JPS6230234B2 - - Google Patents
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- JPS6230234B2 JPS6230234B2 JP57175488A JP17548882A JPS6230234B2 JP S6230234 B2 JPS6230234 B2 JP S6230234B2 JP 57175488 A JP57175488 A JP 57175488A JP 17548882 A JP17548882 A JP 17548882A JP S6230234 B2 JPS6230234 B2 JP S6230234B2
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
本発明は剥離性および残留接着率にすぐれたシ
リコーン系の剥離性硬化被膜に関するものであ
る。 従来、熱硬化もしくは紫外線硬化により形成さ
れる剥離性硬化被膜を構成するシリコーンとして
は、剥離性を向上させるためにジメチルシロキシ
単位のようなジアルキルシロキシ単位を含むポリ
シロキサンが使用され、また、硬化性を向上させ
るためにけい素に結合したビニル基もしくはアク
リロキシ基置換アルキル基を有するシロキシ単位
を含むポリシロキサンが使用されている。ジアル
キルシロキシ単位を含むポリシロキサンにおい
て、そのジアルキルシロキシ単位の重合度が大き
くなるほど剥離性が向上し、またビニル基もしく
はアクリロキシ基置換アルキル基を有するシロキ
シ単位を含むポリシロキサンにおいてそのビニル
基もしくはアクリロキシ基置換アルキル基含有量
が多くなるほど硬化性が向上する。しかしなが
ら、上記のように硬化性向上を目的としてビニル
基もしくはアクリロキシ基置換アルキル基含有量
を多くすると、重要な剥離特性が低下するように
なる。これはかかる官能基自体の極性が強いた
め、官能基の含有量の増加と共に剥離性硬化被膜
自体における界面張力が向上するためと考えられ
る。 硬化特性を高く維持し、かつ充分な剥離特性を
得るには、ビニル基やアクリロキシ基置換アルキ
ル基等の官能基を含有していない高分子量のシリ
コーンゴム（ジアルキルオルガノポリシロキサ
ン）を添加すると効果があるが、従来の熱硬化も
しくは紫外線硬化による剥離性硬化被膜において
はシリコーンゴム自体は架橋しないから、経時的
にシリコーンゴムがブリードする欠点があり、例
えばこのような剥離性硬化被膜を有する剥離紙を
粘着剤と接触させると粘着剤にシリコーンゴムが
移るために残留接着率が低下する。 本願発明者らはかかる従来の問題を解決すべく
鋭意研究を重ねた結果、硬化特性を高く維持しか
つ充分な剥離特性を得ることに成功した。すなわ
ち、本発明は (イ) １分子中に、けい素原子に結合した一般式 （式中のR1は水素原子またはメチル基、R2は炭
素数１〜10個の２価の炭化水素基を表わす）で
示される官能基を少なくとも１個有するオルガ
ノポリシロキサン 50〜95重量部 (ロ) 一般式 （式中のＲ、R′はメチル基、エチル基、プロピ
ル基またはトリフルオロプロピル基、ｎは正
数）で示される重合単位鎖からなる分子量
50000〜300000を有する実質的に線状構造のジ
オルガノポリシロキサン 50〜５重量部 からなる混合物で構成され、電子線照射による架
橋構造が導入されてなる剥離性硬化被膜に関する
ものであり、これによれば電子線照射による架橋
反応が(ロ)成分についても生じているので、官能基
をもたない(ロ)成分が経時的にブリードするという
不利な現象は起らず、剥離性能が高く、残留接着
率も高い剥離性硬化被膜であるという利点が与え
られる。また、本発明によれば電子線照射量を加
減することにより架橋反応の度合を容易にコント
ロールできるので、硬化被膜の弾性が調整でき、
剥離性能、残留接着率にすぐれた被膜を形成する
ことができ、さらに重合反応系であるアクリル系
の官能基を用い電子線により硬化するため反応効
率が著しく向上するので、剥離性に対しては悪影
響を与える官能基の量を著しく低下させることが
