JPS62287204A - 回折格子作製方法 - Google Patents
回折格子作製方法Info
- Publication number
- JPS62287204A JPS62287204A JP13210986A JP13210986A JPS62287204A JP S62287204 A JPS62287204 A JP S62287204A JP 13210986 A JP13210986 A JP 13210986A JP 13210986 A JP13210986 A JP 13210986A JP S62287204 A JPS62287204 A JP S62287204A
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- JP
- Japan
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- diffraction grating
- mirror
- substrate
- polyhedral
- mirrors
- Prior art date
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- Pending
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
この発明は干渉露光によシ基叛上に周期の違う複数の回
折格子を作製する回折格子作製方法に関するものである
。
折格子を作製する回折格子作製方法に関するものである
。
第３図は干渉露光における各光学部品の配置と光線径路
を示したものである。同図において、１は光源のレーザ
ー装置、ａはレーザー装置１から発せら九た光線、２は
光線息を光線す、ｅに分離するビームスプリッタ−１３
，４はそｆ’Ｌ（’ｎ光線す、ｃを光線ｄ、ａに反射す
る平面ミラー、５は表面に感光性レジストを塗布した基
板である。なお、αは光線ｄ、ｅの入射角を示し、基板
５の法線となす角度を表わす。
を示したものである。同図において、１は光源のレーザ
ー装置、ａはレーザー装置１から発せら九た光線、２は
光線息を光線す、ｅに分離するビームスプリッタ−１３
，４はそｆ’Ｌ（’ｎ光線す、ｃを光線ｄ、ａに反射す
る平面ミラー、５は表面に感光性レジストを塗布した基
板である。なお、αは光線ｄ、ｅの入射角を示し、基板
５の法線となす角度を表わす。
次に回折格子作製方法について説明する。レーザー装［
１を出た光線ａは、ビームスプリッタ−２によって二つ
の光線す、ｅに分離さｎる。光線す、ｃはそれぞ几平面
ミラー３，４で反射さ九、光線ｄ、ｅになる。光線ｄ、
ｅは、入射角αをもって表面に感光性レジストを塗布し
た基板５上に照射さｎｌ レジストに光線ｄ、ｅによっ
て形成さ几た干渉縞が露光される。現像によシ、干渉縞
状のレジストが形成さｎｌこＡ’ｉマスクとして基板５
をエツチングすることによって回折格子が作製さｎる。
１を出た光線ａは、ビームスプリッタ−２によって二つ
の光線す、ｅに分離さｎる。光線す、ｃはそれぞ几平面
ミラー３，４で反射さ九、光線ｄ、ｅになる。光線ｄ、
ｅは、入射角αをもって表面に感光性レジストを塗布し
た基板５上に照射さｎｌ レジストに光線ｄ、ｅによっ
て形成さ几た干渉縞が露光される。現像によシ、干渉縞
状のレジストが形成さｎｌこＡ’ｉマスクとして基板５
をエツチングすることによって回折格子が作製さｎる。
この場合、回折格子の周期△は△＝λＯ／２ ｓｉｎα
で表わさｎる。λ０はレーザ装置１の波長、αは光線の
入射角を示す。
で表わさｎる。λ０はレーザ装置１の波長、αは光線の
入射角を示す。
なお、この種の技術としては、例えば、応用物理、第４
５巻、第７号（１９７６）、Ｐ２Ｓ５等が知られている
。
５巻、第７号（１９７６）、Ｐ２Ｓ５等が知られている
。
従来の干渉露光方法では、一度の露光で１種類の周期を
もった回折格子しか得らｎず、複数の違う周期の回折格
子を得るためには、複数回の露光が必要であり、生産性
２歩留まりを低下させるなどの問題点があった。
もった回折格子しか得らｎず、複数の違う周期の回折格
子を得るためには、複数回の露光が必要であり、生産性
２歩留まりを低下させるなどの問題点があった。
この発明は、この問題を解消するためになさｎたもので
、１回の露光で、複数の違う周期をもつ回折格子を作製
できる回折格子作製方法を得ることを目的としたもので
ある。
、１回の露光で、複数の違う周期をもつ回折格子を作製
できる回折格子作製方法を得ることを目的としたもので
ある。
この発明に係る回折格子作製方法は、干渉露光法におけ
る反射ミラーとして、小さな平面ミラーを角度をもって
