JPS6230072B2 - - Google Patents
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- JPS6230072B2 JPS6230072B2 JP12111780A JP12111780A JPS6230072B2 JP S6230072 B2 JPS6230072 B2 JP S6230072B2 JP 12111780 A JP12111780 A JP 12111780A JP 12111780 A JP12111780 A JP 12111780A JP S6230072 B2 JPS6230072 B2 JP S6230072B2
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- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims 1
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Landscapes
- Arc Welding Control (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、アルゴンガス等の不活性ガスある
いは酸素、炭酸ガス等を不活性ガスに混合したガ
ス中で消耗電極を用いたガスシールドのパルスア
ーク溶接に用いるパルスアーク溶接電源に関する
ものである。
いは酸素、炭酸ガス等を不活性ガスに混合したガ
ス中で消耗電極を用いたガスシールドのパルスア
ーク溶接に用いるパルスアーク溶接電源に関する
ものである。
一般に、パルスアーク溶接は、電極と母材間に
低出力のベース電流を通電し、このベース電流に
重畳させて任意の周期でパルス状の電流を供給し
て溶接するものである。溶接電流がパルス状の電
流であることによる大電流の時にピンチ力によ
り、送給されたワイヤ先端の溶融金属がスプレー
状の小粒子となつて、先端から高速度で離脱する
ため、スパツタの発生が少ないという利点を有し
ている。
低出力のベース電流を通電し、このベース電流に
重畳させて任意の周期でパルス状の電流を供給し
て溶接するものである。溶接電流がパルス状の電
流であることによる大電流の時にピンチ力によ
り、送給されたワイヤ先端の溶融金属がスプレー
状の小粒子となつて、先端から高速度で離脱する
ため、スパツタの発生が少ないという利点を有し
ている。
従来のパルスアーク溶接電源を、第1図に示
す。同図において、1は3相変圧器、2は3相変
圧器1の出力を整流する整流器、3および4は整
流された出力から負荷に流れる電流を限流する限
流抵抗、5はベース電流を切り換える切換器であ
り、3相変圧器1、整流器2、限流抵抗3,4、
切換器5により負荷にベース電流を供給するベー
ス電流供給電源が構成されている。6は単相変圧
器、7はサイリスタ等の制御素子を有する制御整
流器であり、単相変圧器6、制御整流器7により
負荷にパルスを供給するパルス電流供給電源が構
成され、ベース電流供給電源と並列に負荷に電流
を供給している。なお、8は消耗性の電極、9は
母材、10は電極8が母材9に短絡した場合の過
大電流を限流するリアクトルである。
す。同図において、1は3相変圧器、2は3相変
圧器1の出力を整流する整流器、3および4は整
流された出力から負荷に流れる電流を限流する限
流抵抗、5はベース電流を切り換える切換器であ
り、3相変圧器1、整流器2、限流抵抗3,4、
切換器5により負荷にベース電流を供給するベー
ス電流供給電源が構成されている。6は単相変圧
器、7はサイリスタ等の制御素子を有する制御整
流器であり、単相変圧器6、制御整流器7により
負荷にパルスを供給するパルス電流供給電源が構
成され、ベース電流供給電源と並列に負荷に電流
を供給している。なお、8は消耗性の電極、9は
母材、10は電極8が母材9に短絡した場合の過
大電流を限流するリアクトルである。
しかし、第1図に示すパルスアーク溶接電源
は、商用周波数を用いた電源を位相制御してパル
スを構成しているために、制御角によつてパルス
電流のピーク値が大きく変わり、スプレー効果が
変化するので均一の溶接結果が得られない。たと