できること、および極性基を有する増感剤が不要
なことにより、硬化被膜の界面張力の低下が可能
であり、剥離性が向上する。 以下本発明を詳細に説明する。 本発明に使用される(イ)成分としてのオルガノポ
リシロキサンは、その分子中に前記一般式（）
で示される官能基を少なくとも１個有するもので
なければならない。しかして、この官能基は電子
線重合性を示すものであり、これはR1が水素原
子であるアクリルオキシ基あるいはR2がメチル
基であるメタクリルオキシ基がそれぞれ二価炭化
水素基（R2）に結合したものである。この二価炭
化水素基（R2）としては、炭素数１〜10個のもの
例えばメチレン、プロピレン、またはブチレンな
どのアルキレン基、フエニレン基などのアリーレ
ン基、さらには以上の基にハロゲン原子を置換し
たものなどが例示される。 (イ)成分としてのオルガノポリシロキサンは、上
記した官能基を有するものであればその分子構造
に特に制限はないので、線状構造、分枝鎖状構
造、環状構造、あるいは三次元構造（網状構造）
のいずれでもよく、これはまた外観的にオイル
状、ゴム状、樹脂状のいずれであつてもよい。な
お、このオルガノポリシロキサンのけい素原子に
結合する有機基（前記一般式（）で示される官
能基以外のもの）としては、一般に主としてメチ
ル基であるが、これはメチル基以外に各種の有機
基が導入されていてもよく、その主なものとして
は、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル
基などのアルキル基、ビニル基、アリル基などの
アルケニル基、フエニル基、トリル基などのアリ
ール基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル
基、およびこれら一価炭化水素基およびメチル基
の炭素原子に結合する水素原子が部分的にハロゲ
ン原子で置換した基例えばトリクロロエチル基、
パーフルオロビニル基、トリフルオロプロピル
基、パラクロロトリル基、およびクロロメチル基
などのハロゲン置換一価炭化水素基、さらには各
種アルコキシ基が例示される。またこのオルガノ
ポリシロキサンにはけい素原子に直結した水酸基
が導入されていてもよい。またこのオルガノポリ
シロキサンが実質的に線状構造のものである場
合、その分子鎖末端はトリメチルシリル基、トリ
エチルシリル基、トリフエニルシリル基、ジメチ
ルフエニルシリル基などいずれであつてもよい。 つぎに、(ロ)成分としての実質的に線状構造のジ
オルガノポリシロキサンは、前記一般式（）で
示される重合単位鎖からなるものであり、このも
ののけい素原子に結合する有機基Ｒ、R′は前記
したようにメチル基、エチル基、プロピル基、ま
たはトリフルオロプロピル基であるが、一般には
全有機基の少なくとも60モル％はメチル基である
ことが好ましい。分子鎖両末端の構造については
特に制限がなく、例えばヒドロキシジメチルシリ
ル基、ビニルジメチルシリル基、トリメチルシリ
ル基などいずれであつてもよい。なお、このジオ
ルガノポリシロキサンは実質的に線状構造とされ
るが、少ない量であれば分子構造中に分枝構造が
導入されていても差支えなく、あるいはまた前記
した有機基（Ｒ、R′）以外の有機基が若干量結
合していてもよい。 しかして、この(ロ)成分としてのジオルガノポリ
シロキサンは、分子量50000〜300000を有するも
のであることが必要である。分子量が50000未満
であると電子線照射により架橋構造を導入しても
シリコーンゴムがブリードアウトしやすく、分子
量が300000を越えると混合物の粘度の増加が著し
く、塗布が困難である。 (イ)成分と(ロ)成分との使用割合は、所望する硬化
速度被膜の特性に応じ個々にその最適値が決定さ
れるが、(ロ)成分の配合量が少なすぎると充分な剥
離特性が得られず、一方あまりに多すぎると硬化
性に劣るものとなるので、これは(イ)成分の50〜95
重量部に対し、(ロ)成分を50〜５重量部とすること
が必要とされる。 本発明にかかわる剥離性硬化被膜は、上記した
(イ)成分と(ロ)成分との混合物を適当な基体表面にコ
