JPS6230156B2

JPS6230156B2 -

Info

Publication number: JPS6230156B2
Application number: JP57169270A
Authority: JP
Inventors: Teruyoshi Ando; Kyohisa Nagura; Yoshito Nishio
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1982-09-28
Filing date: 1982-09-28
Publication date: 1987-06-30
Also published as: JPS5957977A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、皿等の食器類、タイル、瓦等（以下
陶器という）に釉薬飛散部を回転させて釉薬を霧
束状にして被施釉物である陶器へ飛散させてこれ
の上・下面へ同時に施釉する陶器施釉機に関す
る。

従来、陶器施釉機にはいわゆるどぶづけ式、あ
るいはぶつかけ式等があつたが、これらは釉薬が
被施釉物の一方や凹部等にたまり易いため、むら
になり易く、かつ大量生産に不向きであつた。

そこで、釉薬を噴射ノズルによつて噴射するい
わゆるスプレー式の釉薬飛散装置が種々開発され
ている。

ところが、該スプレー式ではノズルによるの
で、釉薬の飛散量及び範囲が大となり、よつて釉
薬の回収が面倒かつ困難で、釉薬の使用量もいき
おい増え損失も大（約30〜40％）となつて不経済
で、また、空気の混入量が多く、かつノズルのつ
まり等とも相俟つて完全な霧状とならず、釉薬の
濃度が不均一となり、したがつて陶器表面にムラ
を生じさせ易いうえ、上記のように飛散が多いた
め集塵装置に大なるものを要している。

さらに、一つのドーナツツ状円板群から釉薬を
ミスト状に放出して、とりわけ搬送コンベア上を
移送されてくる瓦に施釉しうべくなしたものがあ
るも、上・下面へ一度に均一施釉が不可能である
等大なる設備や大なる動力源を要したり、省力可
能となつていない等種々の不具合を生じている。

そこで、本発明は従来の上記問題点に鑑み、釉
薬飛散部の少なくとも一対を、これの間に被施釉
物を回転可能に配設し、これの上・下両面へ釉薬
を細かい霧束状として飛散でき、よつて、空気の
混入量を少なくできて、被施釉物以外への飛散を
少なくでき、かつその回収も容易とし釉薬の無駄
をなくすことができ、さらに集塵装置等も不用で
装置全体をコンパクトにできて省動力型となしえ
て、また均一な霧束状としえて被施釉物にムラを
を生じさせず、大量生産にも好適な陶器施釉機の
提供を目的としてなされたものである。

本発明は、釉薬を適宜導入可能に形成されてい
ると共に該釉薬を吸出し可能な透孔を軸方向に所
定数列設してなる円筒体と、該円筒体の回りを回
転可能な円板体を所定間隔で多数並列状に配設し
てなる拡散ローラ体とからなり、該拡散ローラ体
を回転させることにより、前記円板体間に形成さ
れる間隙部を介して釉薬を霧束状として任意方向
へ飛散可能とした釉薬飛散部の少なくとも一対を
上・下に離隔してケーシング内に設け、さらに該
釉薬飛散部間に被施釉物を回転可能に配設して該
被施釉物の上・下面を施釉しうべくなした陶器施
釉機である。

以下、上記した本発明の要旨をさらに明確とす
るため、本発明に係る釉薬飛散部と、これを備え
てなる陶器施釉機の一実施例を挙げ、図面を利用
して説明する。

まず、第１図により釉薬飛散部の構造について
説明すると、該釉薬飛散部１は、一端が閉塞され
ると共に、他端の開口部を半球状に膨出させた接
手部１１２となつており、さらに内部に適宜導入
されている釉薬を後記の如く吸出し可能な透孔１
１１を軸方向に所定数列設してなる円筒体１１
と、該円筒体１１の回りを回転可能とすべく遊嵌
状に配設された拡散ローラ体１２とからなる。

該拡散ローラ体１２は、その両端が軸受板１２
１ａ，１２１ｂとなつていて、円筒体１１の上記
閉塞端側の軸受板１２ａは後記モータ２と適宜連
結された主軸２１に固着されて回転可能となつて
おり、接手部１１２側の軸受板１２１ｂは軸受１
１３を介して円筒体１１に回転自在に取り付けら
れている。

