JPS6230303A - 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents

超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法

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JPS6230303A
JPS6230303A JP7908386A JP7908386A JPS6230303A JP S6230303 A JPS6230303 A JP S6230303A JP 7908386 A JP7908386 A JP 7908386A JP 7908386 A JP7908386 A JP 7908386A JP S6230303 A JPS6230303 A JP S6230303A
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oxides
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Masao Iguchi
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 一方向性珪素鋼板の電気・磁気的特性の改善、なかでも
鉄損の低減に係わる極限的な要請を満たそうとする近年
来の目覚ましい開発努力は、遂次その実を挙げつつある
一方向性珪素鋼板は、よく知られているとおり製品の2
次再結晶粒(110)  [001) 、すなわちゴス
方位に、高度に集積させたもので、主として変圧器その
他の電気機器の鉄心として使用され電気磁気的特性とし
て製品の磁束密度(Boo値で代表される)が高く、鉄
損(W、□15o値で代表される)の低いことが要求さ
れる。
この一方向性珪素鋼板は複雑多岐にわたる工程を経て製
造されるが、今までにおびただしい発明改善が加えられ
、今日では板厚0.30mmの製品の磁気特性がe、o
値1.90T以上、W+7/So値1.0511i/k
g以下、または板厚0.23mmの製品の磁気特性がB
Io値1.89T以上、W177so値0.901tl
/kg以下の超低鉄損一方向性珪累鋼板が製造されるよ
うになって来ている。
特に最近では省エネの見地から電力損失の低減を特徴と
する請求が著しく強まり、欧米では損失の少ない変圧器
を作る場合に鉄損の減少分を金額に換算して変圧器価格
に上積みする「ロス・エバリユエーション」 (鉄損評
価)制度が普及している。
(従来の技術) このような状況下において最近、一方向性珪素鋼板の仕
上焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直角方向でのレー
ザー照射により局部微少ひずみを導入して磁区を細分化
し、もって鉄損を低下させることが提案された(特公昭
57−2252号、特公昭57−53419号、特公昭
51−26405号及び特公昭58−26406号公報
参照)。
この磁区細分化技術はひずみ取り焼鈍を施さない、積鉄
心向はトランス材料として効果的であるが、ひずみ取り
焼鈍を施す、主として巻鉄心トランス材料にあっては、
レーザー照射によって折角に導入された局部微少ひずみ
が焼鈍処理により開放されて磁区幅が広くなるため、レ
ーザー照射効果がなくなるので使途に制約がある。
一方これより先に特公昭52−24499号公報におい
ては、一方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板表面を鏡
面上げするか又はその鏡面仕上げ面上に金属メッキやさ
らにその上に絶縁被膜を塗布焼付けすることによる、超
低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法が提案さている。
しかしながらこの鏡面仕上げによる鉄損向上手法は、工
程的に採用するには、著しいコストアップになる割に鉄
損低減への寄与が充分でない上、とくに鏡面仕上後に不
可欠な絶縁被膜を塗布焼付し、さらに600℃以上の高
温で長時間の歪み取り焼鈍を施した後の鋼板との密着性
に問題があるため、現在の製造工程において採用される
に至ってはいない。また特公昭56−4150号公報に
おいても鋼板表面を鏡面仕上げした後、酸化物系セラミ
ックス薄膜を蒸着する方法が提案されている。しかしな
