JPS61186452A - 管内部品用素材とその製造方法 - Google Patents
管内部品用素材とその製造方法Info
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- JPS61186452A JPS61186452A JP2569185A JP2569185A JPS61186452A JP S61186452 A JPS61186452 A JP S61186452A JP 2569185 A JP2569185 A JP 2569185A JP 2569185 A JP2569185 A JP 2569185A JP S61186452 A JPS61186452 A JP S61186452A
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- alloy
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- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
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- C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
- C22C38/18—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium
- C22C38/40—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium with nickel
- C22C38/52—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium with nickel with cobalt
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
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- C22C38/18—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing chromium
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
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- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0733—Aperture plate characterised by the material
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Steel (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、例えばカラー受像管に用いられるシャドウマ
スク、フレーム、インナーシールド、バイメタル等の管
内部品を成形性良く製造可能な管内部品用素材とその製
造方法に関する。
スク、フレーム、インナーシールド、バイメタル等の管
内部品を成形性良く製造可能な管内部品用素材とその製
造方法に関する。
カラー受像管のシャドウマスク、フレーム、インナーシ
ールド、バイメタル等の所謂管内部品は、従来よりエツ
チング性、および成形性が良く、また電子ビームの反射
軽減に寄与する酸化膜をその表面に形成し易い、リムド
鋼やＡＲキルト鋼等を素材として形成されている。然し
乍ら、近時各種のニューメディアに対応するべく、カラ
ー受像管の高品質化、つまり表示画像の所謂見易さや極
細かさが要求され、上述したリムド鋼やＡｎキルド鋼に
て構成されるシャドウマスク、フレーム、インナーシー
ルド、バイメタル等を用いるには不具合が生じてきた。
ールド、バイメタル等の所謂管内部品は、従来よりエツ
チング性、および成形性が良く、また電子ビームの反射
軽減に寄与する酸化膜をその表面に形成し易い、リムド
鋼やＡＲキルト鋼等を素材として形成されている。然し
乍ら、近時各種のニューメディアに対応するべく、カラ
ー受像管の高品質化、つまり表示画像の所謂見易さや極
細かさが要求され、上述したリムド鋼やＡｎキルド鋼に
て構成されるシャドウマスク、フレーム、インナーシー
ルド、バイメタル等を用いるには不具合が生じてきた。
即ち、カラー受像管の動作時には、上記各部材の温度が
３０〜１００℃に上昇し、例えばその熱膨張によるシャ
ドウマスクの成形形状に歪みに起因した、所謂ドーミン
グが生じる。この結果、シャドウマスクと蛍光面との間
の相対的位置関係にずれが生じ、ピユリティードリフト
（ＰＤ）と称される色ずれが発生する。特に高品位カラ
ー受像管では、前記シャドウマスクの開孔径およびその
開孔ピッチが非常に小さいので、その相対的ずれ量の割
合いが大きくなり、上述したリムド鋼やＡ２キルド鋼を
素材とする管内部品では実用に耐えなくなる。特に、映
像の歪みや外光の反射を少なくした高曲率型のカラー受
像管にあっては、上記問題が顕著に生じた。