複数接合した多面体状ミラーを利用しようとしたもので
ある。
る反射ミラーとして、小さな平面ミラーを角度をもって
複数接合した多面体状ミラーを利用しようとしたもので
ある。
多面体状ミラーを利用することにより複数の角度に反射
さ几る光線が得ら几１回の露光において複数の入射角を
持った光線を実現でき、各入射角に対応して違った周期
を持つ干渉縞と回折格子が作成できる。
さ几る光線が得ら几１回の露光において複数の入射角を
持った光線を実現でき、各入射角に対応して違った周期
を持つ干渉縞と回折格子が作成できる。
次にこの発明の一実施例を図について説明する。
第１図はこの発明に係る回折格子作製方法の干渉露光で
用いる光学部品の配置と光１線径路を示し、第２図はこ
ｆ′Ｌをｙ方向から見た図でちゃ、前述の図と同一部分
には同−符号全村しである。こｎらの図において、６，
７は小さな平面ミラーを角度βを持って接続した多面体
状ミラーである。光線ｒ、ｆは光ｌ１ｂｓＣのうち、角
度βを持ったミラーの部分で反射した光線を示す。
用いる光学部品の配置と光１線径路を示し、第２図はこ
ｆ′Ｌをｙ方向から見た図でちゃ、前述の図と同一部分
には同−符号全村しである。こｎらの図において、６，
７は小さな平面ミラーを角度βを持って接続した多面体
状ミラーである。光線ｒ、ｆは光ｌ１ｂｓＣのうち、角
度βを持ったミラーの部分で反射した光線を示す。
次に本発明の詳細な説明する。第１図に示すようにレー
ザ装置１を発し、ビームスプリンター２で光線ａ、ｂに
分離され、多面体状ミラー６．７に入射する行程は従来
形と同じである。多面体状ミラー６．７に入射した光の
一部は、光線ｄ、＠となシ、基板５の表面には従来と同
様に周期△＝λｏ ／ ２ ｓ ｉ ｎαの干渉縞を形
成する。一方、入射した光の他の一部は傾斜角度βをも
つ多面体ミラー６．７の他面で反射し、χ−２平面内で
角度２βをもった光、線ｆ、ｆとなる。この光＠ｆ、？
の干渉によシ、基板５の表面では周期△＝λ０／２ｓｉ
ｎαｃｏｔ２βの干渉縞が形成さ九る。このように多面
体状ミラー６．７を利用することにより、１回の露光で
複数の違う周期を持つ干渉縞が得らｎる。以後従来例と
同様な手順で、回折格子の作製を行ない、複数の違う周
期をもつ回折格子が作製される。
ザ装置１を発し、ビームスプリンター２で光線ａ、ｂに
分離され、多面体状ミラー６．７に入射する行程は従来
形と同じである。多面体状ミラー６．７に入射した光の
一部は、光線ｄ、＠となシ、基板５の表面には従来と同
様に周期△＝λｏ ／ ２ ｓ ｉ ｎαの干渉縞を形
成する。一方、入射した光の他の一部は傾斜角度βをも
つ多面体ミラー６．７の他面で反射し、χ−２平面内で
角度２βをもった光、線ｆ、ｆとなる。この光＠ｆ、？
の干渉によシ、基板５の表面では周期△＝λ０／２ｓｉ
ｎαｃｏｔ２βの干渉縞が形成さ九る。このように多面
体状ミラー６．７を利用することにより、１回の露光で
複数の違う周期を持つ干渉縞が得らｎる。以後従来例と
同様な手順で、回折格子の作製を行ない、複数の違う周
期をもつ回折格子が作製される。
なお、上記実施例では反射ミラーとして多面体状ミラー
を用いたが、円柱状ミラーおよび曲面ミラーを用いるこ
とにより、周期が連続して変化する回折格子の作製も行
なうことができる。
を用いたが、円柱状ミラーおよび曲面ミラーを用いるこ
とにより、周期が連続して変化する回折格子の作製も行
なうことができる。
１７こ、上記実施例では両ミラーを結ぶ方向と直角な方
向に周期の違う回折格子が作製さｎるが、多面体状ミラ
ーの方向により、両ミラーを結ぶ方向に周期の速う回折
格子を作製することもできる。
向に周期の違う回折格子が作製さｎるが、多面体状ミラ
ーの方向により、両ミラーを結ぶ方向に周期の速う回折
格子を作製することもできる。
〔発明の効果」
以上説明したようにこの発明によ九ば、回折格子作製に
おいて干渉露光法で反射ミラーとして多面体状ミラーを
利用することにより、１回の露光で複数の違う周期をも
った回折格子を容易に得ることかできるので、生産性１
歩留シを大幅に向上させることができるという極めて優
ルた効果が得らｎる。
おいて干渉露光法で反射ミラーとして多面体状ミラーを
利用することにより、１回の露光で複数の違う周期をも
った回折格子を容易に得ることかできるので、生産性１
歩留シを大幅に向上させることができるという極めて優
ルた効果が得らｎる。
第１図はこの発明の一実施例における干渉露光法の光学
部品の配置と光線径路を示す因、第２図は第１図をｙ方
向から見た図、第３図は従来例を示す図である。 １・・・・レーｆ−装置、２・・・・ビームスプリッタ
−１５・・・・基板、６，７・・・・多面体状ミラー、