がらこの方法も600℃以上の高温焼鈍を施すと鋼板と
セラミックス層とが剥離するため、実際の製造工程では
採用できない。
(発明が解決しようとする問題点) 鏡面仕上げによるコスト増の不利を補ってあまりある鉄
損の低減を成就することがこの発明の目的である。
(問題点を解決たるための手段) 上掲の目的は、次の各発明により有利に達成される。
方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍板表面上の非金属物質を除
去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面に、CVD 、
イオンプレーティングもくしはイオンインプランテーシ
ョンにより、’l”+、 Zr、  Hf、  V、 
 Nb。
Ta、 Cr、 Mo、 III、 Mn、 Co、 
Ni、 A e、 B、 Si の窒化物及び/又は炭
化物並びにAl、 Ti、 3口、 Fe。
Zr、 Ta、 Ce、 Ni、 Cu、 W、 Si
および2nの酸化物のうちから選″ばれる少なくとも1
種から成り、それらの地鉄との混合相を介し仕上表面上
に強固に被着した極薄張力被膜を形成した後、該被膜表
面上に局部加工を区画形成することを特徴とする超低鉄
損一方向性珪素鋼板の製造方法。(第1発明)方向性珪
素鋼板の仕上焼鈍板表面上の非金属物質を除去後研磨処
理して平滑とした仕上げ表面に、CVD 、イオンプレ
ーティングもしくはイオンインプランテーションにより
、Ti、 Zr、  Hf、  V、  Nb、 Ta
Cr、 Mo、 W、 Mn、 Co、  Ni、 A
 I、 B、 Siの窒化物及び/又は炭化物並びにA
l、 Ti、 Sn、 Fe、 Zr。
Ta、 Ce、 Ni、 Cu、 W、 Siおよび2
nの酸化物のうちから選ばれる少なくとも1種から成り
、それらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に被
着した極薄張力被膜を形成した後、該被膜表面上に局部
加工を区画形成し、ついで絶縁被膜を被成することを特
徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。(第2
発明) 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属物質を除
去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面に、CVD 、
イオンプレーティングもしくはイオンインプランテーシ
ョンにより、Ti、  Zr、  I(f、  V。
Nb、 Ta、  Cr、  Mo、  W、 Mn、
 Co、  Ni、 Al、B、  Siの窒化物及び
/又は炭化物並びにAl、 Ti、 Sn。
Fe、 Zr、 Ta、 Ce、 Ni、 Cu、 I
ll、 SiおよびZnの酸化物のうちから選ばれる少
なくとも1種から成り、それらの地鉄との混合相を介し
仕上表面上に強固に被着した極薄張力被膜を形成し、つ
いでこの被膜上に絶縁被膜を被成した後、これら被膜に
局部加工を区画形成することを特徴とする超低鉄損一方
向性珪素鋼板の製造方法。(第3発明)仕上焼鈍済みの
方向性珪素鋼板表面上の非金、1物質を除去後研磨処理
して平滑とした仕上げ表面に、CVD 、イオンプレー
ティングもしくはイオンインプランテーションにより、
Ti、  Zr、  Hf、  V、  Nb。
Ta、 Cr、 Mo、 W、 Mn、 Co、  N
i、 A E、 B、 Si の窒化物及び/又は炭化
物並びにAl、 Ti、 Sn、 Fe。
Zr、 Ta、 Ce、 Ni、 Cu、 W、 Si
およびZnの酸化物のうちから選ばれる少なくとも1種
から成り、それらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に
強固に被着した極薄゛張力被膜を形成し、ついでこの被
膜上に絶、縁抜膜を被成した後、これら被膜に局部加工
を区画形成させ、さらに絶縁被膜を被成することを特徴
とする超低鉄損二方向性珪素鋼板の製造方法。(第4発
明) 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属物質を除
去後研摩処理して平滑とした仕上げ表面に、CVD 、