３０〜１００℃に上昇し、例えばその熱膨張によるシャ
ドウマスクの成形形状に歪みに起因した、所謂ドーミン
グが生じる。この結果、シャドウマスクと蛍光面との間
の相対的位置関係にずれが生じ、ピユリティードリフト
（ＰＤ）と称される色ずれが発生する。特に高品位カラ
ー受像管では、前記シャドウマスクの開孔径およびその
開孔ピッチが非常に小さいので、その相対的ずれ量の割
合いが大きくなり、上述したリムド鋼やＡ２キルド鋼を
素材とする管内部品では実用に耐えなくなる。特に、映
像の歪みや外光の反射を少なくした高曲率型のカラー受
像管にあっては、上記問題が顕著に生じた。
そこで従来、この種の管内部品を形成する素材として、
熱膨張係数の小さいＮｉ−Ｆｅ合金、例えばアンバー（
３６Ｎｉ−Ｆｅ ）やスーパーアンバー（３２Ｎ ｉ−
５Ｃｏ −Ｆｅ ）を用いることが、例えば特公昭４２
−２５４４６号、特開昭５０−５８９７７号、特開昭５
０−６８６５０号等により提唱されている。ところが、
この種のＮｉ−Ｆｅ合金は熱伝導性が悪く、蓄熱し易い
ことのみならず、通常のシャドウマスク球面から電子銃
側への凹み、所謂スプリングバックを生じ易い。またシ
ャドウマスクの開孔をエツチング形成した際、開孔径の
むらを生じ易い等、エツチング性や成形性の点で不具合
を有している。
熱膨張係数の小さいＮｉ−Ｆｅ合金、例えばアンバー（
３６Ｎｉ−Ｆｅ ）やスーパーアンバー（３２Ｎ ｉ−
５Ｃｏ −Ｆｅ ）を用いることが、例えば特公昭４２
−２５４４６号、特開昭５０−５８９７７号、特開昭５
０−６８６５０号等により提唱されている。ところが、
この種のＮｉ−Ｆｅ合金は熱伝導性が悪く、蓄熱し易い
ことのみならず、通常のシャドウマスク球面から電子銃
側への凹み、所謂スプリングバックを生じ易い。またシ
ャドウマスクの開孔をエツチング形成した際、開孔径の
むらを生じ易い等、エツチング性や成形性の点で不具合
を有している。
即ち、上記スプリングバックは、その素材の０．２％耐
力値との間で、例えば第１図に示すような相関関係を有
している。そしてこの０．２％耐力値が低い程、スプリ
ングバックが小さくなり、その成形性が良くなる。
力値との間で、例えば第１図に示すような相関関係を有
している。そしてこの０．２％耐力値が低い程、スプリ
ングバックが小さくなり、その成形性が良くなる。
そこで従来、上記素材の０．２％耐力を下げるべく、１
０００℃以上で真空焼鈍したり、或いは１００〜２００
℃の範囲で管内部品を成形加工することが試みられてい
る。更には、そのエツチング性を高める為に、種々の方
法が試みられている。しかし、いずれの場合も前記リム
ド鋼やＡａ鋼等が持つエツチング性や成形性には至って
いないのが実状である。この為、カラー受像管の高品位
化を図るには限界があった。
０００℃以上で真空焼鈍したり、或いは１００〜２００
℃の範囲で管内部品を成形加工することが試みられてい
る。更には、そのエツチング性を高める為に、種々の方
法が試みられている。しかし、いずれの場合も前記リム
ド鋼やＡａ鋼等が持つエツチング性や成形性には至って
いないのが実状である。この為、カラー受像管の高品位
化を図るには限界があった。
本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、そ
の目的とするところは、リムド鋼やＡλ鋼よりも熱膨張
率が低く、またこれらの名調に近い良好なエツチング性
と成形性を有する管内部品用素材とその製造方法を提供
することにある。
の目的とするところは、リムド鋼やＡλ鋼よりも熱膨張
率が低く、またこれらの名調に近い良好なエツチング性
と成形性を有する管内部品用素材とその製造方法を提供
することにある。
本発明は、Ｆｅを主成分とし、２５〜４５ｗｔ％のＮ
ｉ、 ０．３〜１０ｗｔ％のＣｒ、 ０．２〜１０ｗｔ
％のＣｏ、および不可避不純物を含有し、ＪＩＳ−Ｇ０
５５１で規定されるところの結晶粒度を８〜１２に設定
して、８０％以上のオーステナイト組織を形成した合金
をカラー受像管におけるシャドウマスク、インナーシー
ルド、フレーム、バイメタル等の管内部品を形成する為
の管内部品用素材としたことを特徴とするものである。
ｉ、 ０．３〜１０ｗｔ％のＣｒ、 ０．２〜１０ｗｔ
％のＣｏ、および不可避不純物を含有し、ＪＩＳ−Ｇ０
５５１で規定されるところの結晶粒度を８〜１２に設定
して、８０％以上のオーステナイト組織を形成した合金
をカラー受像管におけるシャドウマスク、インナーシー
ルド、フレーム、バイメタル等の管内部品を形成する為
の管内部品用素材としたことを特徴とするものである。
またこのような管内部品用素材を、２５〜４５ｗｔ％の
Ｎｉ 、 ０．３〜１０ｗｔ％のＣｒ 、 ０．２
〜１０ｗｔ％のＣｏ、残部Ｆｅおよび不可避不純物を含
有した合金を溶解し、これに圧延・焼鈍を施した後、そ
の最終冷延を圧延率４０％以上、好ましくは７０％以上
で行い、しかる後５００〜１２００℃、好ましくは９０
０〜１１００℃の温度範囲で焼鈍処理し、その後圧延率
３０％以下、好ましくは２０％以下で調整圧延し、また
必要に応じて歪取り焼鈍を加えて ＪＩＳ−Ｇ０５５１
で規定されるところの結晶粒度が８〜１２どなる管内部
品用素材を製造、するようにしたものである。
Ｎｉ 、 ０．３〜１０ｗｔ％のＣｒ 、 ０．２
〜１０ｗｔ％のＣｏ、残部Ｆｅおよび不可避不純物を含
