JPS62296972A - スパッタ付着防止型溶接用トーチノズル - Google Patents
スパッタ付着防止型溶接用トーチノズルInfo
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガスシール式溶接装置のトーチノズルの改良
に係わり、更に詳しくは表面にスパック付着防止処理を
施したスパッタ付着防止方法並びにその溶接用トーチノ
ズルに関する。
に係わり、更に詳しくは表面にスパック付着防止処理を
施したスパッタ付着防止方法並びにその溶接用トーチノ
ズルに関する。
従来のガスシール式溶接用トーチノズルは、銅製ノズル
基材の表面にアルミニウム又はクロムを拡散浸遇させて
被覆層を形成した所謂カロライジング処理及びクロマイ
ジング処理を施したもの、あるいは表面に硬質クロムメ
ッキをしたものが提供されているが、ノズルの先端部に
スパッタが付着して目詰まりが起こり、シールドガスの
流出を阻害して溶着金属の中に空気が入り酸化及び窒化
現象による欠陥溶接になったり、また本来は電気絶縁さ
れているトーチノズルと溶接環がスパッタの付着で短絡
されスパークが発生して、該トーチノズルの表面が1旧
託し、更にスパックの付着を促進させるので、定期的に
溶接作業を停止してスパッタの除去作業が必要であり、
特に多数の溶接箇所を同時に制御して溶接する自動溶接
機に於いては、前述したトーチノズルの先端部へのスパ
ッタの付着は解決すべき最大課題であり、作業能率を高
める上で障害となっていた。その為、先端部を耐熱性、
滑動性に優れたセラミックスで形成した溶接用トーチノ
ズルが考慮されるが、スパッタの付着は比較的防止でき
るものの高温で焼成する等製造工程が複雑で高価になり
、安価でしがもスパッタの付着が極度に少ないスパック
付着防止方法並びにその溶接用トーチノズルの開発が望
まれていた。
基材の表面にアルミニウム又はクロムを拡散浸遇させて
被覆層を形成した所謂カロライジング処理及びクロマイ
ジング処理を施したもの、あるいは表面に硬質クロムメ
ッキをしたものが提供されているが、ノズルの先端部に
スパッタが付着して目詰まりが起こり、シールドガスの
流出を阻害して溶着金属の中に空気が入り酸化及び窒化
現象による欠陥溶接になったり、また本来は電気絶縁さ
れているトーチノズルと溶接環がスパッタの付着で短絡
されスパークが発生して、該トーチノズルの表面が1旧
託し、更にスパックの付着を促進させるので、定期的に
溶接作業を停止してスパッタの除去作業が必要であり、
特に多数の溶接箇所を同時に制御して溶接する自動溶接
機に於いては、前述したトーチノズルの先端部へのスパ
ッタの付着は解決すべき最大課題であり、作業能率を高
める上で障害となっていた。その為、先端部を耐熱性、
滑動性に優れたセラミックスで形成した溶接用トーチノ
ズルが考慮されるが、スパッタの付着は比較的防止でき
るものの高温で焼成する等製造工程が複雑で高価になり
、安価でしがもスパッタの付着が極度に少ないスパック
付着防止方法並びにその溶接用トーチノズルの開発が望
まれていた。
本発明が前述の状況に爲み、解決しようとするところは
、従来の金泥製ノズル基材に表面処理を施し、ノズル表
面の滑落性を向上させスパッタの付着を極度に防止し且
つ付着しても自重により容易に剥離し得る安価で耐久性
の高いスパック付着防止方法並びにその溶接用トーチノ
ズルを提供する点にある。
、従来の金泥製ノズル基材に表面処理を施し、ノズル表
面の滑落性を向上させスパッタの付着を極度に防止し且
つ付着しても自重により容易に剥離し得る安価で耐久性
の高いスパック付着防止方法並びにその溶接用トーチノ
ズルを提供する点にある。
本発明は、前述の問題解決の為に、ガスシール式金属製
溶接用ノズルの表面にフッ素系高分子化合物を含有させ
ることで、該溶接用ノズルへのスパッタの付着を防止す
る父バッタ付着防止方法であり、また溶接用ノズルの表
面にフッ素系高分子化合物の表面硬化層を形成するが又
は該フッ素系高分子化合物を金属中に含有又は共存する
表面便化層を形成してスパッタ付着防止型溶接用トーチ
ノズルでもある。
溶接用ノズルの表面にフッ素系高分子化合物を含有させ
ることで、該溶接用ノズルへのスパッタの付着を防止す
る父バッタ付着防止方法であり、また溶接用ノズルの表
面にフッ素系高分子化合物の表面硬化層を形成するが又
は該フッ素系高分子化合物を金属中に含有又は共存する