イオンプレーティングもしくはイオンインプランテーン
ヨンにより、Ti、  lr、  Hf、  V、  
Nb。
Ta、 Cr、 Mo、 W、 )、ln、 Co、 
 Ni、 A E、 B、 Si の窒化物及び/又は
炭化物並びにAl、 Ti、 Sn、 Fe。
Zr、 Ta、 Ce、 Ni、 Cu、 W、 Si
および2nの酸化物のうちから選ばれる少なくとも1種
から成り、それらの地鉄との混合相を介し仕上表面上に
強固に被着した極薄張力被膜を形成した後、又はこの被
膜上に絶縁被膜を被成した後これらの被膜に、局部加工
を区画形成して該鋼板地鉄表面の一部を露出せしめ、次
いで該地鉄との熱膨張係数の差が大きな金属、半金属お
よびこれらを含む無機化合物をと記地鉄露出部に充填し
たのち焼鈍を施すか、或いは歪加工後歪取り焼鈍を施す
ことを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法
。(第5発明) これら発明の成功が導かれた具体的な実験に従って説明
を進める。
C:0.046重量%(以下単に%で示す)、Sl:3
.38%、 Mn:0.068%、 Se: 0.02
2%、 Sb: 0.026%及びMo:0.028%
を含有する珪素鋼連鋳スラブを1350℃で4時間加熱
後熱間圧延して2. O,mm厚さの熱延板とした。
その後900℃で3分間の均−化焼鈍後、950℃で3
分間の中間焼鈍をはさむ2回の冷間圧延を施して0.2
3mm厚の最終冷延板とした。
その後820℃の湿水素雰囲気中で脱炭・−次回結晶焼
鈍を施した後、鋼板表面に不活性Af!203(75%
)とMgO(25%)から成る焼鈍分離剤を塗布し、つ
いで850℃で50時間の2次再結晶焼鈍と、1200
℃で5時間乾水素中で純化焼鈍とを施した。
かくして得られた仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板コイル
を4区分し、それぞれについて、その後軽く酸洗(10
%のH1液中)した後、3%HFと820□の液中で化
学研摩し鋼板表面平均粗さ0.03μmの鏡面状態に仕
上げた。
その後上記のように区分した4群の試料をそれぞれ次の
条件で処理した。
(a)  鏡面鋼板の上にイオンプレーティングにより
TiNを0.5 μm厚で被成した。
(b)  鏡面鋼板の上にイオンプレーティングにより
TiNを0.5μm厚で被成した後圧延方向と直角の方
向に3mm幅にレーザー照射(レーザー照射条件はYA
G  レーザーを使用しスポット当りのエネルギー4.
OXl0−3J 、スポット直径0.2mm。
スポットの中心間間隔0.5mm 、レーザー走査展間
1I19iβ−3mmで照射)した。
(C)  鏡面鋼板の上にイオンプレーティングにより
TINを0.5 μm厚で被成した後圧延方向と直角の
方向に3mm幅にレーザー照射後、500℃で1分間の
低温焼付絶縁コーティング処理した。
(d)  鏡面研磨のまま(比較材)とした。
各試料の磁気特性値を表1にまとめて示す。
表   1 表1から明らかなように、この発明による(b)および
(C)の各条件の磁気特性は、B、0値が1.92T。
W + 7/S O値は0.65〜0.63W/kgと
超低鉄損を示すことが注目される。
このように一方向性珪素鋼板を鏡面仕上し、その」二に
TiW、の極薄張力コーテング処理後、レーザー照射に
よりさらに微少歪みを導入するときわめて低鉄損を有す
る製品を得ることができる。
表1中の(b)、(C)の各条件はひずみ取り焼鈍を施
さない、 鉄心向はトランス材料として効果的であるが
、ひずみ取り焼鈍を施す、主として巻鉄心トランス材料
にはレーザー照射効果がなくなるので使途に制約がある
そのため本発明者らはさらにひずみ取り焼鈍を施しても
磁気特性が劣化しない方法を開発した。
以下これについて具体的実験に従って説明する。
C: 0.052%、 Si: 3.36%、 Mn+
 0.072%、酸可溶1:0.025%、  S: 
0.025%、  N: 0.0072%を含有する珪
素鋼連鋳スラブを1420℃で3時間加熱後熱間圧延し
て2.0mm厚の熱延板とした。
その後980℃の中間焼鈍をはさんで2回の冷間圧延を
施して0.23mm厚の最終冷延板とした後、840℃
の湿水素中で脱炭を兼ねる1次再結晶焼鈍を施した。そ
の後鋼板表面に不活性Aβ203 (70%)とMgO
(27%)とZr0(3%)から成る焼鈍分離剤を塗布