有した合金を溶解し、これに圧延・焼鈍を施した後、そ
の最終冷延を圧延率４０％以上、好ましくは７０％以上
で行い、しかる後５００〜１２００℃、好ましくは９０
０〜１１００℃の温度範囲で焼鈍処理し、その後圧延率
３０％以下、好ましくは２０％以下で調整圧延し、また
必要に応じて歪取り焼鈍を加えて ＪＩＳ−Ｇ０５５１
で規定されるところの結晶粒度が８〜１２どなる管内部
品用素材を製造、するようにしたものである。
ここで、上記Ｎｉの組成量を２５〜４５ｗｔ％とじたの
は、その熱膨張係数を９０Ｘ１０ ／’Ｃ以下にする
為であり、Ｎｉの添加量が上記範囲を外れると、本発明
が目的とする熱膨張率の低い管内部品用素材が得られな
くなる。つまり、ＰＤ値の低いきれいな画像が得られな
くなる。更にＮｉの添加量が４５ｗｔ％を越えると、そ
の成形性の良否の目安である０、２％耐力の増加が生じ
、その成形性が大幅に劣化する。そして、例えばシャド
ウマスクにあってはスプリングバックが発生して、きれ
いな画像が得られ難くなる。同時にその耐酸化性の向上
によって、通常その表面に施される黒化処理が著しく困
難となる。
は、その熱膨張係数を９０Ｘ１０ ／’Ｃ以下にする
為であり、Ｎｉの添加量が上記範囲を外れると、本発明
が目的とする熱膨張率の低い管内部品用素材が得られな
くなる。つまり、ＰＤ値の低いきれいな画像が得られな
くなる。更にＮｉの添加量が４５ｗｔ％を越えると、そ
の成形性の良否の目安である０、２％耐力の増加が生じ
、その成形性が大幅に劣化する。そして、例えばシャド
ウマスクにあってはスプリングバックが発生して、きれ
いな画像が得られ難くなる。同時にその耐酸化性の向上
によって、通常その表面に施される黒化処理が著しく困
難となる。
またエツチング性に関しても、Ｎｉ量が多くなると微細
エツチングが困難となり、そのエツチング孔の内壁が所
謂ガサ穴となったり、エツチング液中へのＮｉの多量の
溶は込みによって、そのエツチング速度の低下を招く等
の問題が生じる。
エツチングが困難となり、そのエツチング孔の内壁が所
謂ガサ穴となったり、エツチング液中へのＮｉの多量の
溶は込みによって、そのエツチング速度の低下を招く等
の問題が生じる。
またＣＯは、熱膨張係数を低減させる作用と、エツチン
グ性を向上させる作用を呈するものである。そしてその
下限を０，２ｗｔ％としたのは、それ以下の添加量では
熱膨張率を小さくすることができない為であり、上限を
１０ｗｔ％としたのは、ＣＯの添加量の増加と共に、０
．２％耐力が僅かづつ向上し、その熱膨張係数が増大す
る為である。これ故、その添加量を好ましくは３〜６
ｗｔ％とすることが望ましい。
グ性を向上させる作用を呈するものである。そしてその
下限を０，２ｗｔ％としたのは、それ以下の添加量では
熱膨張率を小さくすることができない為であり、上限を
１０ｗｔ％としたのは、ＣＯの添加量の増加と共に、０
．２％耐力が僅かづつ向上し、その熱膨張係数が増大す
る為である。これ故、その添加量を好ましくは３〜６
ｗｔ％とすることが望ましい。
一方Ｏｒは、Ｆｅ−Ｎｉ合金の熱膨張係数を上昇させる
が、その反面上記０．２％耐力を減少させ、その成形性
の向上に大きく寄与する。つまり結晶粒度が８〜１２の
管内部品用素材にエツチングし、多数の穴を開けたフラ
ットマスクを得た後の焼鈍工程において上記Ｃｒが重要
な役割を果たす。
が、その反面上記０．２％耐力を減少させ、その成形性
の向上に大きく寄与する。つまり結晶粒度が８〜１２の
管内部品用素材にエツチングし、多数の穴を開けたフラ
ットマスクを得た後の焼鈍工程において上記Ｃｒが重要
な役割を果たす。
即ち一般に、３２Ｎ ｉ−５Ｃｏ−Ｆｅ合金にＣｒを添
加し、再結晶温度以上で焼鈍しない場合、その結晶粒が
微細であるので空温での０．２％耐力の増大を招き、例
えばシャドウマスクとしての曲率を保ことが困難となる
。この為上記Ｏｒの添加によって、その素材の高強度化
が図られるだけである。
加し、再結晶温度以上で焼鈍しない場合、その結晶粒が
微細であるので空温での０．２％耐力の増大を招き、例
えばシャドウマスクとしての曲率を保ことが困難となる
。この為上記Ｏｒの添加によって、その素材の高強度化
が図られるだけである。
しかし本発明の如＜Ｃｒを添加した
３２Ｎ ｉ−５Ｃｏ−Ｆ ｅ合金に特定の焼鈍処理を施
した場合、その０．２％耐力の減少量は、Ｏｒが無添加
の３２Ｎ ｉ−５Ｃｏ−Ｆ ｅ合金に比較して著しく多
くなる。つまり素材に含まれるＣｒは、その焼鈍工程に
おいて素材の０．２％耐力を大きく減少させる上で重要
な作用を呈する。
した場合、その０．２％耐力の減少量は、Ｏｒが無添加
の３２Ｎ ｉ−５Ｃｏ−Ｆ ｅ合金に比較して著しく多
くなる。つまり素材に含まれるＣｒは、その焼鈍工程に
おいて素材の０．２％耐力を大きく減少させる上で重要
な作用を呈する。
ところで、Ｏｒの添加量が０．３ｗｔ％未満であると、
Ｃｒ無添加の３２Ｎ ｉ−５Ｇｏ−Ｆｅ合金と同様に焼
鈍温度を１２００℃と高くしても、その０．２％耐力が
２４Ｋｇ／ ｍ ”以下になることはない。またその添
加量が１０ｗｔ％を越えた場合、熱膨張係数が９０Ｘ１
０ ／℃以上となり、色ずれの原因となるので高精細
度カラー受像管への採用には不適当である。またＣｒの
添加量が１０ｗｔ％を越えた場合、その表面にｃｒ２ｏ
、 の保護膜が形成され易く、表面黒化速度の低下を