ーテイングし、このコーテイング膜（被膜）に電
子線を照射し架橋反応させることにより製造され
る。(イ)成分と(ロ)成分の混合物を無溶剤でコーテイ
ングするには、ロールコーテイング、グラビアコ
ーテイング等の一般的なコーテイング方法によつ
て行なえるが、粘度1000cps以上の高粘度の場合
には、加熱金属ロールとゴム若しくはプラスチツ
クを被覆したロールを交互に配設し、中間の加熱
金属ロールが揺動するように作られたコーテイン
グヘツドを有する無溶剤ラミネーターコーター
（特開昭57−71662号公報）を用いた塗布方法によ
り行うことができ、この方法によれば該混合物の
粘度が最高20万センチストークス（25℃）まで塗
工可能である。言うまでもなく、1000〜500セン
チストークスの粘度に設定すればロールコータ
ー、グラビアコーター、エアーコーター、等の一
般的方法により塗布可能である。 コーテイングのための基体材料としてはグラシ
ン紙、クレーコート紙、上質紙、ポリエチレンラ
ミネート紙、プラスチツクフイルム、金属箔など
が使用される。剥離性硬化被膜を得るためのコー
テイング量は、おおむね0.5〜５ｇ／m2とすれば
よい。 このようにして塗工した面に電子線を照射して
架橋反応させ、硬化被膜を得るのであるが、この
際雰囲気は窒素ガス等の不活性ガス雰囲気中とす
ることが望ましく、また電子線照射装置としては
低エネルギー電子加速器例えばエネルギーサイエ
ンス インダストリー社製エレクトロカーテン
CB20d50／30あるいはオフトーデコール社製NP
−ESH150などが使用される。これらの装置によ
る電子線照射量は通常0.5〜30Mradであり、この
程度の照射量での目的の架橋反応を十分に進行さ
せることができる。 このようにして得られる本発明の剥離性硬化被
膜は、高分子量のジオルガノポリシロキサンが配
合されているために剥離性にすぐれており、かつ
電子線照射による架橋反応が官能基を持たない(ロ)
成分の分子間にも生じているので、剥離面に接触
した粘着性に硬化被膜の一部が転移して粘着剤の
性能が劣化するようなことがないという特徴を有
するとともに、イ、被膜組成物は熱的に安定であ
り、電子線照射によりはじめて硬化するものであ
るから、コーテイング前のシリコーン塗料は非常
に安定であり、ポツトライフが長い、ロ、電子線
照射による被膜の硬化であるため、熱の影響が少
なく、耐熱性のない基材（例えばPE、OPP等）
を用いることが可能であり、ハ、基材表面をな損
うことなく剥離処理できる等の作用効果が得られ
る。 つぎに具体的実施例をあげる。 実施例 １ ジメチルシロキサン単位95モル％とγ−メタク
リルオキシプロピルメチルシロキサン単位５モル
％とからなり、分子鎖両末端がトリメチルシリル
基で封鎖され、25℃における粘度が約2000センチ
ストークスのメタクリル基含有オルガノポリシロ
キサン100重量部に、分子量10万または20万の分
子鎖末端水酸基封鎖ジメチルポリシロキサン〔(ロ)
成分〕を第１表に示す各量で添加し、均一混合物
とした。 上記混合物をポリエチレンラミネート紙に塗布
厚が0.8〜1.0ｇ／m2になるように塗布し、窒素ガ
ス雰囲気中で低エネルギー電子加速器（エネルギ
ーサイエンス インダストリー社製エレクトロカ
ーテンCB20d50／30）により5Mradの照射量で照
射し硬化被膜を形成させた。 上記のようにして形成させた硬化被膜上にアク
リル系粘着剤溶液を塗布し（東洋インキ社製オリ
バインBPS5127使用）、乾燥後ポリエステルを貼
合せ、サンプルを５cm巾にスリツトし、剥離性能
および残留接着率を調べたところ、第１表に示す
とおりの結果が得られた。ただし剥離性能はJIS
Z1523に準じて行つた。
リコーン系の剥離性硬化被膜に関するものであ
る。 従来、熱硬化もしくは紫外線硬化により形成さ
れる剥離性硬化被膜を構成するシリコーンとして
は、剥離性を向上させるためにジメチルシロキシ
単位のようなジアルキルシロキシ単位を含むポリ
シロキサンが使用され、また、硬化性を向上させ
るためにけい素に結合したビニル基もしくはアク
リロキシ基置換アルキル基を有するシロキシ単位