した後、850℃から10℃/hrで1050℃まで昇
温しで2次再結晶させた後、1200℃で10時間乾H
2中で純化焼鈍を施した。
かくして得られた仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板コイル
を4区分しそれぞれについて酸洗後電解研磨により鋼板
表面平均粗さ0.06μmの鏡面状態に仕上げた。
その後上記のように区分した4群の試料をそれぞれ次の
条件で処理した。
(a)  鏡面鋼板の上にイオンプレーティングにより
ZrNを1.5μm厚の薄膜として形成したのち800
℃で3時間の歪み取り焼鈍を行った。
b)鏡面鋼板の上にイオンプレーティングにより2rN
を1.5μm厚の薄膜で形成した後圧延方向と直角方向
に3mm幅にレーザー照射(レーザー照射条件はYAG
 レーザーを使用しスポット当りのエネルギー3.5 
Xl0−3J、スポット直径0.15mmスポットの中
心間間隔0.5mm、レーザー走査痕間隔1!−8mm
で照射)した後、SnCj! 2 (80℃、0.01
mol/Il)中に浸漬して局部加工による鋼板地鉄露
出部にSnを充填した後リン酸塩とコロイダルシリカを
主成分とする絶縁被膜焼付処理したのち800℃で3時
間の歪み取り焼鈍を行った。
(C)  鏡面鋼板の上にイオンプレーティングにより
ZrNを1.5μ厚にて薄膜を形成した後リン酸塩とコ
ロイダルシリカを主成分とする絶縁被膜の焼付処理後圧
延方向と直角方向に3mm幅にレーザー照射(レーザー
照射条件はYAG レーザーを使用しスポット当りエネ
ルギー4.OXl0−3J。
スポット直径0.20mm、  スポットの中心間間隔
0.5mm、レーザー走査痕間隔j2 =8mmで照射
)した後酸洗処理してレーザー処理の局部加工位置の鋼
板地鉄の一部を除去した。その後SbCβ3(0,旧m
ol/β、80℃)中に浸漬して局部加工除去部にsb
を充填した後再びリン酸塩とコロイダルシリカを主成分
とす絶縁被膜焼付処理したのち800℃で3時間の歪み
取り焼鈍を行なった。
(d)  鏡面研磨のまま800℃で3時間の歪み取り
焼鈍を行い比較材とした。
各試料の磁気特性値を表2にまとめて示す。
表2から明らかなように、この発明による(b)および
(C)の各条件の磁気特性はBoo値が1.94T。
W17150値は0.66〜0.65W/kgと超低鉄
損を示すことが注目される。
このように一方向性珪素鋼板を鏡面仕上し、その上にZ
rNの薄膜コーティング処理あるいはその後絶縁被膜を
付与した鋼板表面の地鉄の一部を除去し、そこに該地鉄
との熱膨張係数の差の大きな金属、半金属および化合物
を上記局部加工除去部に充填したのち焼鈍を施すか、或
いは歪加工後の歪取り焼鈍を施すことによって超低鉄損
一方向性珪素鋼板の製造が可能となる。この発明の1部
の構成は特開昭60−255926号公報にて開示され
ているが通常のフォルステライト被膜上に局部加工を区
画形成した場合と比較すると本発明によって発揮される
鉄損低域効果はきわめて大きい。
表   2 (作  用) 上にのべたように鏡面仕上げした鋼板界面に、極薄の張
力被膜を形成させて地鉄との熱膨張の差によって起る強
い弾性張力を利用し、さらに鋼板表面に局部加工を区画
形成して該鋼板地鉄表面の一部を露出せしめた後、この
局部加工部に金属、半金属類等を充填させて鋼板表面上
に異張力の働く領域を形成することによって超低鉄損を
実現することができる。
以上の実験結果は、TiN又はZrNよりなる張力被膜
について述べたが張力被膜はこのほかにもHf。
V、 Nb、 Ta、 Cr、 Mo、 Co、 Ni
、 Mn、 Al、 B、 Siの窒化物やTi、 Z
rも含めて上記した元素の炭化物並びにAl、  Ti
、  Sn、  Fe、  Zr、  Ta、  Ce
、  Ni、  Cu、  W。
SiおよびZnの酸化物のうちから選ばれる少なくとも
1種よりなる場合にあっても、TiW、 ZrNについ
てのべたところとほぼ同様な作用効果をあられし、何れ
も所期した目的に適合する。
次にこの発明による、一方向性珪素鋼板の製造工程につ
いて説明する。
出発素材は従来公知の一方向性珪素鋼素材成分、例えば ■ C: 0.01〜0.050%、 Si: 2.5
0〜4.5%、 Mn:0.01〜0.2%、 Mo:
 0.003〜0.1%、 sb: 0.005〜0.