表面便化層を形成してスパッタ付着防止型溶接用トーチ
ノズルでもある。
以上の如き内容からなる本発明のスパッタ付着防止型溶
接用トーチノズルは、金属製トーチノズルの表面にフッ
素系高分子化合物を位置させ、該フッ素系高分子化合物
の素材自体のもつ低摩擦性によって、アーク発生部から
飛散する溶融金属、即ちスパッタのノズル先端部への付
着を防止し且つ付着しても滑落性がよいので溶融金属の
自重により容易に剥離するものであり、その為熔融金泥
のノズル先端部での滞留時間が短いので咳熔励金属から
ノズル先端部への熱の伝達が少な(、更に熱伝導性の良
い金属製ノズルを用いているので、内部を流れるシール
ドガスによりまた場合によっては水冷を行っており常に
該トーチノズルが冷却された状態にあり、熱の築中がな
く該1・−チノズルの温度上昇も少なく、金属と比較し
て低温度で溶融するフッ素系高分子化合物を有する表面
硬化層の熱iM (Iiも少ないものである。
接用トーチノズルは、金属製トーチノズルの表面にフッ
素系高分子化合物を位置させ、該フッ素系高分子化合物
の素材自体のもつ低摩擦性によって、アーク発生部から
飛散する溶融金属、即ちスパッタのノズル先端部への付
着を防止し且つ付着しても滑落性がよいので溶融金属の
自重により容易に剥離するものであり、その為熔融金泥
のノズル先端部での滞留時間が短いので咳熔励金属から
ノズル先端部への熱の伝達が少な(、更に熱伝導性の良
い金属製ノズルを用いているので、内部を流れるシール
ドガスによりまた場合によっては水冷を行っており常に
該トーチノズルが冷却された状態にあり、熱の築中がな
く該1・−チノズルの温度上昇も少なく、金属と比較し
て低温度で溶融するフッ素系高分子化合物を有する表面
硬化層の熱iM (Iiも少ないものである。
次に添付図面に示した実施例に基づき更に本発明の詳細
な説明する。
な説明する。
第1図は本発明に係わるスパッタ付着防止型溶接用トー
チノズルの使用状態を図式的に示した省略断面図であり
、略円筒形の金属製トーチノズル1の中心部に、ノズル
先端部2方向へ順次送り出される溶接環3を配し、該溶
接棒3の先端と溶接物4,4の接合grss間にアーク
6を発生させて、溶接棒3の先端部を熔融し、前記接合
部5の溶融部7に順次供給するものであり、更に前記ト
ーチノズル1の内部からノズル先端部2方向へ炭酸ガス
、アルゴン及びヘリウム等のシールドガス8を噴出して
、空気から前記アーク6及び熔融部7を完全に遮断して
、該溶融部7の酸化及び窒化による欠陥溶接を防止する
とともに、前記シールドガス8雰囲気中で安定にアーク
6を発生させるものであり、この場合アーク6の衝撃に
より前記溶融部7から熔融金属が飛散し、即ちスパッタ
9が発生して、前記ノズル先端部2の内外面に該スパッ
タ9が衝突するものである。
チノズルの使用状態を図式的に示した省略断面図であり
、略円筒形の金属製トーチノズル1の中心部に、ノズル
先端部2方向へ順次送り出される溶接環3を配し、該溶
接棒3の先端と溶接物4,4の接合grss間にアーク
6を発生させて、溶接棒3の先端部を熔融し、前記接合
部5の溶融部7に順次供給するものであり、更に前記ト
ーチノズル1の内部からノズル先端部2方向へ炭酸ガス
、アルゴン及びヘリウム等のシールドガス8を噴出して
、空気から前記アーク6及び熔融部7を完全に遮断して
、該溶融部7の酸化及び窒化による欠陥溶接を防止する
とともに、前記シールドガス8雰囲気中で安定にアーク
6を発生させるものであり、この場合アーク6の衝撃に
より前記溶融部7から熔融金属が飛散し、即ちスパッタ
9が発生して、前記ノズル先端部2の内外面に該スパッ
タ9が衝突するものである。
第2図(al〜(dlは、金属製ノズル基材10の表面
処理の各種の態様を示したものである。
処理の各種の態様を示したものである。
第1実施例
第2図(alに示す如く、ノズル基材]0の表面にフッ
素系高分子化合物を、好ましくはポリテトラフルオロエ
チレンを数十μmの厚さでコーティングして熱処理を行
い、フッ素系高分子化合物Fillを形成したものであ
る。
素系高分子化合物を、好ましくはポリテトラフルオロエ
チレンを数十μmの厚さでコーティングして熱処理を行
い、フッ素系高分子化合物Fillを形成したものであ
る。
第2実施例
第2図(blに示す如く、ノズル基材10の表面を粗面
化した後、無電解ニッケルめっきを行ってニッケル層1