また、該軸受板１２１ａ，１２１ｂ間には多数
の円板体１２２が並列状に配設されるべく三組
（この組数に限らない）のボルト１２３及びナツ
ト１２４（適宜座金、ばね座金を介在せしめる）
を、これらに貫通させ固定して一体状となして回
転可能とすると共に、該円板体１２２間それぞれ
に間隙を設けて拡散ゾーンS₂を形成すべくスペー
サ１２５がボルト１２３に外嵌状に介装されてい
る。

さらに、この拡散ゾーンS₂は、円板体１２２の
中心部に前記円筒体１１より大径に貫設してなる
孔部１２１ａで形成される吸入ゾーンS₁と連通し
ており、円筒体１１中の釉薬がまずこの吸入ゾー
ンS₁に吸い出され、ついで拡散ゾーンS₂で該釉薬
を拡散させて霧束状となし、所定方向へ飛散させ
る間隙Ｓを形成する。

なお、前記円筒体１１の接手部１１２は、該円
筒体１１と連結する連結管１３の円錐状嵌合物１
３２と嵌挿されると共に、該嵌合部１３２外周面
に設けられた螺刻部１３１と、これと螺合すべく
その内周面に螺刻部１４１を設けてなる接手ねじ
１４が配設されて接手部Ｏを形成し、接手ねじ１
４の締緩により、円筒体１１の透孔１１１の向き
を調整可能としてある。

さらに、該連結管１３の他端にはエルボ１５が
連結され、該エルボ１５に図示しない任意の釉薬
供給管を接続することにより、円筒体１１へ釉薬
を導入可能となつている。

つぎに、以上のように形成した釉薬飛散部１を
備えた陶器施釉機Ａの構造について第２図、第３
図に従い説明する。

該陶器施釉機Ａは、そのケージングA₁内に三
台の釉薬飛散部１ａ，１ｂ，１ｃが配設されてお
り（その位置を移動自在としてもよい）、該釉薬
飛散部１ａ，１ｂ，１ｃの拡散ローラ体１２を回
転可能とすべくモータ２が三台ケーシングA₁の
外側へそれぞれ備えられ、該モータ２の回転を伝
えるべくモータ２と直結された主軸２１の先端が
それぞれ拡散ローラ体１２の軸受板１２１ａに固
着されている。

なお、該釉薬飛散部１ａ，１ｂ，１ｃは、三角
形の各頂点にあたる位置に配設され、常時は釉薬
飛散部１ａで、後記の如く搬送される陶器Ｐの上
表面を、また、釉薬飛散部１ｂで該陶器Ｐの下表
面を施釉すべく作動し、釉薬飛散部１ｃは、陶器
が複雑な形状を程する場合等に被助的に使用する
ものとなつている。

また、陶器施釉機Ａには、陶器Ｐを搬送するた
めの搬送体３と、該搬送体３の載置台３５を回転
させるための回転付与機構４が設けられている。

搬送体３は、レール３１と、該レート３１上を
適宜移送される台車３２と、該台車３２に垂設さ
れ、かつ、その下端にプーリ３３が、上端に陶器
Ｐを載置する枠状の載置台３５を配設されてなる
支柱３４とからなつており、上記釉薬飛散部１ａ
と１ｂ，１ｃ間を通過可能となつている。

また、回転付与機構４は、プーリ４１，４２と
これらに張設されたベルト体４３とからなり、該
プーリ４１，４２のいずれか一方が図示しないモ
ータで回転駆動されており、ベルト体４３を駆動
させている。なお、前記搬送体３のプーリ３３は
ケーシングA₁内を通過する際このベルト体４３
と摺接するため、この間で、支柱３４及び載置台
３５、ひいては陶器Ｐを回転させるように形成さ
れている。

つぎに、以上のように形成した陶器施釉機Ａの
作用について説明する。

まず、釉薬飛散部１ａ，１ｂ，１ｃの各円筒体
１１の調整をする。すなわち、該釉薬飛散部１
ａ，１ｂ，１ｃからの釉薬の霧束の飛散方向や幅
は、拡散ローラ体１２の回転数、円筒体１１内の
釉薬の供給圧、釉薬の粘度等の諸条件によつて決
まるため、試運転により搬送されてくる陶器全体
に向けて釉薬が飛散するよう円筒体１１の透孔１
１１の向きを調整する。この調整は、接手部Ｏの
接手ねじ１４を緩めることにより容易になし得、
接手ねじ１４を締めれば再び円筒体１１は固定さ
れる。

