリーン材料
が、テルビウムで活性化されたλ−５４５ｎｍであるほ
ぼ緑色を発する螢光体を含有する場合、ｐ値は１．２０
〜１．２６である。赤色螢光体材料、例えば、ユーロピ
ウムで活性化された酸化イツトリウムは、λ＝６１２
ｒｕｎであり、ｐ値は１．２０〜１．２６である。最後
に、青色螢光体材料、例えば、硫化亜鉛−恨（ＺｎＳ
： Ａｇ）は、λ＝４１６ｎＩ１１であり、ｐ値は１．
２４〜１．３３である。
よびλの選定値に左右される。例えば、スクリーン材料
が、テルビウムで活性化されたλ−５４５ｎｍであるほ
ぼ緑色を発する螢光体を含有する場合、ｐ値は１．２０
〜１．２６である。赤色螢光体材料、例えば、ユーロピ
ウムで活性化された酸化イツトリウムは、λ＝６１２
ｒｕｎであり、ｐ値は１．２０〜１．２６である。最後
に、青色螢光体材料、例えば、硫化亜鉛−恨（ＺｎＳ
： Ａｇ）は、λ＝４１６ｎＩ１１であり、ｐ値は１．
２４〜１．３３である。
光学的末端層を伴う代表的な多層（ｌ（Ｌ）９１１フイ
ルターの光学的厚さを第２表に示す。
ルターの光学的厚さを第２表に示す。
層 ｎ ｎ ・
ｄ／λｆ螢光体 １（末端層） Ｌ ０．１３１２
）ｉ ０．２６０３
Ｌ Ｏ，２５７４ＨＯ，２５４ ５Ｌ Ｏ，２５１ ６ＨＯ，２４９ ７Ｌ Ｏ，２４７ ８ＨＯ，２４６ ９Ｌ ０．２４５ １０ １（０，２４５ １１Ｌ Ｏ，２４４ １２ＨＯ，２４５ １３’Ｌ ０．２４５ １４ Ｆ（０，２４６１５Ｌ
Ｏ，２４７ １５ＨＯ，２４９ １７Ｌ Ｏ，２５１ １３ＨＯ，２５４ １９Ｌ Ｏ，２５７ ２０ＨＯ，２６０ フエースプレー） １．５７ 多層フィルター２２は、高および低屈折率材料を基板と
して作用する適当に製造したフェースプレー目２上に、
例えば蒸着またはスパッタリングにより堆積することに
より製造する。１例において、高屈折率材料は、５酸化
ニオブ（Ｎｂ２Ｏ２）であり、低屈折率材料は、２酸化
ケイ素（ＳｉＯｚ）である。他の例では、５酸化ニオブ
は、低屈折率材料としてのフッ化マグネシウム（ＭｇＦ
ｚ）とともに使用する。
ｄ／λｆ螢光体 １（末端層） Ｌ ０．１３１２
）ｉ ０．２６０３
Ｌ Ｏ，２５７４ＨＯ，２５４ ５Ｌ Ｏ，２５１ ６ＨＯ，２４９ ７Ｌ Ｏ，２４７ ８ＨＯ，２４６ ９Ｌ ０．２４５ １０ １（０，２４５ １１Ｌ Ｏ，２４４ １２ＨＯ，２４５ １３’Ｌ ０．２４５ １４ Ｆ（０，２４６１５Ｌ
Ｏ，２４７ １５ＨＯ，２４９ １７Ｌ Ｏ，２５１ １３ＨＯ，２５４ １９Ｌ Ｏ，２５７ ２０ＨＯ，２６０ フエースプレー） １．５７ 多層フィルター２２は、高および低屈折率材料を基板と
して作用する適当に製造したフェースプレー目２上に、
例えば蒸着またはスパッタリングにより堆積することに
より製造する。１例において、高屈折率材料は、５酸化
ニオブ（Ｎｂ２Ｏ２）であり、低屈折率材料は、２酸化
ケイ素（ＳｉＯｚ）である。他の例では、５酸化ニオブ
は、低屈折率材料としてのフッ化マグネシウム（ＭｇＦ
ｚ）とともに使用する。
従来、干渉フィルターは、高屈折率材料として５酸化チ
タン、低屈折率材料として２酸化ケイ素を使用して作製
され、これ等の材料は、約３００〜４００℃の温度で基
板上に蒸着された。かかるフィルターは、良好な光学性
を有し、隣接層間に結合されたが、螢光材料の沈降、ラ
ンカー塗、螢光体／ラッカーの組合せ上のアルミニウム
薄膜の蒸着、ラッカーを莫発し、管の良好な真空を得る
ための４００℃以上の温度への加熱を含む引続く管加工
段階の後では、クレージングを被ることを見出した。更
に、堆積に必要とされるサイクル時間は、Ｔｉ１ｔの蒸
着のために必要とする高い基板温度のために著しく長い
。
タン、低屈折率材料として２酸化ケイ素を使用して作製
され、これ等の材料は、約３００〜４００℃の温度で基
板上に蒸着された。かかるフィルターは、良好な光学性