2を形成し、更にその上面に前記同様にフッ素系高分子
化合物をコーティング、熱処理を行いフッ素糸高分子化
合物屓11を形成したものである。
化した後、無電解ニッケルめっきを行ってニッケル層1
2を形成し、更にその上面に前記同様にフッ素系高分子
化合物をコーティング、熱処理を行いフッ素糸高分子化
合物屓11を形成したものである。
第3実施例
第2図(C1に示す如く、ノズル基材10の表面に硬質
クロムめっきを行って厚さ20〜30μmのクロム51
3を形成し、該クロム層13に生じたクランク内に熱処
理を行いながらポリテトラフルオロエチレン等のフッ素
系高分子化合物11゛を充填し、その後急冷却して前記
クロム層13に該フッ素系高分子化合物11′を埋設し
たものである。
クロムめっきを行って厚さ20〜30μmのクロム51
3を形成し、該クロム層13に生じたクランク内に熱処
理を行いながらポリテトラフルオロエチレン等のフッ素
系高分子化合物11゛を充填し、その後急冷却して前記
クロム層13に該フッ素系高分子化合物11′を埋設し
たものである。
第4実施例
第2図(dlに示す如く、ニッケルめっき液中にポリテ
トラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレ
ン、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン−
ヘキサフルオロプロピレン共重合体から選んだ1種又は
2種以上のもののフッ素系高分子化合物微粒子14を界
面活性剤で分散させためっき液を用いて、ノズル基材1
0の表面にめっきを行って共析させ、前記フッ素系高分
子化合物微粒子14をニッケル15中に点在分散させて
、厚さ数μm〜30μmの複合めっぎ層16を形成した
ものであり、前記フッ素系高分子化合物微粒子14の含
有量を10〜40体積%となし、更に好ましくは15〜
25体積%になるように設定したものである。
トラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレ
ン、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン−
ヘキサフルオロプロピレン共重合体から選んだ1種又は
2種以上のもののフッ素系高分子化合物微粒子14を界
面活性剤で分散させためっき液を用いて、ノズル基材1
0の表面にめっきを行って共析させ、前記フッ素系高分
子化合物微粒子14をニッケル15中に点在分散させて
、厚さ数μm〜30μmの複合めっぎ層16を形成した
ものであり、前記フッ素系高分子化合物微粒子14の含
有量を10〜40体積%となし、更に好ましくは15〜
25体積%になるように設定したものである。
第5実施例
第2図(elに示す如く、ノズル基材10の表面に硬質
クロムめっきをしてクロム層17を形成し、その上に前
記第4実施例で示したフッ素系高分子化合物微粒子14
とニッケル15の複合めっき層16を形成したものであ
る。
クロムめっきをしてクロム層17を形成し、その上に前
記第4実施例で示したフッ素系高分子化合物微粒子14
とニッケル15の複合めっき層16を形成したものであ
る。
以上に述べた実施例の中で、特に第5実施例として示し
た金属製ノズル基材10の表面に硬質クロムめっきを行
い、その上にフッ素系高分子化合物微粒子14とニッケ
ル15の複合メッキ層16を形成する表面処理を施した
トーチノズル1と、従来の金属製ノズル基材10の表面
にクロマイジング処理、クロマイジング処理及び硬質ク
ロムメッキ処理を施したトーチノズル1とを比較実験し
た結果を以下に述べる。第3〜7図は、同一の使用条件
で、各トーチノズル1.・・・のノズル先端部2へのス
パッタ9の付着状態を比較した写真であり、第3〜5図
の(alはトーチノズル1の側面写真、(blはノズル
先端部2の拡大写真であり、第6.7図はトーチノズル
1の側面写真である。
た金属製ノズル基材10の表面に硬質クロムめっきを行
い、その上にフッ素系高分子化合物微粒子14とニッケ
ル15の複合メッキ層16を形成する表面処理を施した
トーチノズル1と、従来の金属製ノズル基材10の表面
にクロマイジング処理、クロマイジング処理及び硬質ク
ロムメッキ処理を施したトーチノズル1とを比較実験し
た結果を以下に述べる。第3〜7図は、同一の使用条件
で、各トーチノズル1.・・・のノズル先端部2へのス