2%、′SあるいはSeの1種あるいは2種合計で、0
.005〜0.05%を含有する組成■ C:0.O1
〜0.06%、 Si: 2.0〜4.0%、S:0.
005〜0.05%、 N: 0.001〜0.01%
、 Sn: 0.01〜0.5  %、   Cu:Q
、Ql  〜Q、3  %、   Mn:  0.10
1 〜0.2  %を含有する組成 ■ C: 0.01〜0.06%、 Si: 2.0〜
4.0%、S:0、005〜0.05%、 B:0.0
003〜0.0040%、 N :O,OO1〜0.0
1%、 Mn:0.01〜0.2%を含有する組成の如
きにおいて適用可能である。
次に熱延板は800〜1100℃の均一化焼鈍を経て1
回の冷間圧延で最終板厚とする1回冷延法か又は、通常
850℃から1050℃の中間焼鈍をはさんでさらに冷
延する2回冷延法にて、後者の場合最初の圧下率は50
%から80%程度、最終の圧下率は50%から85%程
度でo、 15mmから0.35mmの最終冷延板圧と
する。
最終冷延を終わり製品板圧に仕上げた鋼板は、表面脱脂
後750℃から850℃の湿水素中で脱炭・1次回化粧
焼鈍処理を施す。
その後は通常鋼板表面にMgOを主成分とする焼鈍分離
材を塗布する。
この際、一般的には仕上げ焼鈍後の形成を不可決として
いたフォルステライトを特に形成させない方が、その後
の鋼板の鏡面化処理を簡便にするのに有効であるので、
焼鈍分離剤としてAl2O2や2rO7,TiO□の如
きを50%以上でMgOに混入した焼鈍分離剤を使用す
のが好ましい。
その後2次再結晶焼鈍を行うが、この工程は(11(1
) <001>  方位の2次再結晶粒を充分発達させ
るために施されるもので、通常箱焼鈍によって直ちに1
000℃以上に昇温し、その温度に保持することによっ
て行われる。
この場合(110) <001>方位に、高度に揃った
2次再結晶粒組織を発達させるためには820℃から9
00℃の低温で保定焼鈍する方が有利であり、そのほか
例えば0.5〜b 鈍でもよい。
2次再結晶焼鈍後の純化焼鈍は吃水素中で1100℃以
上で1〜20時間焼鈍を行って鋼板の純化を達成するこ
と力(必要である。
この純化焼鈍後に鋼板表面の酸化物被膜を硫酸、硝酸ま
たは弗酸などの強酸によるような酸洗か又は機械的研削
、切削等により除去する。
次に化学研暦および/または電解研磨など従来から既知
の手法により鋼板表面を鏡面状態つまり中心線平均粗さ
0.4μm以下に仕上げる。
その後CVD 、イオンプレーテングもしくはイオンイ
ンプランテーションによりTi、 Zr、 Hf、 V
Zr、  Nb、 Ta、 Cr、 Mo、 W、 1
.ln、  Co、  Ni、 Afl、  B、Si
の窒化物及び/または炭化物、Al、 Ti、 Sn、
 Fe。
Zr、 Ta、 Ce、 Ni、 [:u、 W、 S
iおよびZnの酸化物のうちから選んだ少なくとも1主
から成る0、 005〜5μm程度の強力被膜を形成さ
せる。
その後この張力被膜またはこの張力被膜上にリン酸系の
絶縁被膜を形成させた後の鋼板表面上に局部加工を区画
形成する。この局部加工導入方法はレーザー照射(例え
ば特公昭57−2252号、特公昭57−53419号
、特公昭58−26405号及び特公昭58−2640
6号各公報参照放電加工(特開昭57−18810号号
公報)、ケガキあるいはボールペン状の小球(特公昭5
8−5968号公報)等の手段により圧延方向とほぼ直
角な方向に3〜15mm程度の間隔で0.01〜2mm
幅で導入するのが好ましい)。その後この鋼板表面上に
局部加工効果を生かすために600℃以下の低温で1秒
から30分間の短時間の焼付処理を施す。また高温の歪
み取り焼鈍を施す場合には局部加工後鋼板被膜を塩酸、
硝酸などの酸で地鉄に至るまで溶解したのち、そこに該
地鉄と熱膨張係数の差が大きい金属、半金属あるいはこ
れらを含む無機化合物を上記局部加工除去部に充填させ
たあと700℃以上の温度で焼鈍を行う。この局部加工
部の歪応力が大きいと特開昭56−130454号公報
において開示されているように後の焼鈍工程において微