＆〜？・・・・光線、α・・・・入射角、β・・・・多
面体ミラーの各面間の角度。
部品の配置と光線径路を示す因、第２図は第１図をｙ方
向から見た図、第３図は従来例を示す図である。 １・・・・レーｆ−装置、２・・・・ビームスプリッタ
−１５・・・・基板、６，７・・・・多面体状ミラー、
＆〜？・・・・光線、α・・・・入射角、β・・・・多
面体ミラーの各面間の角度。
Claims (5)
- （１）干渉露光を用いた回折格子作製方法において、反
射ミラーに小さな平面ミラーを角度をもつて接続した一
対の多面体状ミラーを用い、異なる角度に反射した複数
組の光線を基板上に照射することにより同一基板上に周
期の異なる複数の干渉縞を露光し回折格子を作製するこ
とを特徴とした回折格子作製方法。 - （２）多面体状ミラーとして多角柱状ミラーを用い、柱
状の縦方向と基板の法線方向とを一致させて配置するこ
とにより、２つの反射ミラーを結ぶ方向と直角の方向に
周期の異なる複数の回折格子を作製することを特徴とし
た特許請求の範囲第１項記載の回折格子作製方法。 - （３）多面体状ミラーとして多角柱状ミラーを用い、柱
状の縦方向と基板が平行となるように配置することによ
り、２つの反射ミラーを結ぶ方向に周期の異なる複数の
回折格子を作製することを特徴とした特許請求の範囲第
１項記載の回折格子作製方法。 - （４）多面体状ミラーとして曲面ミラーを用い、連続的
に周期の変化する回折格子を作製することを特徴とした
特許請求の範囲第１項記載の回折格子作製方法。 - （５）多面体状ミラーとして円柱状ミラーを用い連続的
に周期の変化する回折格子を作製することを特徴とした
特許請求の範囲第１項記載の回折格子作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13210986A JPS62287204A (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | 回折格子作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13210986A JPS62287204A (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | 回折格子作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62287204A true JPS62287204A (ja) | 1987-12-14 |
Family
ID=15073650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13210986A Pending JPS62287204A (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | 回折格子作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62287204A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0561397A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-03-12 | Fujitsu Ltd | ホログラム描画装置 |
| JPH0572959A (ja) * | 1991-09-17 | 1993-03-26 | Fujitsu Ltd | ホログラム描画装置 |
| CN118151278A (zh) * | 2024-04-16 | 2024-06-07 | 上海频准激光科技有限公司 | 一种目标光栅生成系统 |
-
1986
- 1986-06-06 JP JP13210986A patent/JPS62287204A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0561397A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-03-12 | Fujitsu Ltd | ホログラム描画装置 |
| JPH0572959A (ja) * | 1991-09-17 | 1993-03-26 | Fujitsu Ltd | ホログラム描画装置 |
| CN118151278A (zh) * | 2024-04-16 | 2024-06-07 | 上海频准激光科技有限公司 | 一种目标光栅生成系统 |
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