招く等、黒化処理に不都合を生じる。尚、Ｃｒ量は低膨
張性、エツチング性、および廃液中の低クロム化を考慮
した場合、１〜４ｗｔ％とすることが望ましい。
Ｃｒ無添加の３２Ｎ ｉ−５Ｇｏ−Ｆｅ合金と同様に焼
鈍温度を１２００℃と高くしても、その０．２％耐力が
２４Ｋｇ／ ｍ ”以下になることはない。またその添
加量が１０ｗｔ％を越えた場合、熱膨張係数が９０Ｘ１
０ ／℃以上となり、色ずれの原因となるので高精細
度カラー受像管への採用には不適当である。またＣｒの
添加量が１０ｗｔ％を越えた場合、その表面にｃｒ２ｏ
、 の保護膜が形成され易く、表面黒化速度の低下を
招く等、黒化処理に不都合を生じる。尚、Ｃｒ量は低膨
張性、エツチング性、および廃液中の低クロム化を考慮
した場合、１〜４ｗｔ％とすることが望ましい。
次表は本発明に係る素材を焼鈍したときの０．２％耐力
の値を示したものである。
の値を示したものである。
これを第１図に示すデータと比較すると、比較例の素材
にあっては１１５０℃で焼鈍すると １００−以上のス
プリングバック値が生じ、従って温間プレスするか、或
いはシャドウマスクの使用形状を限定せざるを得ない。
にあっては１１５０℃で焼鈍すると １００−以上のス
プリングバック値が生じ、従って温間プレスするか、或
いはシャドウマスクの使用形状を限定せざるを得ない。
この点、本発明に係る素材によれば、その耐力は１６Ｋ
ｊ ／ ｘｔｔｔｔ ２となり、またスプリングバック
値は５ｌｌｎ以下となる。故に、その良好な成形品位を
保ことが可能となる。尚、上述したＯｒと同じ作用を呈
する添加元素としてＭｎがあり、従って上記Ｃｒの一部
をＭｎに置換して添加するようにしても良い。
ｊ ／ ｘｔｔｔｔ ２となり、またスプリングバック
値は５ｌｌｎ以下となる。故に、その良好な成形品位を
保ことが可能となる。尚、上述したＯｒと同じ作用を呈
する添加元素としてＭｎがあり、従って上記Ｃｒの一部
をＭｎに置換して添加するようにしても良い。
尚、従来、管内部品用素材の高強度化を目的として３６
Ｎｉ−Ｆｅ合金にＣｒを添加する例として特開昭５９−
５９８６１号等がある。しかし、低耐力化を図るべく工
夫は全くなされてなく、その素材は単に高強度なだけで
あり、０．２％耐力の低減は図られていない。更に次に
説明するように、その表面に黒化膜も形成しておらず、
このような点を考慮すると、本発明に係る管内部品用素
材とは全く異なっていると云える。
Ｎｉ−Ｆｅ合金にＣｒを添加する例として特開昭５９−
５９８６１号等がある。しかし、低耐力化を図るべく工
夫は全くなされてなく、その素材は単に高強度なだけで
あり、０．２％耐力の低減は図られていない。更に次に
説明するように、その表面に黒化膜も形成しておらず、
このような点を考慮すると、本発明に係る管内部品用素
材とは全く異なっていると云える。
ところで、この種の管内部品用素材としては、そのエツ
チング性が優れていることが重要であり、素材自体の介
在物が少ないこと、つまり清浄性に優れ、結晶粒度が均
一で、その板厚や成分分布が素材全体に屋っで均一であ
ることが要求される。
チング性が優れていることが重要であり、素材自体の介
在物が少ないこと、つまり清浄性に優れ、結晶粒度が均
一で、その板厚や成分分布が素材全体に屋っで均一であ
ることが要求される。
このうち上記板厚や成分分布の均一性は、圧延技術の進
歩によって解決され、また介在物の存在はその不可否成
分を極力少なくすることによって解消することができる
。
歩によって解決され、また介在物の存在はその不可否成
分を極力少なくすることによって解消することができる
。
従って、管内部品用素材のエツチング性で問題となるの
は、その結晶粒度と金属組織の均一性であると云える。
は、その結晶粒度と金属組織の均一性であると云える。
しかして本発明では２５〜４５ｗｔ％のＮｉ、０．３〜
１０ｗｔ％のＣｒ 、 ０．２〜１０ｗｔ％のＣｏ、
残部Ｆｅおよび不可避不純物を含有した合金を溶解し、
これに圧延・焼鈍を施した後、そのＲ終冷延を圧延率４
０％以上、好ましくは７０％以上で行い、しかる後、Ｓ
ＯＯ〜１２００℃、好ましくは９００〜１１００℃の温
度範囲で焼鈍処理し、その後圧延率３０％以下、好まし
くは２０％以下で調整圧延し、また必要に応じて歪取り
焼鈍を加えてＪＩＳ−Ｇ０５５１で規定されるところの
結晶粒度が８〜１２となるようにしている。尚、結晶粒
度が８に満たない場合には、その粒径が粗大化して、例
えば第２図（ｂ）に示すようにエツチングによって穴の
開かない部分か生じる。また結晶粒度が１２を越えた場
合には、その微細化した結晶粒に起因して第３図にエツ
チング孔の断面図を示すように、エツチングによって開
口形成された孔の内壁に欠けが生じ、所謂ガサ穴となる
。これ故、実用的にはその結晶粒度を８〜１２にして、
第２図（ａ）に示すように均一な孔を形成可能なように
することが必要である。好ましくは、上記結晶粒度を９
〜１１に設定することが望ましい。
１０ｗｔ％のＣｒ 、 ０．２〜１０ｗｔ％のＣｏ、
残部Ｆｅおよび不可避不純物を含有した合金を溶解し、
これに圧延・焼鈍を施した後、そのＲ終冷延を圧延率４
０％以上、好ましくは７０％以上で行い、しかる後、Ｓ
ＯＯ〜１２００℃、好ましくは９００〜１１００℃の温
度範囲で焼鈍処理し、その後圧延率３０％以下、好まし