を含むポリシロキサンが使用されている。ジアル
キルシロキシ単位を含むポリシロキサンにおい
て、そのジアルキルシロキシ単位の重合度が大き
くなるほど剥離性が向上し、またビニル基もしく
はアクリロキシ基置換アルキル基を有するシロキ
シ単位を含むポリシロキサンにおいてそのビニル
基もしくはアクリロキシ基置換アルキル基含有量
が多くなるほど硬化性が向上する。しかしなが
ら、上記のように硬化性向上を目的としてビニル
基もしくはアクリロキシ基置換アルキル基含有量
を多くすると、重要な剥離特性が低下するように
なる。これはかかる官能基自体の極性が強いた
め、官能基の含有量の増加と共に剥離性硬化被膜
自体における界面張力が向上するためと考えられ
る。 硬化特性を高く維持し、かつ充分な剥離特性を
得るには、ビニル基やアクリロキシ基置換アルキ
ル基等の官能基を含有していない高分子量のシリ
コーンゴム（ジアルキルオルガノポリシロキサ
ン）を添加すると効果があるが、従来の熱硬化も
しくは紫外線硬化による剥離性硬化被膜において
はシリコーンゴム自体は架橋しないから、経時的
にシリコーンゴムがブリードする欠点があり、例
えばこのような剥離性硬化被膜を有する剥離紙を
粘着剤と接触させると粘着剤にシリコーンゴムが
移るために残留接着率が低下する。 本願発明者らはかかる従来の問題を解決すべく
鋭意研究を重ねた結果、硬化特性を高く維持しか
つ充分な剥離特性を得ることに成功した。すなわ
ち、本発明は (イ) １分子中に、けい素原子に結合した一般式 （式中のR1は水素原子またはメチル基、R2は炭
素数１〜10個の２価の炭化水素基を表わす）で
示される官能基を少なくとも１個有するオルガ
ノポリシロキサン 50〜95重量部 (ロ) 一般式 （式中のＲ、R′はメチル基、エチル基、プロピ
ル基またはトリフルオロプロピル基、ｎは正
数）で示される重合単位鎖からなる分子量
50000〜300000を有する実質的に線状構造のジ
オルガノポリシロキサン 50〜５重量部 からなる混合物で構成され、電子線照射による架
橋構造が導入されてなる剥離性硬化被膜に関する
ものであり、これによれば電子線照射による架橋
反応が(ロ)成分についても生じているので、官能基
をもたない(ロ)成分が経時的にブリードするという
不利な現象は起らず、剥離性能が高く、残留接着
率も高い剥離性硬化被膜であるという利点が与え
られる。また、本発明によれば電子線照射量を加
減することにより架橋反応の度合を容易にコント
ロールできるので、硬化被膜の弾性が調整でき、
剥離性能、残留接着率にすぐれた被膜を形成する
ことができ、さらに重合反応系であるアクリル系
の官能基を用い電子線により硬化するため反応効
率が著しく向上するので、剥離性に対しては悪影
響を与える官能基の量を著しく低下させることが
できること、および極性基を有する増感剤が不要
なことにより、硬化被膜の界面張力の低下が可能
であり、剥離性が向上する。 以下本発明を詳細に説明する。 本発明に使用される(イ)成分としてのオルガノポ
リシロキサンは、その分子中に前記一般式（）
で示される官能基を少なくとも１個有するもので
なければならない。しかして、この官能基は電子
線重合性を示すものであり、これはR1が水素原
子であるアクリルオキシ基あるいはR2がメチル
基であるメタクリルオキシ基がそれぞれ二価炭化
水素基（R2）に結合したものである。この二価炭
化水素基（R2）としては、炭素数１〜10個のもの
例えばメチレン、プロピレン、またはブチレンな
どのアルキレン基、フエニレン基などのアリーレ
ン基、さらには以上の基にハロゲン原子を置換し
たものなどが例示される。 (イ)成分としてのオルガノポリシロキサンは、上
記した官能基を有するものであればその分子構造
に特に制限はないので、線状構造、分枝鎖状構
造、環状構造、あるいは三次元構造（網状構造）
のいずれでもよく、これはまた外観的にオイル
状、ゴム状、樹脂状のいずれであつてもよい。な
お、このオルガノポリシロキサンのけい素原子に
結合する有機基（前記一般式（）で示される官
能基以外のもの）としては、一般に主としてメチ
