JPS62299746A - スル−ホ−ル欠陥検査装置 - Google Patents
スル−ホ−ル欠陥検査装置Info
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- JPS62299746A JPS62299746A JP14293486A JP14293486A JPS62299746A JP S62299746 A JPS62299746 A JP S62299746A JP 14293486 A JP14293486 A JP 14293486A JP 14293486 A JP14293486 A JP 14293486A JP S62299746 A JPS62299746 A JP S62299746A
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- Japan
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- hole
- light
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95692—Patterns showing hole parts, e.g. honeycomb filtering structures
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- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
〔概 要〕
本発明はプリント基板等の被検物体内のスルーホール検
査に漏光構法を用いた場合の改良に関する。上記漏光検
知法は被検物体であるプリント基板のスルーホールを遮
光し下面から高照度の照明を行ない、スルーホール内に
欠陥があれば、プリント基板内を乱反射しながら透過光
はスルーホールの欠陥部からスルーホール内に入り、ス
ルーホール内壁を乱反射しながらプリント基板のスルー
ホール透孔から漏れる。この漏光を検知してスルーホー
ル欠陥の検知を行なう。透孔からの微小な漏光が無い場
合は、そのスルーホールは正常と判断していた。この漏
光検知法は予めスルーホール位置を自動検知するための
第１の検知手段を必要とすると共に上記した遮光したス
ルーホールの漏光を検知するための第２の検知手段を必
要とし相互の位置合せが必要となる欠点があった。本発
明では第１及び第２の検知手段を１つで兼用しようとす
るものである。そのために短冊状に形成したセンサ素子
を帯状に並べたセンサ素子ア・ノセンブリの前に上記短
冊型のセンサ素子のピッチの２倍で穿たれた互に異なる
位置に千鳥状に配列した二列の透孔列を設けたマスクを
配設した一つの光検知手段によってプリント基板のスル
ーホール欠陥を検知しようとするものである。
査に漏光構法を用いた場合の改良に関する。上記漏光検
知法は被検物体であるプリント基板のスルーホールを遮
光し下面から高照度の照明を行ない、スルーホール内に
欠陥があれば、プリント基板内を乱反射しながら透過光
はスルーホールの欠陥部からスルーホール内に入り、ス
ルーホール内壁を乱反射しながらプリント基板のスルー
ホール透孔から漏れる。この漏光を検知してスルーホー
ル欠陥の検知を行なう。透孔からの微小な漏光が無い場
合は、そのスルーホールは正常と判断していた。この漏
光検知法は予めスルーホール位置を自動検知するための
第１の検知手段を必要とすると共に上記した遮光したス
ルーホールの漏光を検知するための第２の検知手段を必
要とし相互の位置合せが必要となる欠点があった。本発
明では第１及び第２の検知手段を１つで兼用しようとす
るものである。そのために短冊状に形成したセンサ素子
を帯状に並べたセンサ素子ア・ノセンブリの前に上記短
冊型のセンサ素子のピッチの２倍で穿たれた互に異なる
位置に千鳥状に配列した二列の透孔列を設けたマスクを
配設した一つの光検知手段によってプリント基板のスル
ーホール欠陥を検知しようとするものである。
〔産業上の利用分野］