を有し、隣接層間に結合されたが、螢光材料の沈降、ラ
ンカー塗、螢光体／ラッカーの組合せ上のアルミニウム
薄膜の蒸着、ラッカーを莫発し、管の良好な真空を得る
ための４００℃以上の温度への加熱を含む引続く管加工
段階の後では、クレージングを被ることを見出した。更
に、堆積に必要とされるサイクル時間は、Ｔｉ１ｔの蒸
着のために必要とする高い基板温度のために著しく長い
。
クレージングの問題は、代表的に８０℃の温度で、好ま
しくは低温基板に蒸着される５酸化ニオブを使用するこ
とによってほぼ完全に解決されるが、一層高い温度の基
板も使用することができる。８０℃〜３００℃の温度範
囲で堆積した５酸化ニオブが高屈折率を有することを見
出し、２酸化ケイ素とともに使用する場合、これらの間
の屈折率の相違は、十分に広い反射帯を得るに十分大き
く、これは、第５図に示す如く２酸化チタンを使用する
場合とほとんど同じ大きさの相違である。第５図におい
て、３２°までのＸＬ角度におけるフィルターへの入射
光は、透過するが、より大きな角度での入射光は反射し
、即ち、その透過率は、ほとんど零に減少する。結果と
して、改善された視怒度（代表的に１．５〜１．９倍）
を伴う明るくほとんどぼやけかない像が得られ、投写形
テレビジョン装置に使用する場合、更に飽和した色（特
に、テルビウムで活性化された螢光体および硫化亜鉛−
銀螢光体を備える陰極線管）が、著しく少ない色収差お
よび改善されたコントラストに導く。
しくは低温基板に蒸着される５酸化ニオブを使用するこ
とによってほぼ完全に解決されるが、一層高い温度の基
板も使用することができる。８０℃〜３００℃の温度範
囲で堆積した５酸化ニオブが高屈折率を有することを見
出し、２酸化ケイ素とともに使用する場合、これらの間
の屈折率の相違は、十分に広い反射帯を得るに十分大き
く、これは、第５図に示す如く２酸化チタンを使用する
場合とほとんど同じ大きさの相違である。第５図におい
て、３２°までのＸＬ角度におけるフィルターへの入射
光は、透過するが、より大きな角度での入射光は反射し
、即ち、その透過率は、ほとんど零に減少する。結果と
して、改善された視怒度（代表的に１．５〜１．９倍）
を伴う明るくほとんどぼやけかない像が得られ、投写形
テレビジョン装置に使用する場合、更に飽和した色（特
に、テルビウムで活性化された螢光体および硫化亜鉛−
銀螢光体を備える陰極線管）が、著しく少ない色収差お
よび改善されたコントラストに導く。
低屈折率材料としてフッ化マグネシウムを使用する場合
、５酸化ニオブとフッ化マグネシウムを約２００℃〜３
００℃の温度で蒸着を行って、層が、要求される程度の
硬さと、相互におよび基板に対して良好な結合を行なう
ことを薙実にすることが必要である。３００℃の温度を
用いる場合、層の硬さは、２００℃の温度を用いる場合
より大きい。
、５酸化ニオブとフッ化マグネシウムを約２００℃〜３
００℃の温度で蒸着を行って、層が、要求される程度の
硬さと、相互におよび基板に対して良好な結合を行なう
ことを薙実にすることが必要である。３００℃の温度を
用いる場合、層の硬さは、２００℃の温度を用いる場合
より大きい。
クレージングに寄与すると考えられる要因には次の（１
）〜（３）の事実が含まれる。（１）基板即ち、フェー
スプレートが、大きな膨張係数を有し、言い換えれば特
に、小さな膨張係数を有する２酸化ケイ素と対比して０
℃〜４００ ℃の温度で８５Ｘ１０−７〜１０５Ｘ１０
−７／℃の範囲にある膨張係数を有すること。
）〜（３）の事実が含まれる。（１）基板即ち、フェー
スプレートが、大きな膨張係数を有し、言い換えれば特
に、小さな膨張係数を有する２酸化ケイ素と対比して０
℃〜４００ ℃の温度で８５Ｘ１０−７〜１０５Ｘ１０
−７／℃の範囲にある膨張係数を有すること。
５酸化ニオブが、多層フィルターの全体の弾性率を、若