えば、パルス電流がスプレー溶接の臨界電流値以
下ではパルス幅も狭く溶滴がワイヤ径以上の大塊
となり不規則に移行する。他方パルス電流が臨界
電流以上では溶滴は細粒化するので、比較的安定
なスプレー移行ができるが、さらにパルス電流が
大きくなると、パルス幅も広く母材への入熱が過
多となり、母材が薄板の場合には、とけ落ちなど
が生じる。このため、最適溶接を行うには、パル
ス電流とともにベース電流も可変にする必要があ
つた。また、狭開先の溶接を行う場合には、高い
アーク溶接で行うと、アークが広がりすぎ、母材
に溶融金属の移行が円滑に行われず、かつ、シー
ルドガスによるシールドの状態が悪くなり、溶接
欠陥が生じやすかつた。さらに、パルス電流を供
給するのに単相を用い、ベース電流を供給するの
に3相を用いているために、入力電流に不平衡が
生じ、入力電源に接続された他の機器が誤動作す
るなどの悪影響があつた。
は、商用周波数を用いた電源を位相制御してパル
スを構成しているために、制御角によつてパルス
電流のピーク値が大きく変わり、スプレー効果が
変化するので均一の溶接結果が得られない。たと
えば、パルス電流がスプレー溶接の臨界電流値以
下ではパルス幅も狭く溶滴がワイヤ径以上の大塊
となり不規則に移行する。他方パルス電流が臨界
電流以上では溶滴は細粒化するので、比較的安定
なスプレー移行ができるが、さらにパルス電流が
大きくなると、パルス幅も広く母材への入熱が過
多となり、母材が薄板の場合には、とけ落ちなど
が生じる。このため、最適溶接を行うには、パル
ス電流とともにベース電流も可変にする必要があ
つた。また、狭開先の溶接を行う場合には、高い
アーク溶接で行うと、アークが広がりすぎ、母材
に溶融金属の移行が円滑に行われず、かつ、シー
ルドガスによるシールドの状態が悪くなり、溶接
欠陥が生じやすかつた。さらに、パルス電流を供
給するのに単相を用い、ベース電流を供給するの
に3相を用いているために、入力電流に不平衡が
生じ、入力電源に接続された他の機器が誤動作す
るなどの悪影響があつた。
本発明は、上記した従来技術の欠点を除去した
もので3相の入力電流を平衡化し、スムーズな溶
摘移行と安定な溶接アークによつて高品質の溶接
部が得られる最適な溶接電流を出力するパルスア
ーク溶接電源を提供することを目的とする。
もので3相の入力電流を平衡化し、スムーズな溶
摘移行と安定な溶接アークによつて高品質の溶接
部が得られる最適な溶接電流を出力するパルスア
ーク溶接電源を提供することを目的とする。
第2図は、本発明の一実施例を示す回路図であ
る。第2図において第1図と同一符号は同図の同
一機能のものを示している。11は2次側結線が
星形結線された溶接用変圧器、12は溶接用変圧
器11の出力を全波整流するか制御整流する整流
器、13は整流器12の出力を平滑するコンデン
サ、14は平滑された直流電圧をトランジスタま
たはサイリスタの制御素子によりオンオフ溶接負
荷にパルス電流を供給するチヨツパ、15はチヨ
ツパ14のスイツチング動作期間を制御する制御
装置、16は溶接用変圧器11の2次側結線が星
形結線の中性点に接続されベース電流を供給する
第1の限流器、17は第1の限流器に流れるベー
ス電流の逆流を防止するダイオード、18は整流
器12の出力と負荷との間に設けられ溶接負荷に
重畳電流を供給する第2の限流器である。
る。第2図において第1図と同一符号は同図の同
一機能のものを示している。11は2次側結線が
星形結線された溶接用変圧器、12は溶接用変圧
器11の出力を全波整流するか制御整流する整流
器、13は整流器12の出力を平滑するコンデン
サ、14は平滑された直流電圧をトランジスタま
たはサイリスタの制御素子によりオンオフ溶接負
荷にパルス電流を供給するチヨツパ、15はチヨ
ツパ14のスイツチング動作期間を制御する制御
装置、16は溶接用変圧器11の2次側結線が星
形結線の中性点に接続されベース電流を供給する
第1の限流器、17は第1の限流器に流れるベー
ス電流の逆流を防止するダイオード、18は整流
器12の出力と負荷との間に設けられ溶接負荷に
重畳電流を供給する第2の限流器である。
いま、入力電源が溶接用変圧器11に印加する
と、溶接用変圧器11により所要電圧に変圧し、