本発明は被検物体の検査装置に係り、特にプリント基板
のスルーホール中に生じた欠陥やピンホール等を検知す
るために該プリント基板の下面から照射した高照度の照
明光が遮光したピンホール位置から漏れ出て来る微小光
を検知してスルーホール欠陥、例えばスルーホール内壁
のピンポール等を検知する様にした被検物体の検査装置
に関する。多層プリント配線板のスルーホール欠陥を自
動的に外観検査を行う場合を考えた時プリント基板のス
ルーホールによる鉱金の直径は高密度化のため０．２ｍ
ｍ程度となりプリント基板の厚みに対するスルーホール
直径の比であるアスペクト比は１５近い値になってスル
ーホール内壁に発生する切れかかなや、断線を人間の目
で検査することは難しかった本出願人は先に漏光検知法
を提案し、この問題を解決したが二つの検知手段によっ
てスルーホールの位置検出と欠陥検出を行う必要があり
、二つの検出手段の位置合せの簡単なスルーホール検査
装置が要望されていた。
のスルーホール中に生じた欠陥やピンホール等を検知す
るために該プリント基板の下面から照射した高照度の照
明光が遮光したピンホール位置から漏れ出て来る微小光
を検知してスルーホール欠陥、例えばスルーホール内壁
のピンポール等を検知する様にした被検物体の検査装置
に関する。多層プリント配線板のスルーホール欠陥を自
動的に外観検査を行う場合を考えた時プリント基板のス
ルーホールによる鉱金の直径は高密度化のため０．２ｍ
ｍ程度となりプリント基板の厚みに対するスルーホール
直径の比であるアスペクト比は１５近い値になってスル
ーホール内壁に発生する切れかかなや、断線を人間の目
で検査することは難しかった本出願人は先に漏光検知法
を提案し、この問題を解決したが二つの検知手段によっ
てスルーホールの位置検出と欠陥検出を行う必要があり
、二つの検出手段の位置合せの簡単なスルーホール検査
装置が要望されていた。
〔従来の技術ｊ
本出願人が先に提案した漏光検知法の原理を第５図を用
いて説明する。第５図に於いて１は第１の検出手段、２
は第２の検出手段であり、第１の検出手段ｌはプリント
基板３のスルーホール位置を検出するためのＣＣＤ （
チャージ・カップル・デバイス）の如き光検知素子であ
り、第２の検出手段はプリント基板３ａのスルーホール
位置の下面に遮光マスク４を設けて下方から高照度（略
々３０万ルツクス）の照明光を照射したときにスルーホ
ール透孔に直接光が入射しない様にしておき、欠陥がな
いときは光が漏れず、鉱合された円筒形状のスルーホー
ル６に欠陥７がある場合にプリント基板のスルーホール
周辺からの透過光５ａが欠陥７を通じて漏光する光を検
知するものである。
いて説明する。第５図に於いて１は第１の検出手段、２
は第２の検出手段であり、第１の検出手段ｌはプリント
基板３のスルーホール位置を検出するためのＣＣＤ （
チャージ・カップル・デバイス）の如き光検知素子であ
り、第２の検出手段はプリント基板３ａのスルーホール
位置の下面に遮光マスク４を設けて下方から高照度（略
々３０万ルツクス）の照明光を照射したときにスルーホ
ール透孔に直接光が入射しない様にしておき、欠陥がな
いときは光が漏れず、鉱合された円筒形状のスルーホー
ル６に欠陥７がある場合にプリント基板のスルーホール
周辺からの透過光５ａが欠陥７を通じて漏光する光を検
知するものである。
第１の検出手段ｌの出力は遅延回路８を通じてアンドゲ
ート回路９の１方の入力に加えられ、第２の検出手段２
の出力はアンドゲート回路９の他方の入力に加えられて
いる。この様に位置検出用と欠陥検出用の２種類の検知
手段を用いて両検知手段からの出力を比較し、スルーホ
ールの存在する位置からの漏光であるか否かを弁別する
。
ート回路９の１方の入力に加えられ、第２の検出手段２
の出力はアンドゲート回路９の他方の入力に加えられて
いる。この様に位置検出用と欠陥検出用の２種類の検知
手段を用いて両検知手段からの出力を比較し、スルーホ
ールの存在する位置からの漏光であるか否かを弁別する
。
以上の如き従来構成によってスルーホールの欠陥検出を
行なう場合には、第１及び第２の光検出用の検出手段１