くは２０％以下で調整圧延し、また必要に応じて歪取り
焼鈍を加えてＪＩＳ−Ｇ０５５１で規定されるところの
結晶粒度が８〜１２となるようにしている。尚、結晶粒
度が８に満たない場合には、その粒径が粗大化して、例
えば第２図（ｂ）に示すようにエツチングによって穴の
開かない部分か生じる。また結晶粒度が１２を越えた場
合には、その微細化した結晶粒に起因して第３図にエツ
チング孔の断面図を示すように、エツチングによって開
口形成された孔の内壁に欠けが生じ、所謂ガサ穴となる
。これ故、実用的にはその結晶粒度を８〜１２にして、
第２図（ａ）に示すように均一な孔を形成可能なように
することが必要である。好ましくは、上記結晶粒度を９
〜１１に設定することが望ましい。
ちなみに前記冷延を圧延率４０％以下で行うと、金属組
織が揃い難くなり、また８〜１２の結晶粒度となること
もない。また前記焼鈍を５００℃以下で行うと再結晶し
なくなり、その結晶粒度を調整することができなくなる
。逆に１２００℃以上で焼鈍するとその粒径が大きくな
り過ぎると云う不具合がある。つまりエツチング性を確
保する上で、上記焼鈍の温度範囲を上述したように規定
することが必要である。これ故、前述した条件の下で管
内部品用素材を製造することが必要である。
織が揃い難くなり、また８〜１２の結晶粒度となること
もない。また前記焼鈍を５００℃以下で行うと再結晶し
なくなり、その結晶粒度を調整することができなくなる
。逆に１２００℃以上で焼鈍するとその粒径が大きくな
り過ぎると云う不具合がある。つまりエツチング性を確
保する上で、上記焼鈍の温度範囲を上述したように規定
することが必要である。これ故、前述した条件の下で管
内部品用素材を製造することが必要である。
また管内部品用素材をなす金属に、フェライト、マルテ
ンサイト、オーステナイト等の組織がそれぞれ存在する
と、これらの各組織のエツチング速度がそれぞれ異なる
ことから、孔づまり等が生じる虞れがある。これ故、一
般的には単一組織化することが望ましいが、その単一組
織化処理が困難であるので、上記オーステナイト組織が
８０％以上を占めるようにすれば実用上十分である。具
体的には前述した製造方法によって管内部品用素材の結
晶粒度を８〜１２とし、且つオーステナイト組織が８０
％以上となるように調整圧延することによって、第２図
（ａ）に示す如き形状性に優れた、所謂きれいな孔をエ
ツチング処理によって効果的に得ることが可能となる。
ンサイト、オーステナイト等の組織がそれぞれ存在する
と、これらの各組織のエツチング速度がそれぞれ異なる
ことから、孔づまり等が生じる虞れがある。これ故、一
般的には単一組織化することが望ましいが、その単一組
織化処理が困難であるので、上記オーステナイト組織が
８０％以上を占めるようにすれば実用上十分である。具
体的には前述した製造方法によって管内部品用素材の結
晶粒度を８〜１２とし、且つオーステナイト組織が８０
％以上となるように調整圧延することによって、第２図
（ａ）に示す如き形状性に優れた、所謂きれいな孔をエ
ツチング処理によって効果的に得ることが可能となる。
尚、この調整圧延に関して、その圧延率を３０％より大
きくすると、金属の集合組織が崩れることがあることが
ら好ましくない。
きくすると、金属の集合組織が崩れることがあることが
ら好ましくない。
かくして本発明によれば、所定のＮｉ−Ｆｅ系合金にＣ
ｒを添加して、その０．２％耐力を低減し、且つその成
形性を改善すると共に、その結晶粒度と金属組織を調整
してエツチング性を改善しているので、シャドウマスク
等を製作する素材として多大な効果を奏する。しかも従
来の ３２Ｎ ｉ−５Ｃｏ−Ｆｅ合金のように、高温で真空焼
鈍する必要がなくなり、温間プレスする等の手間かなく
なる。そして１２００℃以下の焼鈍によって、十分にそ
の成形加工が可能となり、またエツチング処理時間の短
縮化を図って均一なエツチング孔を得るこが可能となる
。
ｒを添加して、その０．２％耐力を低減し、且つその成
形性を改善すると共に、その結晶粒度と金属組織を調整
してエツチング性を改善しているので、シャドウマスク
等を製作する素材として多大な効果を奏する。しかも従
来の ３２Ｎ ｉ−５Ｃｏ−Ｆｅ合金のように、高温で真空焼
鈍する必要がなくなり、温間プレスする等の手間かなく
なる。そして１２００℃以下の焼鈍によって、十分にそ
の成形加工が可能となり、またエツチング処理時間の短
縮化を図って均一なエツチング孔を得るこが可能となる
。
また熱膨張係数も９０ｘ １０−’ ／ ℃以下であり
、従来のＡｆｆｉｆｆ上鋼やリムド鋼に比較して小さく
することが可能となる。これ故、色ずれの少ないカラー
受像管を容易に実現することが可能となる等の効果が奏
せられる。
、従来のＡｆｆｉｆｆ上鋼やリムド鋼に比較して小さく
することが可能となる。これ故、色ずれの少ないカラー
受像管を容易に実現することが可能となる等の効果が奏
せられる。
更には、その表面の黒化処理においても、例えＯ等のち
密で黒化度 ばＮ ｉｘＣｏｙＣｒ２Ｆ ｅｓ −ｘ−ｙ−ｚ ４
の高い酸化膜を容易に形成することが可能となる等の効
果が奏せられる。
密で黒化度 ばＮ ｉｘＣｏｙＣｒ２Ｆ ｅｓ −ｘ−ｙ−ｚ ４
の高い酸化膜を容易に形成することが可能となる等の効
果が奏せられる。
（発明の実施例）