干増大し、従って、クレージングを減少すると考えられ
ている。（２）多数の層、代表的に約２０層を使用する
こと。層の数が増加する場合、クレージングは増大し、
層の数が減少する場合、クレージングは減少する。（３
）蒸着の後、通常、フィルターを若干の時間（１８以上
の日数）アニールすること。アニールする以前に、基板
を周囲温度に冷却させること、従って、水蒸気をフィル
ターの細孔に浸透させることが、クレージングを促進す
ることを見出した。８０℃〜３００℃の基板温度で蒸着
したＮｂ２Ｏｌ−５ｉＯ□フイルターと２００℃〜３０
０ ℃の温度で蒸着したＮｂ２Ｏｓ ＭｇＦｚフィル
ターを、基板を何ら冷却することなく蒸着したほぼ直後
に４６０℃の温度でアニールした。このことにより、こ
れらフィルターではクレージングの発生が完全に除去さ
れた。
干増大し、従って、クレージングを減少すると考えられ
ている。（２）多数の層、代表的に約２０層を使用する
こと。層の数が増加する場合、クレージングは増大し、
層の数が減少する場合、クレージングは減少する。（３
）蒸着の後、通常、フィルターを若干の時間（１８以上
の日数）アニールすること。アニールする以前に、基板
を周囲温度に冷却させること、従って、水蒸気をフィル
ターの細孔に浸透させることが、クレージングを促進す
ることを見出した。８０℃〜３００℃の基板温度で蒸着
したＮｂ２Ｏｌ−５ｉＯ□フイルターと２００℃〜３０
０ ℃の温度で蒸着したＮｂ２Ｏｓ ＭｇＦｚフィル
ターを、基板を何ら冷却することなく蒸着したほぼ直後
に４６０℃の温度でアニールした。このことにより、こ
れらフィルターではクレージングの発生が完全に除去さ
れた。
陰極線管用、特に、投写形テレビジョン用の基板に適す
るガラスは、酸化鉛（ＰｂＯ）を含まないかまたはほと
んど含まず、主要なＸ線吸収体としての酸化バリウム（
Ｂａｄ）と酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）を含有する混
合アルカリガラスである。
るガラスは、酸化鉛（ＰｂＯ）を含まないかまたはほと
んど含まず、主要なＸ線吸収体としての酸化バリウム（
Ｂａｄ）と酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）を含有する混
合アルカリガラスである。
基板として使用するに適する現有するガラスの重量％に
よる組成を第３表に示す。
よる組成を第３表に示す。
第３表
成分 製造元／型
ＳｉＯ□ ５７．２ ５６ ６０Ａ
ｌ２Ｏｔ Ｏ，２３，０２，ｌＢａＯＯ，５１
２，００８，２ ＳｒＯ ２１．３ １１．００ １０
．１に２ｏ ３．１ １０．００
８．３ＮａｔＯ８，８５，００５，６ Ｌｉ２Ｏ３，０１，００１，５ Ｃａ０ ０．０６ ０．０８ ２．
００Ｃｅｎｔ Ｏ，３０，５００，６Ｓｔｌｚ
（ｈ Ｏ，２０，５００，２ＴｉＯｚ
０ ０．６０ ０．４ＺｎＯ３，０００ ＺｒＯｚ Ｏ，３０，１１，０こん跡元素
２．０ ０ ０
ｌ２Ｏｔ Ｏ，２３，０２，ｌＢａＯＯ，５１
２，００８，２ ＳｒＯ ２１．３ １１．００ １０
．１に２ｏ ３．１ １０．００
８．３ＮａｔＯ８，８５，００５，６ Ｌｉ２Ｏ３，０１，００１，５ Ｃａ０ ０．０６ ０．０８ ２．
００Ｃｅｎｔ Ｏ，３０，５００，６Ｓｔｌｚ
（ｈ Ｏ，２０，５００，２ＴｉＯｚ
０ ０．６０ ０．４ＺｎＯ３，０００ ＺｒＯｚ Ｏ，３０，１１，０こん跡元素
２．０ ０ ０
第１図は、容器の一部分を切り欠いて示す投写形陰極線
管の斜視図、 第２図は、平坦なフェースプレートの部分断面図、 第３図は、表示管の湾曲したフェースプレートの部分断
面図と該フェースプレートの部分拡大図、第４図は、短
波長透過多層干渉フィルターの断面図、 第５図は２Ｏ．１２５ λｆの末端層を有する既知２０