．２を必要とする。更にプリント基板３泣置でスルーホ
ール６の位置検出を行なった後に矢印Ａで示す様に所定
位置に移動して、遮光マスク４を下方から当ててスルー
ホール欠陥７を通じて得られた漏光を検知するために二
つの検知手段の位置合せを正確に行なわなくてはならな
い欠点を有する。
行なう場合には、第１及び第２の光検出用の検出手段１
．２を必要とする。更にプリント基板３泣置でスルーホ
ール６の位置検出を行なった後に矢印Ａで示す様に所定
位置に移動して、遮光マスク４を下方から当ててスルー
ホール欠陥７を通じて得られた漏光を検知するために二
つの検知手段の位置合せを正確に行なわなくてはならな
い欠点を有する。
本発明は以上の欠点に鑑みなされたものであり、その目
的とするところは複数の長方形のセンサ素子を帯状に配
列した１つのセンサ素子アッセンブリの前に光マスクを
配置して二本の検知手段と同一の働きをする光検知手段
を有するスルーホールの欠陥装置を得るにある。本発明
の光検知手段の原理的構成を第１図に示す。第１図で１
０ａ、１０ｂ・・・１０１は短冊型のセンサ素子でこれ
らセンサ素子１０ａ、１０ｂ・・・１０１の長手方向を
並設し帯状となし、センサ素子アッセンブリ１０を形成
する。１１は光ファイバーであり、必要に応じて設けら
れ、上記センサ素子アッセンブリ１０の下面に配してマ
スク１２に穿けた透孔１３ａ・・ １３ｆ、１４ａ〜１
４ｅから与えられた光をセンサ素子に真直ぐ与えるため
のものである。マスク１２はセンサ素子の配列ピッチＰ
と同じで短冊型センサ素子１０ａ、１０ｂ・・・・１０
βの長手方向に所定幅Ｗだけずれた位置に透孔１３ａ、
Ｌ３ｂ−・ １３ｆと１４ａ、１４ｂ・・・１４ｅが穿
たれる。即ち、一方の透孔列１３ａ、１３ｂ・・・１３
ｆと他方の透孔列１４ａ、１４ｂ・・・１４ｅは互いに
千鳥状に配され、ピッチはセンサ素子１０ａ、１０ｂ・
・・１０ｊ２の２倍のピッチとなされている。これらピ
ッチはスルーホールの直径に比べて極めて小さな値に選
択されている。
的とするところは複数の長方形のセンサ素子を帯状に配
列した１つのセンサ素子アッセンブリの前に光マスクを
配置して二本の検知手段と同一の働きをする光検知手段
を有するスルーホールの欠陥装置を得るにある。本発明
の光検知手段の原理的構成を第１図に示す。第１図で１
０ａ、１０ｂ・・・１０１は短冊型のセンサ素子でこれ
らセンサ素子１０ａ、１０ｂ・・・１０１の長手方向を
並設し帯状となし、センサ素子アッセンブリ１０を形成
する。１１は光ファイバーであり、必要に応じて設けら
れ、上記センサ素子アッセンブリ１０の下面に配してマ
スク１２に穿けた透孔１３ａ・・ １３ｆ、１４ａ〜１
４ｅから与えられた光をセンサ素子に真直ぐ与えるため
のものである。マスク１２はセンサ素子の配列ピッチＰ
と同じで短冊型センサ素子１０ａ、１０ｂ・・・・１０
βの長手方向に所定幅Ｗだけずれた位置に透孔１３ａ、
Ｌ３ｂ−・ １３ｆと１４ａ、１４ｂ・・・１４ｅが穿
たれる。即ち、一方の透孔列１３ａ、１３ｂ・・・１３
ｆと他方の透孔列１４ａ、１４ｂ・・・１４ｅは互いに
千鳥状に配され、ピッチはセンサ素子１０ａ、１０ｂ・
・・１０ｊ２の２倍のピッチとなされている。これらピ
ッチはスルーホールの直径に比べて極めて小さな値に選
択されている。
上記構成のセンサ素子アッセンブリ１０と光フアイバー
１１並にマスク１２を一体化して透孔列１３ａ、１３ｂ
・・・１３ｆによってプリント基板のスルーホールの位
置を検知し、透孔列１４ａ、、１４ｂ、１４ｃｍ１４ｅ
によって遮光した漏光を検知することで１つの検知手段
でスルーホール欠陥を検知する様にしたものある。
１１並にマスク１２を一体化して透孔列１３ａ、１３ｂ
・・・１３ｆによってプリント基板のスルーホールの位
置を検知し、透孔列１４ａ、、１４ｂ、１４ｃｍ１４ｅ
によって遮光した漏光を検知することで１つの検知手段
でスルーホール欠陥を検知する様にしたものある。
以下、本発明の１実施例を第２図乃至第４図について詳
記する。
記する。
第２図は本発明の被検物体の欠陥検査装置の光検知手段