次に本発明の実施例につき説明する。
［実施例−１］
先ず、３６％Ｎｉと５％ＣＯとｌ”ｅを主成分とし、Ｃ
「を４ｗｔ％含み、阻隔的成分としてＣを０．００５ｗ
ｔ％、Ｓｉを０．０１ｗｔ％、ＰおよびＳをそれぞれ０
．００１ｗｔ％づつ含む合金のインゴットを真空溶解で
作成した。次にこのインゴットを繰返し焼鈍した後、酸
洗して１次および２次冷延を施した。この処理における
圧延率は８０％とした。
「を４ｗｔ％含み、阻隔的成分としてＣを０．００５ｗ
ｔ％、Ｓｉを０．０１ｗｔ％、ＰおよびＳをそれぞれ０
．００１ｗｔ％づつ含む合金のインゴットを真空溶解で
作成した。次にこのインゴットを繰返し焼鈍した後、酸
洗して１次および２次冷延を施した。この処理における
圧延率は８０％とした。
しかる後、箱形の焼鈍炉において、１０″’ ｔｏｒｒ
、８００℃で上記圧延処理された素材を焼鈍し、その後
、圧延率１０％で調整圧延を施した。この調整圧延によ
って、ＪＩＳ−Ｇ０５５１に規定される結晶粒度が１０
のオーステナイト組織を有する管内部品用素材を得た。
、８００℃で上記圧延処理された素材を焼鈍し、その後
、圧延率１０％で調整圧延を施した。この調整圧延によ
って、ＪＩＳ−Ｇ０５５１に規定される結晶粒度が１０
のオーステナイト組織を有する管内部品用素材を得た。
このようにして製作された管内部品用素材を用いて、次
のようにしてシャドウマスクを製作した。
のようにしてシャドウマスクを製作した。
先ず、素材の両表面にフォトレジストを塗布し、これを
乾燥した後、スロット或いはドツト形状の基準パターン
を形成したフィルムを上記両面に密着させて前記フォト
レジストを露光・現像した。
乾燥した後、スロット或いはドツト形状の基準パターン
を形成したフィルムを上記両面に密着させて前記フォト
レジストを露光・現像した。
この現像によって未露光部分のフォトレジストが溶解除
去される。しかる後、残されたフォトレジストをバーニ
ングして硬化させた後、塩化第２鉄溶液でエツチング処
理し、その後その残存レジストを熱アルカリによって除
去してシャドウマスクの原板となるフラットマスクを作
成した。
去される。しかる後、残されたフォトレジストをバーニ
ングして硬化させた後、塩化第２鉄溶液でエツチング処
理し、その後その残存レジストを熱アルカリによって除
去してシャドウマスクの原板となるフラットマスクを作
成した。
このフラットマスクを箱形の真空加熱炉に入れ、１０’
ｔｏｒｒ１１０００℃の雰囲気で焼鈍し、歪取りとそ
の加工性の改善を行った後、この焼鈍後のフラットマス
クをレベラーに通して板歪を除去し、同時に成形工程に
おけるストレッチャーストレインを減少させた。尚、こ
の真空焼鈍は、フラットマスク中の溶存Ｃ量の減少と、
その結晶粒径の粗大化による０、２％耐力の低減を目的
として行った。これによって、その後のプレス成形の容
易化を図つた。
ｔｏｒｒ１１０００℃の雰囲気で焼鈍し、歪取りとそ
の加工性の改善を行った後、この焼鈍後のフラットマス
クをレベラーに通して板歪を除去し、同時に成形工程に
おけるストレッチャーストレインを減少させた。尚、こ
の真空焼鈍は、フラットマスク中の溶存Ｃ量の減少と、
その結晶粒径の粗大化による０、２％耐力の低減を目的
として行った。これによって、その後のプレス成形の容
易化を図つた。
次に上記フラットマスクをプレス成形して、所定の曲面
を有するシャドウマスクを得た。この際、０．２％耐力
が小さく、その成形性が極めて良好で、スプリングバッ
クが生じないことが確認された。
を有するシャドウマスクを得た。この際、０．２％耐力
が小さく、その成形性が極めて良好で、スプリングバッ
クが生じないことが確認された。
同時にシャドウマスクの幅方向および長手方向の特性が
均一であり、特性の所謂バラツキに起因する成形性不良
の発生がないことも確認された。
均一であり、特性の所謂バラツキに起因する成形性不良
の発生がないことも確認された。
その後、上記シャドウマスクをトリクロロエチレンの蒸
気で洗浄し、７００℃に保持された連続黒化炉でで２０
分間加熱して、密着性の良い黒化膜を厚み１６５譚成長
させてシャドウマスクを完成させた。
気で洗浄し、７００℃に保持された連続黒化炉でで２０
分間加熱して、密着性の良い黒化膜を厚み１６５譚成長
させてシャドウマスクを完成させた。
このようにして製作されたシャドウマスクをスポット溶
接によって、同様な手法によって製作されたフレームに
取付け、これをバイメタルを介′してパネルに取付けた
。その後、上記シャドウマスクの孔に合せて赤、青、緑
の蛍光体を塗布し、へλ蒸着、ダグ塗布後、インナーシ
ールドを取付けて電子銃の付いた外囲器後部のファンネ
ルと、このパネルとを接続し、且つその内部を真空排気
してカラー受像管を製作した。尚、上記インナーシール
ドも同様な素材を用いて製作した。
接によって、同様な手法によって製作されたフレームに
取付け、これをバイメタルを介′してパネルに取付けた
。その後、上記シャドウマスクの孔に合せて赤、青、緑
の蛍光体を塗布し、へλ蒸着、ダグ塗布後、インナーシ
ールドを取付けて電子銃の付いた外囲器後部のファンネ
ルと、このパネルとを接続し、且つその内部を真空排気
してカラー受像管を製作した。尚、上記インナーシール
ドも同様な素材を用いて製作した。
［実施例−２］
３６％Ｎ！と５％ＣＯとＦｅとを主成分とし、Ｃｒを３