ル基であるが、これはメチル基以外に各種の有機
基が導入されていてもよく、その主なものとして
は、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル
基などのアルキル基、ビニル基、アリル基などの
アルケニル基、フエニル基、トリル基などのアリ
ール基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル
基、およびこれら一価炭化水素基およびメチル基
の炭素原子に結合する水素原子が部分的にハロゲ
ン原子で置換した基例えばトリクロロエチル基、
パーフルオロビニル基、トリフルオロプロピル
基、パラクロロトリル基、およびクロロメチル基
などのハロゲン置換一価炭化水素基、さらには各
種アルコキシ基が例示される。またこのオルガノ
ポリシロキサンにはけい素原子に直結した水酸基
が導入されていてもよい。またこのオルガノポリ
シロキサンが実質的に線状構造のものである場
合、その分子鎖末端はトリメチルシリル基、トリ
エチルシリル基、トリフエニルシリル基、ジメチ
ルフエニルシリル基などいずれであつてもよい。 つぎに、(ロ)成分としての実質的に線状構造のジ
オルガノポリシロキサンは、前記一般式（）で
示される重合単位鎖からなるものであり、このも
ののけい素原子に結合する有機基Ｒ、R′は前記
したようにメチル基、エチル基、プロピル基、ま
たはトリフルオロプロピル基であるが、一般には
全有機基の少なくとも60モル％はメチル基である
ことが好ましい。分子鎖両末端の構造については
特に制限がなく、例えばヒドロキシジメチルシリ
ル基、ビニルジメチルシリル基、トリメチルシリ
ル基などいずれであつてもよい。なお、このジオ
ルガノポリシロキサンは実質的に線状構造とされ
るが、少ない量であれば分子構造中に分枝構造が
導入されていても差支えなく、あるいはまた前記
した有機基（Ｒ、R′）以外の有機基が若干量結
合していてもよい。 しかして、この(ロ)成分としてのジオルガノポリ
シロキサンは、分子量50000〜300000を有するも
のであることが必要である。分子量が50000未満
であると電子線照射により架橋構造を導入しても
シリコーンゴムがブリードアウトしやすく、分子
量が300000を越えると混合物の粘度の増加が著し
く、塗布が困難である。 (イ)成分と(ロ)成分との使用割合は、所望する硬化
速度被膜の特性に応じ個々にその最適値が決定さ
れるが、(ロ)成分の配合量が少なすぎると充分な剥
離特性が得られず、一方あまりに多すぎると硬化
性に劣るものとなるので、これは(イ)成分の50〜95
重量部に対し、(ロ)成分を50〜５重量部とすること
が必要とされる。 本発明にかかわる剥離性硬化被膜は、上記した
(イ)成分と(ロ)成分との混合物を適当な基体表面にコ
ーテイングし、このコーテイング膜（被膜）に電
子線を照射し架橋反応させることにより製造され
る。(イ)成分と(ロ)成分の混合物を無溶剤でコーテイ
ングするには、ロールコーテイング、グラビアコ
ーテイング等の一般的なコーテイング方法によつ
て行なえるが、粘度1000cps以上の高粘度の場合
には、加熱金属ロールとゴム若しくはプラスチツ
クを被覆したロールを交互に配設し、中間の加熱
金属ロールが揺動するように作られたコーテイン
グヘツドを有する無溶剤ラミネーターコーター
（特開昭57−71662号公報）を用いた塗布方法によ
り行うことができ、この方法によれば該混合物の
粘度が最高20万センチストークス（25℃）まで塗
工可能である。言うまでもなく、1000〜500セン
チストークスの粘度に設定すればロールコータ
ー、グラビアコーター、エアーコーター、等の一
般的方法により塗布可能である。 コーテイングのための基体材料としてはグラシ
ン紙、クレーコート紙、上質紙、ポリエチレンラ
ミネート紙、プラスチツクフイルム、金属箔など
が使用される。剥離性硬化被膜を得るためのコー
テイング量は、おおむね0.5〜５ｇ／m2とすれば
よい。 このようにして塗工した面に電子線を照射して
架橋反応させ、硬化被膜を得るのであるが、この
際雰囲気は窒素ガス等の不活性ガス雰囲気中とす