パッタ9の付着状態を比較した写真であり、第3〜5図
の(alはトーチノズル1の側面写真、(blはノズル
先端部2の拡大写真であり、第6.7図はトーチノズル
1の側面写真である。
サンプル■
第3図(al、 (blは、銅製のノズル基材10の表
面に従来のクロマイジング処理を施したもので、使用後
にはノズル先端部2とその内面にスパッタ9が強固に付
着しており、該トーチノズル1の冷却後でもスパッタ9
は容易に剥離せずペンチや二、2パーでも全て除去する
ことが困難であり、ノズル先端部2の表面状態もやや悪
くなっている。
面に従来のクロマイジング処理を施したもので、使用後
にはノズル先端部2とその内面にスパッタ9が強固に付
着しており、該トーチノズル1の冷却後でもスパッタ9
は容易に剥離せずペンチや二、2パーでも全て除去する
ことが困難であり、ノズル先端部2の表面状態もやや悪
くなっている。
サンプル■
第4図(al、 (blは、銅製のノズル基材10の表
面に従来のクロマイジング処理を施したもので、サンプ
ル■と同様に使用後にはノズル先端部2とその内面にス
パッタ9が付着しており、サンプル■に比べてスパッタ
9は剥離し易いが、剥離した後のノズル先端部2の表面
はノズル基材10の銅が現れて、更にトーチノズル1表
面に無数の微細な凹部が生じており、表面処理が破壊さ
れたことを息味している。
面に従来のクロマイジング処理を施したもので、サンプ
ル■と同様に使用後にはノズル先端部2とその内面にス
パッタ9が付着しており、サンプル■に比べてスパッタ
9は剥離し易いが、剥離した後のノズル先端部2の表面
はノズル基材10の銅が現れて、更にトーチノズル1表
面に無数の微細な凹部が生じており、表面処理が破壊さ
れたことを息味している。
サンプル■
第5図(a)、 (b)は、銅製のノズル基材lOの表
面に従来の硬質クロムめっきを施して厚さ20μmのク
ロム層を形成したもので、サンプル■と同様にノズル先
端部2とその内面にスパッタ9が強固に付着しており、
またノズル先端部2が熔mし、スパッタ9の付着によっ
て該ノズル先端部2と溶接棒3とが短絡してスパークが
発生したことを意味し、トーチノズル1が高温になって
側面が熱により変色している。
面に従来の硬質クロムめっきを施して厚さ20μmのク
ロム層を形成したもので、サンプル■と同様にノズル先
端部2とその内面にスパッタ9が強固に付着しており、
またノズル先端部2が熔mし、スパッタ9の付着によっ
て該ノズル先端部2と溶接棒3とが短絡してスパークが
発生したことを意味し、トーチノズル1が高温になって
側面が熱により変色している。
サンプル■
第6図は、銅製のノズル基材10の表面に本発明の第5
実施例で示した表面処理を施したもので、ノズル基材1
0の表面に硬質クロムめっきを行い厚さ20μmのクロ
ム517を形成し、その上にフッ素系高分子化合物微粒
子14とニッケル15を共析させて厚さ8μmの複合メ
ッキ層16を形成し、また該複合メッキ層16の前記フ
ッ素系高分子化合物微粒子14の含有量を約20体積%
となして、金属めっきの強度及び熱伝導性とフッ素系高
分子化合物の低摩擦性を備えたもので、使用後のノズル
先端部2の外面及び内面は、全くスパッタ9の付着がな
く使用前の光沢を保持し、処理した表面の劣化は全くな
く、また内面には使用中にスパッタ9が付着するが、た
だちに該スパッタ9の自重により容易に剥離した。
実施例で示した表面処理を施したもので、ノズル基材1
0の表面に硬質クロムめっきを行い厚さ20μmのクロ
ム517を形成し、その上にフッ素系高分子化合物微粒
子14とニッケル15を共析させて厚さ8μmの複合メ
ッキ層16を形成し、また該複合メッキ層16の前記フ
ッ素系高分子化合物微粒子14の含有量を約20体積%
となして、金属めっきの強度及び熱伝導性とフッ素系高
分子化合物の低摩擦性を備えたもので、使用後のノズル
先端部2の外面及び内面は、全くスパッタ9の付着がな
く使用前の光沢を保持し、処理した表面の劣化は全くな
く、また内面には使用中にスパッタ9が付着するが、た
だちに該スパッタ9の自重により容易に剥離した。
サンプル■
第7図は、前記サンプル■と複合めっき層16の厚さを
15μmとした以外は同じもので、使用後のノズル先端
部2の外面は、前記サンプル■と同様に全くスパッタ9
の付着がなく使用前の光沢を保持し、処理した表面の劣
化は全くなく、また内面には使用中にスパッタ9が付着