このようにして、拡散ローラ体１２を回転させ
ると、間隙部Ｓ内が負圧状態となり、円筒体１１
の透孔１１１から吸入ゾーンS₁へ釉薬が吸い出さ
れる。そして、この釉薬はさらにその負圧と遠心
力とにより拡散ゾーンS₂をうず巻状に移送され、
この際該負圧と遠心力の影響で拡散され、均一な
霧束状となつて飛散される。

つぎに、このような霧束が安定形成されるよう
になつたら、搬送体３及び回転付与機構４を駆動
させて陶器Ｐを搬送すれば自ずとこの霧束内を通
過させることができ、両表面が一度に施釉でき
る。

このように、霧束の方向及び幅を自由に調整で
きるので、釉薬を余分な方向へ飛散させることが
なく、集塵装置が不用で、釉薬の回収も容易とな
り（釉薬の損失は従来30〜40％に対し、本案は約
10％）、しかも均一な霧束中を回転しながら通過
するため、ムラなく施釉でき、大量生産にきわめ
て著効である。

なお、上記実施例では、拡散ローラ体に形成す
る間隙部を吸入ゾーンと拡散ゾーンの二構成とす
る場合について説明したが、本発明はこれに限ら
ず、例えば透孔を円板体間それぞれに貫通するな
らば、円板体に孔部を設けて吸入ゾーンを形成さ
せる必要がないことは申すまでもない。

また、円筒体と連結部の接手部構造も上記構造
に限定されるものではなく、透孔の向きを容易に
調整し得る構造であればどのように形成されてい
てもよい。

このように、本発明に係る釉薬飛散部の円筒
体、拡散ローラ体等の各部の具体的構造、形状、
大きさや、これを付設する陶器施釉機の構造や配
設方法等は、本発明の上記した目的と作用及び効
果の達成される範囲内において任意に定められて
よく、これらの変更はなんら本発明の要旨を変更
するものでないとは申すまでもない。

以上詳細に説明したように、本発明は透孔を有
する円筒体の回りに、回転可能な円板体を所定間
隔で多数並列状に配設してなる拡散ローラ体より
なる釉薬飛散部を、少くとも一対上・下に離隔し
てケーシング内に設け、さらにこの間に被施釉物
である陶器を回転可能な構造としたので、該拡散
ローラ体を回転させることにより、前記円板体間
に形成される間隙部に生じる該回転による負圧と
遠心力とで釉薬を霧束状として被施釉物の上面は
上部に配設の釉薬飛散部で、かつ下面は下部に配
設の釉薬飛散部により飛散させて一度に被施釉物
の両面へ施釉が可能となり、よつて、空気の混入
量が少なく、均一な霧束を形成できると共に被施
釉物以外への飛散を少なくできて、その回収を容
易とし、釉薬の無駄をなくすことができ、さらに
はケーシング内で施釉可能であつて集塵装置等も
不用で、装置全体をコンパクトにできて省動力型
とでき、また均一に細かい霧束状として飛散でき
るので被施釉物にムラなく施釉できて大量生産に
好適となる等、従来の問題点がきわせて簡易かつ
効果的に改良されるので、本発明によつてもたら
される実益はすこぶる大きいといわざるを得な
い。

【図面の簡単な説明】

図面は、本発明の陶器施釉機の一実施例を示し
たもので、第１図は釉薬飛散部の一実施例を示す
正面断面図、第２図は該釉薬飛散部を備えた陶器
施釉機を一部切欠いて示す正面図、第３図は第２
図におけるＸ−Ｘ線断面図である。１，１ａ，１ｂ，１ｃ……釉薬飛散部、１１…
…円筒体、１２……拡散ローラ体、１１１……透
孔、１２２……円板体、Ａ……陶器施釉機、Ｓ…
…間隙部。

Claims

【特許請求の範囲】

１釉薬を適宜導入可能に形成されていると共に
該釉薬を吸出し可能な透孔を軸方向に所定数列設
してなる円筒体と、該円筒体の回りを回転可能な
円板体を所定間隔で多数並列状に配設してなる拡
散ローラ体とからなり、該拡散ローラ体を回転さ
せることにより、前記円板体間に形成される間隙
部を介して釉薬を霧束状として任意方向へ飛散可
能とした釉薬飛散部の少なくとも一対を上・下に
離隔してケーシング内に設け、さらに該釉薬飛散
部間に被施釉物を回転可能に配設して該被施釉物
の上・下面を施釉しうべくなしたことを特徴とす
る陶器施釉機。