ることが望ましく、また電子線照射装置としては
低エネルギー電子加速器例えばエネルギーサイエ
ンス インダストリー社製エレクトロカーテン
CB20d50／30あるいはオフトーデコール社製NP
−ESH150などが使用される。これらの装置によ
る電子線照射量は通常0.5〜30Mradであり、この
程度の照射量での目的の架橋反応を十分に進行さ
せることができる。 このようにして得られる本発明の剥離性硬化被
膜は、高分子量のジオルガノポリシロキサンが配
合されているために剥離性にすぐれており、かつ
電子線照射による架橋反応が官能基を持たない(ロ)
成分の分子間にも生じているので、剥離面に接触
した粘着性に硬化被膜の一部が転移して粘着剤の
性能が劣化するようなことがないという特徴を有
するとともに、イ、被膜組成物は熱的に安定であ
り、電子線照射によりはじめて硬化するものであ
るから、コーテイング前のシリコーン塗料は非常
に安定であり、ポツトライフが長い、ロ、電子線
照射による被膜の硬化であるため、熱の影響が少
なく、耐熱性のない基材（例えばPE、OPP等）
を用いることが可能であり、ハ、基材表面をな損
うことなく剥離処理できる等の作用効果が得られ
る。 つぎに具体的実施例をあげる。 実施例 １ ジメチルシロキサン単位95モル％とγ−メタク
リルオキシプロピルメチルシロキサン単位５モル
％とからなり、分子鎖両末端がトリメチルシリル
基で封鎖され、25℃における粘度が約2000センチ
ストークスのメタクリル基含有オルガノポリシロ
キサン100重量部に、分子量10万または20万の分
子鎖末端水酸基封鎖ジメチルポリシロキサン〔(ロ)
成分〕を第１表に示す各量で添加し、均一混合物
とした。 上記混合物をポリエチレンラミネート紙に塗布
厚が0.8〜1.0ｇ／m2になるように塗布し、窒素ガ
ス雰囲気中で低エネルギー電子加速器（エネルギ
ーサイエンス インダストリー社製エレクトロカ
ーテンCB20d50／30）により5Mradの照射量で照
射し硬化被膜を形成させた。 上記のようにして形成させた硬化被膜上にアク
リル系粘着剤溶液を塗布し（東洋インキ社製オリ
バインBPS5127使用）、乾燥後ポリエステルを貼
合せ、サンプルを５cm巾にスリツトし、剥離性能
および残留接着率を調べたところ、第１表に示す
とおりの結果が得られた。ただし剥離性能はJIS
Z1523に準じて行つた。
【表】
【表】
実施例 ２
ジメチルシロキサン単位98モル％とγ−メタク
リルオキシプロピルシロキサン単位２モル％とか
らなり、分子鎖両端末がトリメチルシリル基で封
鎖され、25℃における粘度が約1000センチストー
クスのメタクリル基含有オルガノポリシロキサン
100重量部に、分子量20万の分子鎖末端水酸基封
鎖ジメチルポリシロキサン〔(ロ)成分〕20重量部を
添加し、均一混合物とした。 前例と同様にして塗工し、照射量を１、５また
は10Mradとして硬化被膜を形成させたところ、
それらの物性は第２表に示すとおりであつた。
リルオキシプロピルシロキサン単位２モル％とか
らなり、分子鎖両端末がトリメチルシリル基で封
鎖され、25℃における粘度が約1000センチストー
クスのメタクリル基含有オルガノポリシロキサン
100重量部に、分子量20万の分子鎖末端水酸基封
鎖ジメチルポリシロキサン〔(ロ)成分〕20重量部を
添加し、均一混合物とした。 前例と同様にして塗工し、照射量を１、５また
は10Mradとして硬化被膜を形成させたところ、
それらの物性は第２表に示すとおりであつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ (イ) １分子中に、けい素原子に結合した一般
式 （式中のR1は水素原子またはメチル基、R2は炭
素数１〜10個の２価の炭化水素基を表わす）で
示される官能基を少なくとも１個有するオルガ
ノポリシロキサン 50〜95重量部 (ロ) 一般式 （式中のＲ、R′はメチル基、エチル基、プロピ
ル基またはトリフルオロプロピル基、ｎは正
数）で示される重合単位鎖からなる分子量
50000〜300000を有する実質的に線状構造のジ