し、やはりただちに該スパッタ9の自重により剥離する
が、前記サンプル■と比較してエリ離性はやや劣り、更
に内面の表面状態が僅かに劣化している。
15μmとした以外は同じもので、使用後のノズル先端
部2の外面は、前記サンプル■と同様に全くスパッタ9
の付着がなく使用前の光沢を保持し、処理した表面の劣
化は全くなく、また内面には使用中にスパッタ9が付着
し、やはりただちに該スパッタ9の自重により剥離する
が、前記サンプル■と比較してエリ離性はやや劣り、更
に内面の表面状態が僅かに劣化している。
しかして、以上の各サンプルを同一条件で比較実験した
結果、サンプル■〜■で示した従来の溶接用トーチノズ
ル1は、そのノズル先端部2にスパッタ9が強固に付着
し、該スパッタ9も容易に剥離しないばかりか、トーチ
ノズル1の表面状態も大きく劣化して使用前の状態をと
どめてなく、更にノズル基材10の一部が露出したり溶
損したりしており、付着したスパッタ9を除去しても再
度使用し得る表面状態ではなく、仮に使用したとしても
スパッタ9の付着はより激しく短時間で使用できなくな
るのに対し、サンプル■及び■で示した本発明を実施し
た溶接用トーチノズル1は、ノズル先端部2に全くスパ
ッタ9の付着がなく、また一時的に内面に付着しても該
スパッタ9の自重により容易に剥離するだけであるので
、トーチノズル1へのスパッタ9即ち熔融金属からの熱
伝達は少なく、即ち該トーチノズル1の温度上昇は少な
(、その為表面の劣化も殆どないものである。
結果、サンプル■〜■で示した従来の溶接用トーチノズ
ル1は、そのノズル先端部2にスパッタ9が強固に付着
し、該スパッタ9も容易に剥離しないばかりか、トーチ
ノズル1の表面状態も大きく劣化して使用前の状態をと
どめてなく、更にノズル基材10の一部が露出したり溶
損したりしており、付着したスパッタ9を除去しても再
度使用し得る表面状態ではなく、仮に使用したとしても
スパッタ9の付着はより激しく短時間で使用できなくな
るのに対し、サンプル■及び■で示した本発明を実施し
た溶接用トーチノズル1は、ノズル先端部2に全くスパ
ッタ9の付着がなく、また一時的に内面に付着しても該
スパッタ9の自重により容易に剥離するだけであるので
、トーチノズル1へのスパッタ9即ち熔融金属からの熱
伝達は少なく、即ち該トーチノズル1の温度上昇は少な
(、その為表面の劣化も殆どないものである。
また、前述のようにトーチノズル1の表面にスパッタ9
が殆ど付着しなく、該トーチノズル1の温度上昇も少な
いので、ノズル基材1oとして熱伝導の特に良い銅を用
いなくても、単価の安い鉄を用いることも可能である。
が殆ど付着しなく、該トーチノズル1の温度上昇も少な
いので、ノズル基材1oとして熱伝導の特に良い銅を用
いなくても、単価の安い鉄を用いることも可能である。
尚、サンプル■と■を比較すれば、前記複合めっき層1
6の厚みが薄い方のサンプル■が優れており、これによ
って該複合メッキ層16の厚みをより厚くしても、めっ
き液を多(使用するだけでスパッタ9の付着防止効果は
少なく、その上限は厚さ30μm程度であり、一方散μ
m以下では複合メッキ層16の強度が弱く、めっき処理
における厚みの制御も難しくて実用的でなく、従って数
μm〜30μmの厚さに複合メッキ層16を形成するこ
とが好ましい。
6の厚みが薄い方のサンプル■が優れており、これによ
って該複合メッキ層16の厚みをより厚くしても、めっ
き液を多(使用するだけでスパッタ9の付着防止効果は
少なく、その上限は厚さ30μm程度であり、一方散μ
m以下では複合メッキ層16の強度が弱く、めっき処理
における厚みの制御も難しくて実用的でなく、従って数
μm〜30μmの厚さに複合メッキ層16を形成するこ
とが好ましい。
以上にしてなる本発明のスパッタ付着防止方法及びスパ
ッタ付着防止型溶接用トーチノズルによれば、ガスシー
ル式金屈製溶接用ノズルの表面にフッ素系高分子化合物
の表面硬化層を形成するか又は該フッ素系高分子化合物
を金属中に含有又は共存する表面硬化層を形成してなる
ので、フッ素系高分子化合物の素材自体のもつ低摩擦性
によってl・−サンプルの表面を滑落性の高いものとす
ることができ、アーク発生部から飛散する熔融金属、即
ちスパッタのノズル先端部への付着を防止し且つ付着し
てもスパッタの自重により容易に剥離するものであり、
その為スパッタのノズル先端部での滞留時間が短いので