細再結晶粒が生じ、磁区の細分化効果とともに鉄損低減
に効果的に働く。
このような処理をした後場合によってはリン酸塩とコロ
イダルシリカを主成分とする絶縁被膜を焼付処理し、7
00℃以上の温度で数時間の歪み取り焼鈍を施して製品
とする。
(実施例) 実施例 I C: 0.043%、 Si: 3.42%、 Mn:
 0.068%2MO二0.025%、 Se: 0.
022%、 sb: 0.025%を含有する熱延板を
、900℃で3分間の均一化焼鈍後、950℃の中間焼
鈍をはさんで2回の冷延圧延を行って0.23闘厚の最
終冷延板とした。
その後820℃の湿水素中で脱炭焼鈍機鋼板表面にAl
2O2(75%〉 と!−1g0(25%)とを主成分
とする焼鈍分離剤を塗布した後850℃で50時間の2
次再結晶焼鈍し、1200℃で8時間乾水素中で純化焼
鈍を行った。
その後酸洗により酸化被膜を除去後、3%HFと820
□液中で化学研磨して鏡面仕上げした。
その後10KVのイオン化電圧で3分間イオンプレーテ
ィングし膜厚0.5 μmのTiN張力絶縁被膜を形成
させた。
その後この極薄被膜上に圧延方向にほぼ直角方向に5m
m間隔でレーザー照射を行った。このときの照射条件は
パルスレーザ−を使用しスポット当りのエネルギーは5
 Xl0−3J 、スポット直径は0.2mm 、レー
ザースポットの中心間隔はQ、 5non間隔で行った
このときの製品の磁気特性はB、o=1.92T、 W
IT/S。
=0.66W/kgであった。
実施例 2 C: 0.058%、 Si: 3.33%、 Mn:
 0,080%、l:0、025%、 S: 0.03
0%、 N: 0.0068%を含有する熱延板を、1
150℃で3分間の均−化焼鈍後急冷処理を行い、その
後300℃の温間圧延を施して0、20mm厚の最終冷
延板とした。
その後850℃湿水素中で脱炭焼鈍後、表面にA jl
!203 (80%)とMgO(20%)を主成分とす
る焼鈍分離剤を塗布した後850℃から1150℃まで
8℃/hrで昇温しで2次再結晶させた後、1200℃
で8時間乾水素中で純化焼鈍を行った。
その後酸洗により酸化被膜を除去後、3%HFと820
2液中で化学研暦して鏡面仕上げした後、CVD法によ
り900℃で0.7μmのTiN極薄被膜を形成させた
。そ゛の後パルスレーザ−により次の条件で照射した。
(エネルギーは5 Xl0−3J 、スポ、Zト直径0
.15mm 、スポットの中心間隔1mmで行った)そ
の後500℃の低温の絶縁コーテングを行った。
この製品の磁気特性は次のようであった。
Lo= 1.94T 、  Lt/5o=0.65 W
/kg実施例 3 C: 0.049%、 Si: 3.36%、 Mn:
 0.078%。
1:0.026%、 S: 0.0025%、 Cu:
0.1%、 Sn:0.12%を含有する熱延板を11
30℃で3分間の均−化焼鈍後急冷処理を行い、その後
300℃の温間圧延を施して0.20mm厚の最終冷延
板とした。
その後850℃湿水素中で脱炭焼鈍後、表面にA I 
203 (80%)とMg0(15%)とZrO□5%
)を主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後850℃から
1150℃まで10℃/hrで昇温しで2次再結晶させ
た後、1200℃で8時間乾水素中で純化焼鈍を行った
その後酸洗により酸化被膜を除去後、3%HFと■20
2液中で化学研磨して鏡面仕上げした後、CVD  法
によりBW、 Si、W、、 ZrW、 AlW、 T
ic、 SiC,ZrC。
ZnO,5i02. Al2O2の張力薄被膜(0,4
〜1.7μm厚)を形成させた。その後パルスレーザ−
により次の条件で照射した。(エネルギーは3 Xl0
−3J 。
スポット直径Q、2mm、スポットの中心間隔1.5m
mで行った) その後一部の試料はレーザー照射後の鋼板表面を塩酸で
酸洗処理を行った後SbCj23(0,O1mol/ 
R。
80℃)に浸漬処理後リン酸塩とコロイダルシリカを主
成分とする絶縁被膜を焼付処理後800℃で3時間の歪
み取り焼鈍を行った。この製品の磁気特性を表3にまと