オルガノポリシロキサン 50〜５重量部 からなる混合物で構成され、電子線照射による架
橋構造が導入されてなる剥離性硬化被膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17548882A JPS5964669A (ja) | 1982-10-06 | 1982-10-06 | 剥離性硬化被膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17548882A JPS5964669A (ja) | 1982-10-06 | 1982-10-06 | 剥離性硬化被膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5964669A JPS5964669A (ja) | 1984-04-12 |
| JPS6230234B2 true JPS6230234B2 (ja) | 1987-07-01 |
Family
ID=15996917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17548882A Granted JPS5964669A (ja) | 1982-10-06 | 1982-10-06 | 剥離性硬化被膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5964669A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01115722U (ja) * | 1988-01-28 | 1989-08-03 | ||
| JPH02501093A (ja) * | 1987-04-27 | 1990-04-12 | ジェイ．アール．リチャーズ，インコーポレイテッド | 偏光レンズ及びその製造方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0617435B2 (ja) * | 1987-07-07 | 1994-03-09 | 信越化学工業株式会社 | 紫外線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
| CA2013012A1 (en) * | 1989-04-10 | 1990-10-10 | Michael A. Lutz | Ultraviolet cured gels with controlled modulus and viscosity |
| US5510190A (en) * | 1995-02-27 | 1996-04-23 | Avery Dennison Corporation | Radiation-curable release compositions |
| JP4879635B2 (ja) * | 2006-04-14 | 2012-02-22 | 信越化学工業株式会社 | 電子線照射用ノンハロゲン難燃樹脂組成物 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5311295B2 (ja) * | 1974-05-02 | 1978-04-20 |
-
1982
- 1982-10-06 JP JP17548882A patent/JPS5964669A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02501093A (ja) * | 1987-04-27 | 1990-04-12 | ジェイ．アール．リチャーズ，インコーポレイテッド | 偏光レンズ及びその製造方法 |
| JPH01115722U (ja) * | 1988-01-28 | 1989-08-03 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5964669A (ja) | 1984-04-12 |
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