該スパッタからノズル先端部への熱の伝達が少な(、更
に熱伝導性の良い金属製ノズルを用いているので、熱が
拡散し易く熱の集中がなく該トーチノズルの温度上昇も
少なく、金泥と比較して低温度で溶融するフッ素系高分
子化合物を有する表面硬化層の熱損傷も少ないものであ
る。
ッタ付着防止型溶接用トーチノズルによれば、ガスシー
ル式金屈製溶接用ノズルの表面にフッ素系高分子化合物
の表面硬化層を形成するか又は該フッ素系高分子化合物
を金属中に含有又は共存する表面硬化層を形成してなる
ので、フッ素系高分子化合物の素材自体のもつ低摩擦性
によってl・−サンプルの表面を滑落性の高いものとす
ることができ、アーク発生部から飛散する熔融金属、即
ちスパッタのノズル先端部への付着を防止し且つ付着し
てもスパッタの自重により容易に剥離するものであり、
その為スパッタのノズル先端部での滞留時間が短いので
該スパッタからノズル先端部への熱の伝達が少な(、更
に熱伝導性の良い金属製ノズルを用いているので、熱が
拡散し易く熱の集中がなく該トーチノズルの温度上昇も
少なく、金泥と比較して低温度で溶融するフッ素系高分
子化合物を有する表面硬化層の熱損傷も少ないものであ
る。
第1図は本発明のスパッタ付着防止型溶接用トーチノズ
ルの使用状態を図式的に示した省略断面図、第2図(a
l、 (bl、 (cl、 (d)、 (elはトーチ
ノズルの表面処理状態を図式的に示した部分断面図、第
3図(a)、 (b)は従来のクロマイジング処理した
トーチノズルの使用後の写真、第4図ta)、 tb)
は従来の力ロライジング処理したトーチノズルの使用後
の写真、第5図(al、 (blは従来の硬質クロムめ
っき処理したトーチノズルの使用後の写真、第6図及び
第7図は本発明の表面処理したトーチノズルの使用後の
写真である。 にトーチノズル、 2:ノズル先端部、3;溶接棒、
4;溶接物、 5:接合部、 6:アーク、 7:溶融部、 8:シールドガス、9ニスバツタ
、 10:ノズル基材、11:フッ素系高分子化合
物層、12:ニッケル層、13ニクロム層、14:フッ
素系高分子化合物微粒子、15:ニソケル、 16
:複合めっき層、17:クロム層。
ルの使用状態を図式的に示した省略断面図、第2図(a
l、 (bl、 (cl、 (d)、 (elはトーチ
ノズルの表面処理状態を図式的に示した部分断面図、第
3図(a)、 (b)は従来のクロマイジング処理した
トーチノズルの使用後の写真、第4図ta)、 tb)
は従来の力ロライジング処理したトーチノズルの使用後
の写真、第5図(al、 (blは従来の硬質クロムめ
っき処理したトーチノズルの使用後の写真、第6図及び
第7図は本発明の表面処理したトーチノズルの使用後の
写真である。 にトーチノズル、 2:ノズル先端部、3;溶接棒、
4;溶接物、 5:接合部、 6:アーク、 7:溶融部、 8:シールドガス、9ニスバツタ
、 10:ノズル基材、11:フッ素系高分子化合
物層、12:ニッケル層、13ニクロム層、14:フッ
素系高分子化合物微粒子、15:ニソケル、 16
:複合めっき層、17:クロム層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)ガスシール式金属製溶接用ノズルの表面にフッ素系
高分子化合物を含有させて、該溶接用ノズルへのスパッ
タの付着を防止するスパッタ付着防止方法。 2)ガスシール式金属製溶接用ノズルの表面にフッ素系
高分子化合物の表面硬化層を形成するか又は該フッ素系
高分子化合物を金属中に含有又は共存する表面硬化層を
形成してなるスパッタ付着防止型溶接用トーチノズル。 3)前記表面硬化層として、ニッケルとフッ素系高分子
化合物を共析した層を形成したものとしてなる特許請求
の範囲第2項記載のスパッタ付着防止型溶接用トーチノ
ズル。 4)前記フッ素系高分子化合物として、ポリテトラフル
オロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリ
フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフ
ルオロプロピレン共重合体から選択した1種又は2種以
上のものを用いてなる特許請求の範囲第2項又は第3項
記載のスパッタ付着防止型溶接用トーチノズル。 5)前記表面硬化層の厚みを数μm〜30μmとしてな
る特許請求の範囲第3項記載のスパッタ付着防止型溶接
