JPS6231192Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6231192Y2
JPS6231192Y2 JP1982168674U JP16867482U JPS6231192Y2 JP S6231192 Y2 JPS6231192 Y2 JP S6231192Y2 JP 1982168674 U JP1982168674 U JP 1982168674U JP 16867482 U JP16867482 U JP 16867482U JP S6231192 Y2 JPS6231192 Y2 JP S6231192Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
cleaning liquid
tank
cleaning tank
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1982168674U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5974887U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP16867482U priority Critical patent/JPS5974887U/ja
Publication of JPS5974887U publication Critical patent/JPS5974887U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPS6231192Y2 publication Critical patent/JPS6231192Y2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は各種物品を洗浄する洗浄装置に関し、
特に、洗浄液の汚染を防止し常に良好な洗浄効果
を得ることができるような洗浄装置に関する。
〔背景技術とその問題点〕
一般に、あらゆる分野において物品を洗浄する
ために各種洗浄装置が用いられている。そして、
特に、洗浄槽に洗浄液を供給してこの洗浄槽の頂
部から洗浄液をオーバーフローさせながら、上記
洗浄槽内に被洗浄物を没して洗浄するような洗浄
装置が、安価で洗浄作業も容易であるために広く
普及している。
ところで、このように洗浄槽を有するような洗
浄装置にあつては、上記洗浄槽に供給される洗浄
液がこの洗浄槽内に滞留する時間が問題となつて
いる。すなわち、洗浄液が長時間洗浄槽内に滞留
してしまうと、被洗浄物の汚れがこの洗浄液中に
蓄積し、洗浄効果が著しく低下してしまつてい
る。
このため従来は、洗浄槽の底部に上記洗浄液を
供給する注入口を設け、上記洗浄槽の頂部から洗
浄液をオーバーフローさせて上記洗浄液の置換効
果を向上し、この洗浄液の洗浄槽内における滞留
時間を短縮するようになした洗浄装置が知られて
いる。
しかしながら、このような従来の洗浄装置にあ
つては、洗浄槽内に満たされる洗浄液の表面部分
全体を迅速に除去することが困難であり、洗浄液
の表面に浮遊する粒子や汚れが長時間滞留してし
まつている。このため、洗浄槽内から洗浄が完了
した被洗浄物を取り出す時に、洗浄液の表面付近
で再び上記浮遊する粒子や汚れが上記被洗浄物に
被着し、汚染する虞れがある。特に油やホコリ等
の汚染物質は洗浄液よりも比重が軽く、上記傾向
はいつそう顕著なものとなつている。さらに、上
記従来のものにあつては、洗浄槽底部の注入口よ
り供給される洗浄液により洗浄槽内に部分的な対
流を生じ、汚染された洗浄液が部分的に長時間滞
留して、洗浄効果が低下する虞れも生じている。
〔考案の目的〕
そこで本考案は、従来のものの有する欠点を解
消するために提案されたものであり、洗浄槽に満
たされる洗浄液の表面付近を迅速に置換し、表面
に漂う粒子や汚れを素早く除去して良好な洗浄効
果を得ることができる洗浄装置を提供することを
目的とする。
さらに本考案は、洗浄槽内の洗浄液の置換効果
に優れ、部分的な対流を生ずることのないような
洗浄装置を提供することを目的とする。
〔考案の概要〕
上述した目的を達成するために、本考案は、洗
浄液が満たされる洗浄槽と、この洗浄槽に洗浄液
を下方から供給する底部注入口と、上記洗浄槽が
洗浄液で満たされたときにこの洗浄液表面に表面
流を起こさせる側部注入口とを有してなり、上記
側部注入口と対向する洗浄槽の側面の高さを少な
くとも上記洗浄槽を形成する他の側面より低く
し、この側面より洗浄液をオーバーフローさせな
がら洗浄することを特徴とするものである。
〔実施例〕
以下、本考案の具体的な一実施例について図面
に従つて詳細に説明する。
本考案の構成による洗浄装置1は、洗浄液を満
たし図示しない例えば半導体装置等の被洗浄物を
没する洗浄槽2に上記洗浄液を供給する供給路3
を取付けてなつている。そして、この洗浄槽2の
底部付近には直径2mm程度の底部注入口4を全面
に亘つて穿設したパネル5が取付けられ、底部予
備槽6が形成されている。
また、上記洗浄槽2の一側面2Aの頂部付近に
は、側部予備槽7が外周面に沿つて一体的に設け
られており、この側部予備槽7の洗浄槽2に臨む
一側面7Aの上端部には、直径1.5mm程度の側部
注入口8が一列に連らなつて穿設されている。
さらに、上記側部注入口8と対向する洗浄槽2
の側面2Bの高さhは、この洗浄槽2を形成する
他の各側面2A,2C,2Dの高さHよりも若干
低く形成され、この側面2bから洗浄液がオーバ
ーフローするようになされている。
一方、上記底部予備槽6及び側部予備槽7には
図示しない洗浄液供給源から洗浄液を移送する供
給路3の分岐管9,10がそれぞれ接続されてい
る。そして、上記側部予備槽7に接続される分岐
管10の中途部には、流量調整弁11が設けられ
ている。
このように構成される洗浄装置1には、供給路
3を通して洗浄液が供給され、この洗浄液の大部
分が分岐管9より底部予備槽6に導入される。そ
して、この洗浄液は底部予備槽6内で分散し、各
底部注入口4より洗浄槽2内に導入され、側面2
Bの上縁部2Eよりオーバーフローするようにな
つている。このとき、洗浄槽2の底部から供給さ
れる洗浄液の流れは、この洗浄液が各底部注入口
4から分散されて注入されるために、いわゆる層
流状態となつて上昇し、局部的な対流が生ずるこ
とがなく、洗浄槽2内の汚染された洗浄液は円滑
に新しい洗浄液に置換される。
また、供給路3より供給される洗浄液の一部
は、流量調整弁11により流量を調整され分岐管
10より側部予備槽7に導入される。この側部予
備槽7に導入された洗浄液は各側部注入口8より
洗浄槽2内に横方向から注がれ、上記洗浄槽2に
満たされる洗浄液の表面に、強制的に側部注入口
8から側面2Bの上縁部2Eに向かう方向、すな
わち第1図中X方向の表面流を起こさせる。
したがつて、上記洗浄槽2の表面付近の洗浄液
を次々に上記側面2Bの上縁部2Eから上記洗浄
槽2外へ迅速に排除し、上記洗浄液の表面に浮遊
するホコリ等の粒子や汚れを1秒以下程度の瞬時
に取除くことができる。
上述した洗浄槽2内に図示しない被洗浄物を沈
め、洗浄液をオーバーフローさせながら洗浄す
る。
上記実施例においては、洗浄槽2に満たされる
洗浄液の表面付近に浮遊する汚れ等を側部注入口
8から注入される洗浄液により強制的に排除する
ことができ、被洗浄物を取り出すときに汚れが再
び付着する虞れがなくなつている。
さらに、洗浄槽2内の洗浄液は、底部注入口4
より層流状態で供給される洗浄液によりすみやか
に置換され、局部的な対流等が生じて汚染した洗
浄液が滞留することがないため、良好な洗浄効果
を得ることが可能となつている。
なお、本考案は上記実施例に限定されるもので
はなく、例えば、側部注入口8や底部注入口4の
大きさや形状は、洗浄装置1に応じて適宜変更す
ることが可能である。
〔考案の効果〕
上述した実施例の説明からも明らかなように、
本考案の洗浄装置においては、洗浄槽に満たされ
る洗浄液表面に側部注入口より洗浄液を注入して
表面流が生ずるようになしているため、上記洗浄
液表面に浮遊する粒子や汚れを素早く除去してこ
れら粒子や汚れが再び被洗浄物に付着することを
防止することが可能となつている。
さらに本考案においては、洗浄槽内の汚染され
た洗浄液を対流等を起こすことなくすみやかに新
しい洗浄液と置換することができ、良好な洗浄効
果を得ることが可能となつている。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案を適用した洗浄装置の一実施例
を示す外観斜視図、第2図は同じく縦断面図であ
る。 1……洗浄装置、2……洗浄槽、2A,2B,
2C,2D……洗浄槽の側面、4……底部注入
口、8……側部注入口。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 洗浄液が満たされる洗浄槽と、この洗浄槽に洗
    浄液を下方から供給する複数の底部注入口と、上
    記洗浄槽が洗浄液で満たされたときの洗浄液表面
    近傍に設けられた側部注入口とを有してなり、上
    記側部注入口と対向する洗浄槽の側面の高さを少
    なくとも上記洗浄槽を形成する他の側面より低く
    なし、この側面より洗浄液を上記側部注入口によ
    つて起こる洗浄液表面の表面流によつてオーバー
    フローさせながら洗浄することを特徴とする洗浄
    装置。
JP16867482U 1982-11-09 1982-11-09 洗浄装置 Granted JPS5974887U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16867482U JPS5974887U (ja) 1982-11-09 1982-11-09 洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16867482U JPS5974887U (ja) 1982-11-09 1982-11-09 洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5974887U JPS5974887U (ja) 1984-05-21
JPS6231192Y2 true JPS6231192Y2 (ja) 1987-08-10