と光学系を示す模式図、第３図は本発明の検知手段の短
冊型センサ素子とマスクに穿った透孔との関係を示す平
面図、第４図（ａｔ、 （ｂｌ、 （Ｃ）は第３図で示
す検知手段及びその処理回路部の各部波形図である。
と光学系を示す模式図、第３図は本発明の検知手段の短
冊型センサ素子とマスクに穿った透孔との関係を示す平
面図、第４図（ａｔ、 （ｂｌ、 （Ｃ）は第３図で示
す検知手段及びその処理回路部の各部波形図である。
第２図に於いて、第１図と同一部分には同一符号を付し
て重複説明を省略する。プリント基板が３で示す位置に
あるときスルーホール６の下方から照射した光５はスル
ーホールの円筒状の中心孔を通過してレンズ１８を経て
光検知手段１５のマスク１２に穿った透孔列１３ａＳ
１３ｂ・・・１３ｄ側に入射されて各々の短冊型センサ
素子１０ｂ、１０ｄ、１０ｆ−・−１（ｌから得られた
出力は切り分け回路１６に与えられスルーホール位置検
出がなされる。又、プリント基板が３ａの位置に移動し
たときにはスルーホール位置検出のなされたスルーホー
ルの下面に遮光マスク４を設けて光５を照射する。欠陥
があれば漏光がスルーホール６の中心孔からレンズ１８
を経て放射されて光検知手段 １５のマスク１２に穿っ
た透孔列１４ａ、１４ｂＳ１４ｃ・・ １４ｅ側に入射
されて、各々短冊型センサ素子１０ａ、１０ｃＳ１０ｅ
・・・１０ｋから得られた出力は切り分け回路１６に与
えられてピンホール欠陥検出が行なわれ、正常なものは
漏光が得られない。即ち、光検知手段１５の各々のセン
サ素子には各々異なる信号が入力されるので切り分け回
路１６によってクロック毎に分離して各々二値化回路１
７ａ、１７ｂで二値化したのち、一方は遅延回路８を通
じてアンドゲート回路９の一方の入力に与え、他方の欠
陥信号は二値化回路１７ｂからダイレクトにアンドゲー
ト回路９の他方の入力に与えられて共に“１”の出力が
与えられればスルーホールに欠陥があると判断される。
て重複説明を省略する。プリント基板が３で示す位置に
あるときスルーホール６の下方から照射した光５はスル
ーホールの円筒状の中心孔を通過してレンズ１８を経て
光検知手段１５のマスク１２に穿った透孔列１３ａＳ
１３ｂ・・・１３ｄ側に入射されて各々の短冊型センサ
素子１０ｂ、１０ｄ、１０ｆ−・−１（ｌから得られた
出力は切り分け回路１６に与えられスルーホール位置検
出がなされる。又、プリント基板が３ａの位置に移動し
たときにはスルーホール位置検出のなされたスルーホー
ルの下面に遮光マスク４を設けて光５を照射する。欠陥
があれば漏光がスルーホール６の中心孔からレンズ１８
を経て放射されて光検知手段 １５のマスク１２に穿っ
た透孔列１４ａ、１４ｂＳ１４ｃ・・ １４ｅ側に入射
されて、各々短冊型センサ素子１０ａ、１０ｃＳ１０ｅ
・・・１０ｋから得られた出力は切り分け回路１６に与
えられてピンホール欠陥検出が行なわれ、正常なものは
漏光が得られない。即ち、光検知手段１５の各々のセン
サ素子には各々異なる信号が入力されるので切り分け回
路１６によってクロック毎に分離して各々二値化回路１
７ａ、１７ｂで二値化したのち、一方は遅延回路８を通
じてアンドゲート回路９の一方の入力に与え、他方の欠
陥信号は二値化回路１７ｂからダイレクトにアンドゲー
ト回路９の他方の入力に与えられて共に“１”の出力が
与えられればスルーホールに欠陥があると判断される。
第３図はセンサ素子アッセンブリｌＯ１光ファイバー１
１とマスク１２からなる光検知手段１５の平面図である
が、各々のセンサ素子の横幅Ｗは２５ａ程度でこれら短
冊型センサ素子１０ａ〜１０１を帯状に並設し、マスク
１２は金属等の不透明物質で光ファイバーにパターニン
グし、透孔を形成する透孔列１３ａ〜１３ｄと透孔列１
４ａ〜１４ｅはラインａ及びｂの信号が別々に人力され
ることになる。この構成はパターンのラインａ、ｂが投
影される透孔列１３ａ〜１３ｄと１４ａ〜１４ｅは従来
の様にＣＣＤを二つ並べる場合に比べてマスク等で形成
されるために平行度を極めて正確に出すことが出来る。
１とマスク１２からなる光検知手段１５の平面図である