用トーチノズル。 6)フッ素系高分子化合物を表面付着又は微細な溝に埋
設してなる特許請求の範囲第2項記載のスパッタ付着防
止型溶接用トーチノズル。 7)ノズル表面のクロマイジング処理した硬化層上に前
記表面硬化層を形成してなる特許請求の範囲第2項又は
第3項又は第4項又は第5項記載のスパッタ付着防止型
溶接用トーチノズル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61138699A JPH0683900B2 (ja) | 1986-06-14 | 1986-06-14 | スパッタ付着防止型溶接用トーチノズル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61138699A JPH0683900B2 (ja) | 1986-06-14 | 1986-06-14 | スパッタ付着防止型溶接用トーチノズル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62296972A true JPS62296972A (ja) | 1987-12-24 |
| JPH0683900B2 JPH0683900B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=15228056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61138699A Expired - Lifetime JPH0683900B2 (ja) | 1986-06-14 | 1986-06-14 | スパッタ付着防止型溶接用トーチノズル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0683900B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0565190A (ja) * | 1991-09-03 | 1993-03-19 | Ishida Scales Mfg Co Ltd | 自動計量システムにおける被計量物の付着防止構造 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51116137A (en) * | 1975-04-04 | 1976-10-13 | Toshio Arakado | Welding nozzle and method of producing the same |
| JPS51129835A (en) * | 1975-05-07 | 1976-11-11 | Hitachi Seiko Kk | Device of preventing spatters on welding torch |
-
1986
- 1986-06-14 JP JP61138699A patent/JPH0683900B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51116137A (en) * | 1975-04-04 | 1976-10-13 | Toshio Arakado | Welding nozzle and method of producing the same |
| JPS51129835A (en) * | 1975-05-07 | 1976-11-11 | Hitachi Seiko Kk | Device of preventing spatters on welding torch |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0565190A (ja) * | 1991-09-03 | 1993-03-19 | Ishida Scales Mfg Co Ltd | 自動計量システムにおける被計量物の付着防止構造 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0683900B2 (ja) | 1994-10-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
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