ｗｔ％および８ｗｔ％含み、阻隔的成分としてＣを０．
０５ｗｔ％、Ｓｉを０．０２ｗｔ％、およびＰとＳとを
それぞれ０．００１ｗｔ％づつ含む合金のインゴットを
それぞれ準備した。しかる後、これらの各合金インゴッ
トを用いて上記［実施例−１］と同様にシャドウマスク
を作成し、これを用いてカラー受＠管を完成させた。
ｗｔ％および８ｗｔ％含み、阻隔的成分としてＣを０．
０５ｗｔ％、Ｓｉを０．０２ｗｔ％、およびＰとＳとを
それぞれ０．００１ｗｔ％づつ含む合金のインゴットを
それぞれ準備した。しかる後、これらの各合金インゴッ
トを用いて上記［実施例−１］と同様にシャドウマスク
を作成し、これを用いてカラー受＠管を完成させた。
この実施例においても、スプリングバックが発生するこ
とがなく、その成形性が極めて良好であることが確認さ
れた。
とがなく、その成形性が極めて良好であることが確認さ
れた。
この素材についてはエツチング前の金属組織と結晶粒度
とエツチング性についての関連性を調べたところ、最終
焼鈍と圧延率によってオーステナイト組織以外の組織を
７０％と少なくすると、エツチングのムラが生じること
が確認された。また調整圧延において、ＪＩＳ−Ｇ○５
５１に規定される結晶粒度を１に調整した場合には、第
２図（ｂ）に示されるようにシャドウマスクに未開口部
分が生じ、また上記結晶粒度を１２以上に調整すると、
第３図に示されるようにエツチング孔の内壁がガサ孔と
なり、高精細度のシャドウマスクとしては、不具合なも
のとなった。
とエツチング性についての関連性を調べたところ、最終
焼鈍と圧延率によってオーステナイト組織以外の組織を
７０％と少なくすると、エツチングのムラが生じること
が確認された。また調整圧延において、ＪＩＳ−Ｇ○５
５１に規定される結晶粒度を１に調整した場合には、第
２図（ｂ）に示されるようにシャドウマスクに未開口部
分が生じ、また上記結晶粒度を１２以上に調整すると、
第３図に示されるようにエツチング孔の内壁がガサ孔と
なり、高精細度のシャドウマスクとしては、不具合なも
のとなった。
尚、ここではシャドウマスクの形成を例に説明したが、
インナーシールドやフレーム、バイメタル等を同様に製
作してカラー受像管を得ることも可能である。その他、
本発明はその要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施
することができる。
インナーシールドやフレーム、バイメタル等を同様に製
作してカラー受像管を得ることも可能である。その他、
本発明はその要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施
することができる。
第１図は０．２％耐力とスプリングバックとの関係を示
す図、第２図はシャドウマスクのエツチング孔を示す図
、第３図は一シャドウマスクのエツチング孔断面を示す
図である。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図
す図、第２図はシャドウマスクのエツチング孔を示す図
、第３図は一シャドウマスクのエツチング孔断面を示す
図である。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図
Claims (7)
- （１）Ｆｅを主成分とし、２５〜４５ｗｔ％のＮｉ、０
．３〜１０ｗｔ％のＣｒ、０．２〜１０ｗｔ％のＣｏ、
および不可避不純物を含有した合金からなることを特徴
とする管内部品用素材。 - （２）合金は、ＪＩＳ−Ｇ０５５１で規定される結晶粒
度を８〜１２に設定したものである特許請求の範囲第１
項記載の管内部品用素材。 - （３）合金は、オーステナイト組織を８０％以上形成し
たものである特許請求の範囲第１項記載の管内部品用素
材。 - （４）２５〜４５ｗｔ％のＮｉ、０．３〜１０ｗｔ％の
Ｃｒ、０．２〜１０ｗｔ％のＣｏ、残部Ｆｅおよび不可
避不純物を溶解し、これに圧延・焼鈍を施した後、その
最終冷延を圧延率４０％以上で行い、しかる後５００〜
１２００℃の温度範囲で焼鈍処理し、その後圧延率３０
％以下で調整圧延してＪＩＳ−Ｇ０５５１で規定される
ところの結晶粒度を８〜１２に設定した合金からなる管
内部品用素材を製造することを特徴とする管内部品用素
材の製造方法。 - （５）最終圧延の圧延率は、７０％以上である特許請求
の範囲第４項記載の管内部品用素材の製造方法。 - （６）調整圧延は、圧延処理の後、８００℃以下で歪取
り焼鈍を行つて終了するものである特許請求の範囲第４
項記載の管内部品用素材の製造方法。 - （７）管内部品用素材をなす合金は、８０％以上のオー
ステナイト組織を形成したものである特許請求の範囲第
４項記載の管内部品用素材の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60025691A JPH0676645B2 (ja) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | 管内部品用素材とその製造方法 |
| EP85306308A EP0174196B1 (en) | 1984-09-06 | 1985-09-05 | Material for in-tube components & method of manufacture thereof |