その電圧を整流器12により整流し、コンデンサ
13により平滑される。平滑された直流電圧は、
第2の限流器18を介して電極8、母材9間に印
加され、第3図aで示される高い無負荷電圧をも
ち、垂下の大きい重畳電流が流れる。また、整流
器12のダイオードD1,D2,D3により構成され
る3相半波整流回路は第1の限流器16を介して
電極8、母材9間に印加され、第3図のbで示さ
れる低い無負荷電圧をもち、垂下の小さいベース
電流が流れる。そして、制御装置15により、チ
ヨツパ14の導通をパルスアーク溶接に最適な範
囲すなわち第4図の範囲Aの所望の点たとえばパ
ルス幅を0.5msecパルス電流を600Aに設定する。
そして、パルス電流とパルス電流との間はダイオ
ード17、第1の限流器16、電極8、母材9、
整流器12のダイオードの介して3相半波電流の
ベース電流が流れている。このベース電流からチ
ヨツパ14が導通しパルス電流が流れると、ダイ
オード17は逆バイアスされ、ベース電流がしや
断する。ベース電流がしや断するとリアクトル1
0によつてパルス電流の立上りが遅れてパルス電
流がしや断しようとするが第2の限流器18を介
して小電流が負荷に流れるため、アークが持続し
パルス電流が流れて最適なパルスアーク溶接がな
される。
と、溶接用変圧器11により所要電圧に変圧し、
その電圧を整流器12により整流し、コンデンサ
13により平滑される。平滑された直流電圧は、
第2の限流器18を介して電極8、母材9間に印
加され、第3図aで示される高い無負荷電圧をも
ち、垂下の大きい重畳電流が流れる。また、整流
器12のダイオードD1,D2,D3により構成され
る3相半波整流回路は第1の限流器16を介して
電極8、母材9間に印加され、第3図のbで示さ
れる低い無負荷電圧をもち、垂下の小さいベース
電流が流れる。そして、制御装置15により、チ
ヨツパ14の導通をパルスアーク溶接に最適な範
囲すなわち第4図の範囲Aの所望の点たとえばパ
ルス幅を0.5msecパルス電流を600Aに設定する。
そして、パルス電流とパルス電流との間はダイオ
ード17、第1の限流器16、電極8、母材9、
整流器12のダイオードの介して3相半波電流の
ベース電流が流れている。このベース電流からチ
ヨツパ14が導通しパルス電流が流れると、ダイ
オード17は逆バイアスされ、ベース電流がしや
断する。ベース電流がしや断するとリアクトル1
0によつてパルス電流の立上りが遅れてパルス電
流がしや断しようとするが第2の限流器18を介
して小電流が負荷に流れるため、アークが持続し
パルス電流が流れて最適なパルスアーク溶接がな
される。
なお、第4図は、高速度カメラを用いてアーク
現象を撮影し、パルスアークの最適値を見い出し
たものであり、範囲Aは最適範囲であり、範囲B
は、エネルギーが不足し、確実に溶滴が移行しな
い領域で、溶滴がワイヤ径より大きくなることも
あり、範囲Cは、母材への入熱が過多で、母材が
薄板の場合にはとけ落ちが生じる。
現象を撮影し、パルスアークの最適値を見い出し
たものであり、範囲Aは最適範囲であり、範囲B
は、エネルギーが不足し、確実に溶滴が移行しな
い領域で、溶滴がワイヤ径より大きくなることも
あり、範囲Cは、母材への入熱が過多で、母材が
薄板の場合にはとけ落ちが生じる。
なお、前記実施例では、整流器12のダイオー
ドによりベース電流の3相半波電流にしていた
が、ダイオードをサイリスタにし、サイリスタを
全導通させてもよい。また、範囲Aの所望値を変
化させる場合、制御装置15によりチヨツパのパ
ルス幅を変化させるとともに、整流器12の制御
素子を制御し、整流器12の出力を可変し、パル
ス幅に適するパルス電流にすればよい。
ドによりベース電流の3相半波電流にしていた
が、ダイオードをサイリスタにし、サイリスタを
全導通させてもよい。また、範囲Aの所望値を変
化させる場合、制御装置15によりチヨツパのパ
ルス幅を変化させるとともに、整流器12の制御
素子を制御し、整流器12の出力を可変し、パル
ス幅に適するパルス電流にすればよい。
以上のように、この発明のパルスアーク溶接電
源は、パルスアーク溶接に必要なパルス電流とパ
ルス幅を、整流器とチヨツパにより得るととも