層Ｔｉ０ｚ Ｓｉ０ｇフィルター（実線）および末端
層を有しない１９層Ｎｂ２Ｏｓ ５ｉ０２フイルター
（Ｔｔｉ、線）の短波長透過特性を示す曲線図である。 １０・・・投写形陰極線管 １２・・・フェースプレ
ート１３・・・円錐部 １４・・・ネック１
５・・・電子銃 １６・・・電子ビーム１７
・・・陰極螢光スクリーン構造 １８・・・スポット １９・・・偏光コイル２
０・・・キャップ ２１・・・ビン２２・・・
短波長透過干渉フィルター ２３・・・螢光スクリーン材料 ２４・・・アルミニウム薄膜 ２５・・・フェースプレートから最も離間する高屈折率
層 ２６・・・末端層 特許 出願人 エヌ・ベー・フィリップス・フルー
イランペンファブリケン 代理人弁理士 杉 村 暁 査問 弁理
士 杉 村 興 作ＩＧ２ Ｆｉｔ）、３
管の斜視図、 第２図は、平坦なフェースプレートの部分断面図、 第３図は、表示管の湾曲したフェースプレートの部分断
面図と該フェースプレートの部分拡大図、第４図は、短
波長透過多層干渉フィルターの断面図、 第５図は２Ｏ．１２５ λｆの末端層を有する既知２０
層Ｔｉ０ｚ Ｓｉ０ｇフィルター（実線）および末端
層を有しない１９層Ｎｂ２Ｏｓ ５ｉ０２フイルター
（Ｔｔｉ、線）の短波長透過特性を示す曲線図である。 １０・・・投写形陰極線管 １２・・・フェースプレ
ート１３・・・円錐部 １４・・・ネック１
５・・・電子銃 １６・・・電子ビーム１７
・・・陰極螢光スクリーン構造 １８・・・スポット １９・・・偏光コイル２
０・・・キャップ ２１・・・ビン２２・・・
短波長透過干渉フィルター ２３・・・螢光スクリーン材料 ２４・・・アルミニウム薄膜 ２５・・・フェースプレートから最も離間する高屈折率
層 ２６・・・末端層 特許 出願人 エヌ・ベー・フィリップス・フルー
イランペンファブリケン 代理人弁理士 杉 村 暁 査問 弁理
士 杉 村 興 作ＩＧ２ Ｆｉｔ）、３
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、フェースプレート、陰極螢光スクリーンおよびフェ
ースプレートとスクリーンとの間に設けた多層干渉フィ
ルターを備える陰極線管において、該干渉フィルターが
、５酸化ニオブを含有する比較的高い屈折率の材料と比
較的低い屈折率の材料との交互の層をフェースプレート
上に堆積して有することを特徴とする陰極線管。 ２、フィルターが、少なくとも９個の層を備え、層が次
式 ￥ｎ￥・￥ｄ￥ （式中の￥ｎ￥は材料の屈折率、￥ｄ￥は厚さを示す）
で表される光学的厚さを有し、個々の層の光学的厚さｎ
ｄが、０．２λｆ〜０．３λｆで、層の平均光学的厚さ
が０．２５λｆであり、ここでλｆはｐ×λ（但しλは
陰極螢光スクリーン材料によって発せられるスペクトル
から選ばれる所望の中心波長、ｐは１．２０〜１．３３
の数を示す）で表される特許請求の範囲第１項記載の陰
極線管。 ３、フィルターが、１４〜３０個の層を有する特許請求
の範囲第２項記載の陰極線管。 ４、￥ｎ￥・￥ｄ￥が０．２３λｆ〜０．２７λｆであ
る特許請求の範囲第２または３項記載の陰極線管。 ５、低屈折率の材料が２酸化ケイ素から成る特許請求の
範囲第１〜４項のいずれか１つの項に記載の陰極線管。 ６、低屈折率の材料が、フッ化マグネシウムから成る特
許請求の範囲第１〜４項のいずれか１つの項に記載の陰
極線管。 ７、層を堆積したほぼ直後に、フィルターがアニールさ
れている特許請求の範囲第１〜６項のいずれか１つの項
に記載の陰極線管。 ８、フェースプレートが、酸化鉛（ＰｂＯ）をほとんど
含まない混合アルカリガラスから成る特許請求の範囲第
１〜７項のいずれか１つの項に記載の陰極線管。 ９、フェースプレートが、０〜４００℃の温度で８５×
１０＾−＾７〜１０５×１０＾−＾７／℃の膨張係数を
有する特許請求の範囲第８項記載の陰極線管。 １０、ガラス組成物が、以下の主成分（重量％）を含有
し、 ＳｉＯ＿２ ５０〜６５ Ａｌ＿２Ｏ＿３ ０〜４ ＢａＯ ０．５〜１５ ＳｒＯ ８〜２２ Ｋ＿２Ｏ ３〜１１ Ｎａ＿２Ｏ ３〜９ Ｌｉ＿２Ｏ ０〜４ 但し（１）ＢａＯとＳｒＯが一緒に１６〜２４重量％、
（２）Ｌｉ＿２Ｏ、Ｎａ＿２ＯおよびＫ＿２Ｏの組合せ
が１４〜１７重量％である特許請求の範囲第８または９
項記載の陰極線管。 １１、フェースプレートの内側が最大曲率角度ψ＝１８
°を有する凸面であり、但しψは光軸とスクリーンの中
心から最も離間した点における凸面表面への法線との間
の角度である曲率角度である特許請求の範囲第１〜１０
項のいずれか１つの項に記載の陰極線管。 １２、凸面フェースプレートが、ほとんど球面であり、
１５０ｍｍ〜７３０ｍｍの曲率半径を有する特許請求の
範囲第１１項記載の陰極線管。 １３、陰極螢光スクリーンが、λ＝５４５ｎｍでｐが１
．２０〜１．２６の数を有するテルビウムで活性化した
実質的に緑色を発する螢光体を有する特許請求の範囲第
５または６項記載の陰極線管。 １４、陰極螢光スクリーンが、λ＝６１２ｎｍでｐが１
．２０〜１．２６の数であるユーロピウムで活性化した
酸化イットリウム螢光体（Ｙ＿２Ｏ＿３：Ｅｕ）を有す
る特許請求の範囲第５または６項記載の陰極線管。 １５、陰極螢光スクリーンが、λ＝４６０ｎｍでｐが１
．２４〜１．３３の数である硫化亜鉛−銀螢光体（Ｚｎ
Ｓ：Ａｇ）を有する特許請求の範囲第５または６項記載
の陰極線管。 １６、層の平均光学的厚さが０．２５λｆであり、フェ
ースプレートから最も離間したほぼ０．２５λｆの厚さ
を有する層が、高屈折率を有し、フェースプレートから
最も離間した層が陰極螢光材料で被覆される特許請求の
範囲第２〜１５項のいずれか１つの項に記載の陰極線管
。 １７、末端層を、フェースプレートから最も離間した高
屈折率材料の層と陰極螢光材料との間に堆積し、末端層
が、ほぼ０．１２５λｆの光学的厚さを有し且つ隣接す
るフィルター層より低い屈折率を有する材料である特許
請求の範囲第１６項記載の陰極線管。 １８、フェースプレートの内側に面する表面に設けた多
層干渉フィルターを備える陰極線管を製造するに当たり
、５酸化ニオブを含有する比較的高い屈折率の材料と比
較的低い屈折率の材料との交互の層を、フェースプレー
ト上に堆積することを特徴とする陰極線管の製造方法。 １９、少なくとも９個の交互の層を堆積し、層が次式 ￥ｎ′￥・￥ｄ￥ （式中の￥ｎ￥は材料の屈折率、￥ｄ￥は厚さを示す）
で表される光学的厚さを有し、個々の層の光学的厚さｎ
ｄが、０．２λｆ〜０．３λｆで、層の平均光学的厚さ
が０．２５λｆであり、ここでλｆはｐ×λ（但しλは
陰極螢光スクリーン材料によって発せられるスペクトル
から選ばれる所望の中心波長、ｐは１．２０〜１．３３
の数を示す）で表される特許請求の範囲第１８項記載の
製造方法。 ２０、低屈折率材料が２酸化ケイ素から成り、交互の層
をほぼ８０℃〜ほぼ３００℃の温度で堆積する特許請求
の範囲第１８または１９項に記載の製造方法。 ２１、低屈折率材料がフッ化マグネシウムから成り、交
互の層をほぼ２００℃〜ほぼ３００℃の温度で堆積する
特許請求の範囲第１８または１９項記載の製造方法。 ２２、多層干渉フィルターをアニールするが、フェース
プレートがなお周囲温度以上である特許請求の範囲第１
８〜２１項のいずれか１つの項に記載の製造方法。 ２３、フェースプレートが、酸化鉛（ＰｂＯ）をほとん
ど含まない混合アルカリガラスから成る特許請求の範囲
第１８〜２２項のいずれか１つの項に記載の製造方法。 ２４、フェースプレートが、０〜４００℃の温度で８５
×１０＾−＾７〜１０５×１０＾−＾７／℃の膨張係数
を有する特許請求の範囲第２３項記載の製造方法。 ２５、ガラス組成物が、以下の主成分（重量％）を含有