が、各々のセンサ素子の横幅Ｗは２５ａ程度でこれら短
冊型センサ素子１０ａ〜１０１を帯状に並設し、マスク
１２は金属等の不透明物質で光ファイバーにパターニン
グし、透孔を形成する透孔列１３ａ〜１３ｄと透孔列１
４ａ〜１４ｅはラインａ及びｂの信号が別々に人力され
ることになる。この構成はパターンのラインａ、ｂが投
影される透孔列１３ａ〜１３ｄと１４ａ〜１４ｅは従来
の様にＣＣＤを二つ並べる場合に比べてマスク等で形成
されるために平行度を極めて正確に出すことが出来る。
第４図で光検知手段から得られる信号波形を説明する。
光検知手段１５のセンサ素子の各々からは異なるレベル
の光信号出力が取り出され、これらの波形は例えば模式
的に表せば第４図（ａ）の如きものである。この光出力
（実際にはアナログ信号）を第４図（ｂ）、 （Ｃ１に
示す様に切り分け回路１６で切り分けたのち、２値化回
路１７ａ、１７ｂで二値化している。切り分け回路１６
内のスイッチング手段で出力信号を接片１６ａ側に切り
換えたときに第４図（ｂ）の波形Ｂ＋で示す位置情報が
得られたとすれば、この信号は遅延回路８に一時的にメ
モリされて、次にスイッチ手段が接片１６ｂ側に切り変
ったときの例えば第４図（Ｃ）の波形Ｃ５がアンドゲー
ト回路９に加わったときに上記遅延回路８の波形Ｂ、と
比較され、アンド条件が成りたてばスルーホールに欠陥
があると判断する様になされる。
の光信号出力が取り出され、これらの波形は例えば模式
的に表せば第４図（ａ）の如きものである。この光出力
（実際にはアナログ信号）を第４図（ｂ）、 （Ｃ１に
示す様に切り分け回路１６で切り分けたのち、２値化回
路１７ａ、１７ｂで二値化している。切り分け回路１６
内のスイッチング手段で出力信号を接片１６ａ側に切り
換えたときに第４図（ｂ）の波形Ｂ＋で示す位置情報が
得られたとすれば、この信号は遅延回路８に一時的にメ
モリされて、次にスイッチ手段が接片１６ｂ側に切り変
ったときの例えば第４図（Ｃ）の波形Ｃ５がアンドゲー
ト回路９に加わったときに上記遅延回路８の波形Ｂ、と
比較され、アンド条件が成りたてばスルーホールに欠陥
があると判断する様になされる。
本発明は以上の如く構成され、且つ動作させたので１つ
の光検知手段でプリント基板のスルーホール欠陥を検出
することが可能となるため二つの光検知手段（ＣＯＤ）
を互いに平行に配列するための調整が不必要なだけでな
く１つの光検知手段ですむ特徴を有する。
の光検知手段でプリント基板のスルーホール欠陥を検出
することが可能となるため二つの光検知手段（ＣＯＤ）
を互いに平行に配列するための調整が不必要なだけでな
く１つの光検知手段ですむ特徴を有する。
第１図は本発明の光検知手段の構成を示す分解斜視図、
第２図は本発明の光学系と回路系を示す模式図、第３図
は本発明の光検知手段の平面図、第４図（ａ）、山）、
（Ｃ）は本発明の波形図、第５図は従来の被検物体の
欠陥検査装置の光学系の模式図である。 １・・・第１の検出手段、 ２・・・第２の検出手段、 ３．３ａ・・・プリント基板、 ４・・・遮光マスク、 ５・・・照明光、 ６・・・スルーホール、 ７・・・欠陥、 ８・・・遅延回路、 ９・・・アンドゲート回路、 １０・・・センサ素子アッセンブリ、 １０ａ、１０ｂ・・・１０１・・・センサ素子、１１・
・・光ファイバー、 １２・・・マスク、 １３ａ、１３ｂ％ １３Ｃ，１３ｄ、ｔａｅ。 １３ｆ、１４ａ−，１４ｂ、１４ｃ、１４ａ％１４ｅ・
・・透孔、 １５・・・光検知手段、 １６・・・切り分け回路、 １７ａ、１７ｂ・・・二値化回路、 １Ｂ・・・レンズ。
は本発明の光検知手段の平面図、第４図（ａ）、山）、
（Ｃ）は本発明の波形図、第５図は従来の被検物体の
欠陥検査装置の光学系の模式図である。 １・・・第１の検出手段、 ２・・・第２の検出手段、 ３．３ａ・・・プリント基板、 ４・・・遮光マスク、 ５・・・照明光、 ６・・・スルーホール、 ７・・・欠陥、 ８・・・遅延回路、 ９・・・アンドゲート回路、 １０・・・センサ素子アッセンブリ、 １０ａ、１０ｂ・・・１０１・・・センサ素子、１１・