| DE8585306308T DE3569061D1 (en) | 1984-09-06 | 1985-09-05 | Material for in-tube components & method of manufacture thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60025691A JPH0676645B2 (ja) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | 管内部品用素材とその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61186452A true JPS61186452A (ja) | 1986-08-20 |
| JPH0676645B2 JPH0676645B2 (ja) | 1994-09-28 |
Family
ID=12172811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60025691A Expired - Lifetime JPH0676645B2 (ja) | 1984-09-06 | 1985-02-13 | 管内部品用素材とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0676645B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6559583B1 (en) * | 1999-10-29 | 2003-05-06 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Shadow mask |
| US6824625B2 (en) | 2000-07-24 | 2004-11-30 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Magnetostriction control alloy sheet, a part of a braun tube, and a manufacturing method for a magnetostriction control alloy sheet |
| JP2024043238A (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-29 | 新報国マテリアル株式会社 | 低熱膨張合金 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5058977A (ja) * | 1973-09-19 | 1975-05-22 | ||
| JPS5959861A (ja) * | 1982-09-29 | 1984-04-05 | Toshiba Corp | 管内部品 |
| JPS6021331A (ja) * | 1983-07-14 | 1985-02-02 | Nippon Steel Corp | Ｆｅ−Ｎｉ系低熱膨張合金板の製造方法 |
-
1985
- 1985-02-13 JP JP60025691A patent/JPH0676645B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5058977A (ja) * | 1973-09-19 | 1975-05-22 | ||
| JPS5959861A (ja) * | 1982-09-29 | 1984-04-05 | Toshiba Corp | 管内部品 |
| JPS6021331A (ja) * | 1983-07-14 | 1985-02-02 | Nippon Steel Corp | Ｆｅ−Ｎｉ系低熱膨張合金板の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6559583B1 (en) * | 1999-10-29 | 2003-05-06 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Shadow mask |
| US6824625B2 (en) | 2000-07-24 | 2004-11-30 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Magnetostriction control alloy sheet, a part of a braun tube, and a manufacturing method for a magnetostriction control alloy sheet |
| JP2024043238A (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-29 | 新報国マテリアル株式会社 | 低熱膨張合金 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0676645B2 (ja) | 1994-09-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |