JPS62284040A - シヤドウマスク用アンバ−合金 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明はシャドウマスク用のアンバー合金に関し、更に
詳しくは、開孔マトリックスを形成するに好適な組織で
あるシャドウマスク用アンバー合金に関する。

（従来の技術） カラー受像管蛍光面の直前には、所定の設計基準に基づ
いてマトリックス状に穿設された多数の開孔を有するシ
ャドウマスクが配設されている。後方の電子銃から射出
された電子ビームは、これら開孔を通過して蛍光面にお
ける所定位置の蛍光ドツトに照射されてそこにカラー画
像を再現せしめる。しかしながら、このとき射出された
電子ビームの全てが開孔を通過するわけではなく、一部
はシャドウマスクを直撃して該シャドウマスクを加熱す
る。その結果、シャドウマスクは熱膨張して開孔の位置
が設計基準の位置からずれて変位し、蛍光面における色
ずれ現象を招くことがある。

このため、従来は、シャドウマスクをバイメタルで支持
し加熱時のバイメタルによる湾曲を利用してシャドウマ
スク全体を蛍光面に近づけるという方法が採られている
。

また最近では、低熱膨張特性を備えたＮｉ−Ｆｅ系合金
であって３６Ｎｉ−Ｆｅに代表されるアンバー合金でシ
ャドウマスクそれ自体を構成して色ずれ現象を防止する
ということが試みられている。

このアンバー合金からシャドウマスクを製造する際には
、まず所定組成のアンバー合金塊を例えば鋳鉄鋳型など
で鋳造し、これを鍛造、圧延して所定厚みの原板とする
。ついでこの原板の開孔位置を例えば塩化第二鉄溶液で
エツチング加工して所定形状の開孔をドツト状又はスグ
レ状に穿設したのちプレス加工して全体形状をセツティ
ングし、その後、全体を例えばスチームで酸化して、熱
輻射能の向上、乱反射の防止のために表面を黒化する。

（発明が解決しようとする問題点） 従来から知られているアンバー合金を用いた上記した製
造方法において頻繁に問題となることはエツチング工程
で生起する。すなわち、穿設された開孔を顕微鏡で観察
すると、その開孔の形状が設計基準どおりの形状になっ
ておらずいわゆる“がざ穴′°と指称されるように不規
則に変形しているという問題や、開孔の内部壁面に不規
則に凹凸が生起しているという問題である。

開孔がこのような状態になっていると、電子銃から射出
された電子ビームはこの間孔形成、内壁状態の不規則性
によって照射経路が妨害されるために適正な状態で蛍光
面に照射されないこととなる。つまり、色ムラ現象が生
起する。

本発明は上記した問題点を解消し、工・ンチング工程に
おいて好ましい開孔マトリックスを形成するに有効なア
ンバー合金の提供を目的とする。

［発明の概要］ （問題点を解決するための手段・作用）本発明者らは上
記問題を解決するために、素材であるアンバー合金の組
成拳組織に関して詳細に検討し、以下の知見を得るに到
った。

すなわち、アンバー合金はＮｉとＦｅを主成分とする合
金であり、一般にＮｉ、Ｆｅのマトリックスの中に、Ｍ
ｎＯ、Ｓ　ｉ　０２　、　ＭｇＯ。

ＡＫＬ２０３　、ＭｎＳ、ＴｉＣなどの酸化物、炭化物
、硫化物のような非金属介在物が微粒子状態で分散して
いるが、このアンバー合金にエツチング処理を施した場
合、エツチング液によるマトリックスと非金属介在物と
に対するエツチング速度が異なっているので（一般に非
金属介在物の周囲のエツチング速度は極めて速い）、“
がざ穴゛、開孔内壁の不規則な突起の現出などが生起す
るという知見である。

したがって発明者らは、これら非金属介在物の存在を極
少たらしめればエツチング工程における上記問題は解決
し得るとの着想を抱き、そのようなアンバー合金に関し
て鋭意研究を重ねた結果、本発明の合金を好適なものと
して開発するに到った。

すなわち本発明のシャドウマスク用のアンバー合金は、
ＪＩＳＧＯ５５５で規定する方法で測定した清浄度が０
．０７％以下であることを特徴とする。

本発明のアンバー合金の組成は、格別限定されるもので
はなく、従来から知られている組成の範囲内に含まれて
いてよい。清浄度を特定したところに最大の特徴を有す
る。

清浄度が０．０７％より大きいアンバー合金は、その組
織内に非金属介在物が多数分布しているがゆえに、エツ
チング工程時にそれらが開孔部に露出する機会が多くな
って、開孔壁面が凹凸である“がざ穴°′が発生したり
、また開孔形状が不規則となる等の欠陥が多発するよう
になり不適当である。清浄度０．０３％以下であるアン
バー合金はとくに好ましいものである。

本発明のアンバー合金は次のようにして製造することが
できる。

まず、所望する組成のアンバー合金の各成分の所定量又
はアンバー合金塊それ自体をプラズマ真空誘導炉で溶解
し、その融液を下つぎ方式で型に鋳込んでインゴットに
する。溶解にプラズマ真空誘導炉を用いることにより非
金属介在物を形成する不純物元素は効率よく除去され、
また下つぎ方式を採用することにより鋳込み時の溶湯飛
散が防止されかつ非金属介在物が浮上分敲して除外され
ることになり清浄度の高いアンバー合金のインゴットが
得られる。

清浄度は、上記方法において脱酸元素の種類。

その投入方法、溶解雰囲気、精練方法、鋳造方法などの
操作条件によって変動するが、例えば、清浄度を０．０
７％以下にするためには、Ａ文。

Ｔｉ、Ｍｇ等の酸化物の残留し易い脱酸剤の低減、高真
空雰囲気（１０’　Ｔｏｒｒ以下が好ましい）における
溶解、プラズマ精練の採用、下注鋳造法を採用すること
が好ましい。

得られたインゴットを常法に従って鍛造、圧延してシャ
ドウマスク用の原板が製造される。

（実施例） 組成が、Ｎｉ　　３６％、Ｍｎ０．３％。

Ｓｉ　　Ｏ，１％、Ｔｉ　　Ｏ，０２％、残部Ｆｅであ
るアンバー合金をプラズマ誘導加熱炉内で溶解した。そ
のときの条件は、真空度４Ｘ１０−３Ｔｏｒｒ、温度１
５８０°Ｃであった。

得られた融液を下つぎ方式で鋳型に注入し、冷却してイ
ンゴットにした。このインゴットを常法に従って鍛造し
、更に複数回の熱間圧延、冷間圧延処理を施して最終的
に厚み０．２ｍｍのアンバー合金板とした。

この合金板につき、ＪＩＳＧＯ５５５に準拠した方法で
清浄度を測定した。このとき、顕微鏡の倍率４００倍、
視野数は６０であった。その結果、清浄度は０．０２％
であった。

この合金板を常法に従って塩化第二鉄溶液でエツチング
して、設計基準値が０．２ｍｍφの開孔な有する開孔マ
トリックスを形成してシャドウマスクを製作した。

マトリックス中の開孔を無差別に４０個、倍率１００倍
で顕微鏡観察したところ、開孔内壁に露出している非金
属介在物の突起の数は平均値として４．５個であった。

また、このシャドウマスクを２個の支持具によって水平
に支持し、その上方に鏡を斜めに配置した状態で、シャ
ドウマスクの下方から光を照射して鏡に写った像を目視
観察したところ、明所、暗所の分布はなく非常に均質な
写像であった。すなわち、開孔マトリックスは均質な状
態で形成されていた。

［発明の効果］ 以上の説明で明らかなように、本発明のアンバー合金は
その内部に分散して介在する非金属介在物が清浄度で表
わして０．０７％以下と少ないので、エツチングによる
開孔マトリックスの形成の際に、穿設された開孔には非
金属介在物が突起することが少なくなり、設計基準を逸
脱することのないシャドウマスクを製造することができ
、その工業的価値は大である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ＪＩＳＧ０５５５で規定する方法で測定した清浄度が０
   ．０７％以下であることを特徴とするシャドウマスク用
   アンバー合金。