に、溶接用変圧器と整流器と第1の限流器により
ベース電流を得て、整流器の出力より負荷に第2
の限流器を設けて重畳電流を得ているため、パル
スアークに最適なパルスが得られ、品質の良い溶
接ができる。また、パルス電流およびベース電流
を共通の電源を得ているので、入力電流に不平衡
が生じることは少なく、他の機器が誤動作するな
どの悪影響を避けることができる。
源は、パルスアーク溶接に必要なパルス電流とパ
ルス幅を、整流器とチヨツパにより得るととも
に、溶接用変圧器と整流器と第1の限流器により
ベース電流を得て、整流器の出力より負荷に第2
の限流器を設けて重畳電流を得ているため、パル
スアークに最適なパルスが得られ、品質の良い溶
接ができる。また、パルス電流およびベース電流
を共通の電源を得ているので、入力電流に不平衡
が生じることは少なく、他の機器が誤動作するな
どの悪影響を避けることができる。
第1図は従来のパルスアーク溶接電源の回路
図、第2図は本発明のパルスアーク溶接電源の一
実施例の回路図、第3図は第2図のベース電流と
重畳電流の出力特性図、第4図は第2図のパルス
アーク溶接電源のパルス幅とパルス電流の特性図
である。 11…溶接用変圧器、12…整流器、14…チ
ヨツパ、15…制御装置、16,18…限流器、
17…ダイオー。
図、第2図は本発明のパルスアーク溶接電源の一
実施例の回路図、第3図は第2図のベース電流と
重畳電流の出力特性図、第4図は第2図のパルス
アーク溶接電源のパルス幅とパルス電流の特性図
である。 11…溶接用変圧器、12…整流器、14…チ
ヨツパ、15…制御装置、16,18…限流器、
17…ダイオー。
Claims (1)
- 1 2次巻線が星形結線された溶接用変圧器と、
この溶接用変圧器の出力を整流する整流器と、こ
の整流器の出力をオンオフし溶接負荷にパルス電
流を供給するチヨツパと、前記溶接用変圧器の中
性点と溶接負荷との間に設けられた第1の電流制
限素子と、前記整流器の出力と溶接負荷との間に
設けられた第2の電流制限素子により構成された
ことを特徴とするパルスアーク溶接機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12111780A JPS5747581A (en) | 1980-09-03 | 1980-09-03 | Pulse arc welding machine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12111780A JPS5747581A (en) | 1980-09-03 | 1980-09-03 | Pulse arc welding machine |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5747581A JPS5747581A (en) | 1982-03-18 |
| JPS6230072B2 true JPS6230072B2 (ja) | 1987-06-30 |
Family
ID=14803299
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12111780A Granted JPS5747581A (en) | 1980-09-03 | 1980-09-03 | Pulse arc welding machine |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5747581A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4892421B2 (ja) * | 2007-06-27 | 2012-03-07 | 株式会社クボタ | クローラ式走行装置 |
-
1980
- 1980-09-03 JP JP12111780A patent/JPS5747581A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5747581A (en) | 1982-03-18 |
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