・・光ファイバー、 １２・・・マスク、 １３ａ、１３ｂ％ １３Ｃ，１３ｄ、ｔａｅ。 １３ｆ、１４ａ−，１４ｂ、１４ｃ、１４ａ％１４ｅ・
・・透孔、 １５・・・光検知手段、 １６・・・切り分け回路、 １７ａ、１７ｂ・・・二値化回路、 １Ｂ・・・レンズ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）プリント基板のスルーホール下面から高照度の光を
照射して、該スルーホール位置を検出するための位置検
知手段と、上記プリント基板のスルーホール下面を遮光
し光を照射して、該スルーホールからの漏光の有無を検
出するための漏光検知手段とを具備するスルーホール欠
陥検査装置に於いて、上記位置検知手段並びに漏光検知
手段は短冊型の複数のセンサ素子を帯状に並設したセン
サ素子アッセンブリ（１０）と、該センサ素子の配列ピ
ッチと同じで短冊型センサ素子の長手方向の異なる位置
に１つのセンサ素子に対応して１つの透孔を千鳥状に設
けた透孔列を有するマスク（１２）とよりなる光検知手
段であることを特徴とするスルーホール欠陥検査装置。 ２）前記センサ素子とマスク間に光ファイバーを配設し
て一体化してなることを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載のスルーホール欠陥検査装置。 ３）前記光検知手段の千鳥状配列された透孔を通じて得
られるスルーホール位置及び漏光出力信号を透孔の位置
に応じて切り分け回路で切り分けた後に二値化回路に加
えて二値化すると共にスルーホール位置信号に対応する
出力信号を遅延回路を通じて遅延させてアンドゲート回
路の一方の入力に加え、該二値化漏光信号出力を直接的
に上記アンドゲート回路の他の入力に加えて欠陥検出を
行うことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のスル
ーホール欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14293486A JPS62299746A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | スル−ホ−ル欠陥検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14293486A JPS62299746A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | スル−ホ−ル欠陥検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62299746A true JPS62299746A (ja) | 1987-12-26 |
Family
ID=15327041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14293486A Pending JPS62299746A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | スル−ホ−ル欠陥検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62299746A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111331006A (zh) * | 2020-04-03 | 2020-06-26 | 苏州荣威工贸有限公司 | 漏孔检测装置 |
-
1986
- 1986-06-20 JP JP14293486A patent/JPS62299746A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111331006A (zh) * | 2020-04-03 | 2020-06-26 | 苏州荣威工贸有限公司 | 漏孔检测装置 |
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