めて示す。
実施例 4 C: 0.049%、 Si:3.39%、 Mn: 
0,072%、S:0、020%、 Sol Af:0
.025%、 N:0.0068%を含有する珪素鋼熱
延板を1100℃で2分間の均−化焼鈍後、950℃の
中間焼鈍をはさんで2回の冷間圧延を施して0.23m
m厚の最終冷延板とした。その後820℃で3分間の脱
炭・1次再結晶焼鈍を施した後、Ax2o、(60重量
%) 、Mg0(25重量%) 、ZrO□(10重量
%)、Tin□(5重量%)を主成分とする焼鈍分離剤
をスラリー状に塗布した。
その後850℃から10℃/hrで1050℃まで昇温
しで2次再結晶させた後さらにその後1200℃で6時
間乾水素中で純化焼鈍を行った後、酸洗により表面の酸
化物を除去し、電解研摩により鋼板表面を鏡面状態にし
た。その後CVD(表4中無印)イオンプレーティング
(表4中の○印)およびイオンインプランテーション(
表4中の△印)により種々の薄膜(約1.0〜2.0μ
m厚)を形成させた後、パルスレーザ−により次の条件
で照射した。(エネルギーは4 Xl0−3J、スポッ
ト直径0.15mm、  スポットの中心間隔l、 5
mmで行った)その後試料は鋼板表面を酸洗処理後Sn
C1,2(0,1mol/β、80℃)で浸漬処理した
後リン酸塩とコロイグルシリ力を主成分とする絶縁被膜
を焼付処理後800℃で3時間の歪み取り焼鈍を行った
。この製品の磁気特性を表4にまとめて示す。
発明の効果 第1〜第5各発明とも著しい鉄損の低減が成就される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属物質
    を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面に、CVD
    、イオンプレーティングもしくはイオンインプランテー
    ションにより、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、C
    r、Mo、W、Mn、Co、Ni、Al、B、Siの窒
    化物及び/又は炭化物並びにAl、Ti、Sn、Fe、
    Zr、Ta、Ce、Ni、Cu、W、SiおよびZnの
    酸化物 のうちから選ばれる少なくとも1種から成り、それらの
    地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に被着した極薄
    張力被膜を形成した後、該被膜表面上に局部加工を区画
    形成する ことを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法
    。 2、仕上2、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非
    金属物質を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面に
    、CVD、イオンプレーティングもしくはイオンインプ
    ランテーションにより、Ti、Zr、Hf、V、Nb、
    Ta、Cr、Mo、W、Mn、Co、Ni、Al、B、
    Siの窒化物及び/又は炭化物並びにAl、Ti、Sn
    、Fe、Zr、Ta、Ce、Ni、Cu、W、Siおよ
    びZnの酸化物 のうちから選ばれる少なくとも1種から成り、それらの
    地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に被着した極薄
    張力被膜を形成した後、該被膜表面上に局部加工を区画
    形成し、ついで絶縁被膜を被成する ことを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法
    。 3、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属物質
    を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面に、CVD