し、 ＳｉＯ＿２ ５０〜６５ Ａｌ＿２Ｏ＿３ ０〜４ ＢａＯ ０．５〜１５ ＳｒＯ ８〜２２ Ｋ２Ｏ ３〜１１ Ｎａ＿２Ｏ ３〜９ Ｌｉ＿２Ｏ ０〜４ 但し、（１）ＢａＯとＳｒＯが一緒に１６〜２４重量％
、（２）Ｌｉ＿２Ｏ、Ｎａ＿２ＯおよびＫ＿２Ｏの組合
せが１４〜１７重量％である特許請求の範囲第２４また
は２５項記載の製造方法。 ２６、陰極螢光スクリーンを干渉フィルター上に設ける
特許請求の範囲第１８〜２５項のいずれか１つの項に記
載の製造方法。 ２７、０．２５λｆの平均光学的厚さのフィルターの最
終層が高屈折率を有する材料から成り、末端層を最終層
上に設け、末端層が、最終層より低い屈折率および０．
２５λｆの平均光学的厚さより実質的に小さな厚さを有
し、この場合、陰極螢光スクリーンを末端層上に設ける
特許請求の範囲第１９〜２５項のいずれか１つの項に記
載の製造方法。 ２８、異なる色を発する陰極螢光スクリーンを有する３
個の陰極線管を備える投写形テレビジョン装置において
、上記陰極線管の少なくとも１個が、特許請求の範囲第
１３項に記載の陰極線管であることを特徴とする投写形
テレビジョン装置。 ２９、異なる色を発する陰極螢光スクリーンを有する３
個の陰極線管を備える投写形テレビジョン装置において
、上記陰極線管の少なくとも１個が、特許請求の範囲第
１４項に記載の陰極線管であることを特徴とする投写形
テレビジョン装置。 ３０、異なる色を発する陰極螢光スクリーンを有する３
個の陰極線管を備える投写形テレビジョン装置において
、上記陰極線管の少なくとも１個が、特許請求の範囲第
２５項に記載の陰極線管であることを特徴とする投写形
テレビジョン装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8612358 | 1986-05-21 | ||
| GB868612358A GB8612358D0 (en) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | Cathode ray tube |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62283535A true JPS62283535A (ja) | 1987-12-09 |
| JPH07101600B2 JPH07101600B2 (ja) | 1995-11-01 |
Family
ID=10598202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62122674A Expired - Lifetime JPH07101600B2 (ja) | 1986-05-21 | 1987-05-21 | 陰極線管 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5068568A (ja) |
| EP (1) | EP0246696B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07101600B2 (ja) |
| DE (1) | DE3789468T2 (ja) |
| GB (1) | GB8612358D0 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0218841A (ja) * | 1988-07-06 | 1990-01-23 | Mitsubishi Electric Corp | 陰極線管 |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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