Family

ID=30368692

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16867482U Granted JPS5974887U (ja) 1982-11-09 1982-11-09 洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5974887U (ja)

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3710450A (en) * 1971-02-01 1973-01-16 Allied Chem Process and apparatus for removing liquids from solid surfaces
JPS5783036A (en) * 1980-11-10 1982-05-24 Seiichiro Sogo Cleaning device for semiconductor material
JPS57160131A (en) * 1981-03-30 1982-10-02 Hitachi Ltd Washing cell

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5974887U (ja) 1984-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102520093B1 (ko) 도포기 세정 장치 및 도포 장치
JPS6231192Y2 (ja)
JP2920165B2 (ja) 枚葉洗浄用オーバーフロー槽
JPS6358840A (ja) 洗浄方法およびその装置
JPH026447Y2 (ja)
JP2541525B2 (ja) 半導体基板処理装置
JP3386892B2 (ja) 洗浄槽
KR900019160A (ko) 반도체 웨이퍼 세정장치의 오우버플로우 탱크
JP2901705B2 (ja) 半導体基板の洗浄方法
JP2001054766A (ja) 多段式洗浄槽
JPH03266431A (ja) 基板の洗浄装置
JP3118443B2 (ja) ウェーハ洗浄装置
JPS62156659A (ja) 洗浄方法及び装置
JPH03250732A (ja) 半導体ウェーハの洗浄装置
JPH06164112A (ja) 洗浄装置
JPH05102118A (ja) 半導体ウエハの水洗方法および水洗槽
JPH10177984A (ja) 洗浄機
KR200289926Y1 (ko) 습식처리장치
KR930000401Y1 (ko) 습식세정장치
JPS63174324A (ja) 半導体ウエハ−の化学処理方法
JPH022961Y2 (ja)
JPH0319984Y2 (ja)
JP2947439B2 (ja) 写真処理装置のタンクおよびタンク内浮遊物回収方法
JPH0444321A (ja) 基板運搬用キャリヤ
KR19990043720A (ko) 웨이퍼 세정용 침적조