    、イオンプレーティングもしくはイオンインプランテー
    ションにより、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、C
    r、Mo、W、Mn、Co、Ni、Al、B、Siの窒
    化物及び/又は炭化物並びにAl、Ti、Sn、Fe、
    Zr、Ta、Ce、Ni、Cu、W、SiおよびZnの
    酸化物 のうちから選ばれる少なくとも1種から成り、それらの
    地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に被着した極薄
    張力被膜を形成し、ついでこの被膜上に絶縁被膜を被成
    した後、これら被膜に局部加工を区画形成する ことを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法
    。 4、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属物質
    を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面に、CVD
    、イオンプレーティングもしくはイオンインプランテー
    ションにより、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、C
    r、Mo、W、Mn、Co、Ni、Al、B、Siの窒
    化物及び/又は炭化物並びにAl、Ti、Sn、Fe、
    Zr、Ta、Ce、Ni、Cu、W、SiおよびZnの
    酸化物 のうちから選ばれる少なくとも1種から成り、それらの
    地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に被着した極薄
    張力被膜を形成し、ついでこの被膜上に絶縁被膜を被成
    した後、これら被膜に局部加工を区画形成させ、さら絶
    縁被膜を被成する ことを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法
    。 5、仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板表面上の非金属物質
    を除去後研磨処理して平滑とした仕上げ表面に、CVD
    、イオンプレーティングもしくはイオンインプランテー
    ションにより、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、C
    r、Mo、W、Mn、Co、Ni、Al、B、Siの窒
    化物及び/又は炭化物並びにAl、Ti、Sn、Fe、
    Zr、Ta、Ce、Ni、Cu、W、SiおよびZnの
    酸化物 のうちから選ばれる少なくとも1種から成り、それらの
    地鉄との混合相を介し仕上表面上に強固に被着した極薄
    張力被膜を形成した後、又はこの被膜上に絶縁被膜を被
    成した後これらの被膜に、局部加工を区画形成して該鋼
    板地鉄表面の一部を露出せしめ、次いで該地鉄との熱膨
    張係数の差が大きな金属、半金属およびこれらを含む無
    機化合物を上記地鉄露出部に充填したのち焼鈍を施すか
    、或いは歪加工後歪取り焼鈍を施す ことを特徴とする超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法
JP7908386A 1985-04-10 1986-04-08 超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 Granted JPS6230303A (ja)

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JP7446085 1985-04-10
JP60-74460 1985-04-10

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