JPS6231773A - ガスケツト材料 - Google Patents

ガスケツト材料

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JPS6231773A
JPS6231773A JP16974785A JP16974785A JPS6231773A JP S6231773 A JPS6231773 A JP S6231773A JP 16974785 A JP16974785 A JP 16974785A JP 16974785 A JP16974785 A JP 16974785A JP S6231773 A JPS6231773 A JP S6231773A
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JP
Japan
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gasket material
flange
metal
cover
lid
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JP16974785A
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English (en)
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JPH0243938B2 (ja
Inventor
Nozomi Watanabe
望 渡辺
Tadashi Narisawa
成沢 忠
Hisao Nakajima
尚男 中島
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、ガスケット材料、特に真空装置に使用する
ことができるガスケット材料に関するものである。
(従来の技術) 従来、真空装置、特に超高真空装置に使用するガスケッ
ト材料としては銅等の金属製のものが使用されている。
この使用方法の一例を第2図に基いて説明すると、真空
槽/の開口端縁に溶接された7ランジλには環状溝3α
を形成し、更に環状溝Ja内には該環状溝3αに沿って
環状突起ダαを形成する。
一方真空槽/内部を気密に保つだめの蓋!には上記環状
溝3αに整合する環状溝36を形成し、更に環状溝Jb
内には該環状溝3bに沿って環状突起グbを形成する。
銅製の環状ガスケット6を上記環状溝3α、 31)内
に嵌入するようにして真空槽/の開口端縁に形成された
7ランジコに蓋!を被せ、更に7ランジコ及び蓋!には
環状溝3α、 3bの外周に一足間隔を置いてボルトク
、・・・を植設し、該ボルト7、・・・に設けられたナ
ットサ、・・・を締め付けることによって環状溝3α、
 Jb内のガスケット6を突起ダα、 ti、bに食い
込ませて蓋5を7ランジーに気密に保持させる。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、上記した構造ではガスケット6として銅等の固
体金属を使用するため、ボルト7、−・・・及びナツト
t、・・・をスパナ等で強く締め付ける必要があシ、し
たがって時間的、肉体的に多大な負担が掛るという欠点
があ少、しかも一度使用した高価なガスケットは再使用
ができないため、コスト高になる。
この発明の目的は簡単且つ容易に気密性を維持でき、し
たがって締め付は等に要する負担等を軽減できるガスケ
ット材料を提供することにある。
この発明の他の目的は再使用可能で、したがって経済性
の高いガスケット材料を提供することにある。
(問題点を解決するための手段) 以上の問題点を解決するため、この発明では室温で液体
状態となる金属中に、該金属に溶解しない微小粉末を混
合したダイラタンシー的性状の組成からなるガスケット
材料を提案するものでちる。
ここで、室温で液体状態となる金属としてはIn−Ga
合金、馬等を挙げることができ、また上記金属に溶解し
ない微小粉末としてはム1t0.等の微小粉末を挙げる
ことができる。
まだ、ダイラタンシー的性状の組成を得るためには、上
述の液体状態の金属、例えばI%−龜合金に対して上述
の微小粉末、例えばAl @ O、粉末を体積比30〜
80にの範囲で混入することが必要である。
なお、成体状態の金属中に混入する微小粉末としてはA
t、O,粉末に限定されず、金属中に溶解しない粉末で
あれば何れを使用してもよい。
(作用) 以上の組成は通常流体であるが、ストレスが加わると粘
度が高くなる性質、即ちダイラタンシー的性質を有して
いる。
したがって例えば真空装置の開口端縁に形成した7ラン
ジと蓋との間に上述の組成を介在させてストレスを加わ
えることよシ7ランジと蓋との間は気密に保たれる。
(実施例) 以下、この発明を図示の実施例に基いて説明すると、真
空槽lの開口端縁に溶接された7ランジ2には環状溝3
αを形成し、一方真空槽/内部を気密に保つための蓋3
には上記環状溝3αに整合する環状溝Jbを形成する。
一方、In −Gaの液体状態の金属中に粒径0.3〜
1μmのムt、0.微粉末を体積比50%混入し、充分
に脱泡してダイラタンシー的性状を有するガスケット材
料9を調整し、該ガスケット材料りは環状溝Jαと3b
に溢れる程度に充填して7ランジーと蓋3とを重ね合せ
、次に環状溝3α、 j6の外周に適宜間隔で形成され
た孔7α、・・・にボルトク。
・・・を装着し、更にポルトク、・・・に蝶ナツトtを
螺着して7ランジコと蓋よとを締め付ける。
これによシ環状溝3α、 36内に収容されたガスケッ
ト材料デは7ランジコと蓋!の両面よシ圧力が加えられ
て粘度が上昇し、したがって7ランジコと蓋5の間は気
密に保持される。
また、7ランジコと蓋よの間に多少の隙間がモる場合に
は液状のガスケット材料が真空槽l内に流入することも
考えられるが、このよう表場合この発明のガスケット材
料は大気圧を受けて粘度が向上するため、真空槽/内に
流入することがない。
したがって、この発明では7ランジコとM5とを強い力
で押圧する必要なく、蝶ナツトj。
・・・を手の力で締め付ける程度で十分であシ、従来第
2図に示すような真空装置においてはスパナ等を使用し
て強力に締め付けたのに比べて格段に能率を向上させる
ことができる。
また、この発明のガスケット材料はダイラタンシー的性
状を有し、7ランジコと蓋よとの押圧を解除した後、元
の流動性を取シ戻すため再度使用することができる。
なお、この実施例ではフランジコ及び蓋jとの両方に環
状溝3α及び3bを形成する例について述べたが、環状
溝を片方の部材にのみ形成するようにしてもよく、また
7ランジコと蓋よとの抑圧をボルトク及び蝶ナツ)fを
使用して行なっていたが、一般に使用されている締め金
具等・を使用して両部材を押圧してもよく、この場合は
ボルト及びボルトを挿通するための孔をフランジ及び蓋
等に形成する必要はない。
なお、この発明のガスケット材料では7ランジλに環状
溝を形成し、適当な押さえ治具を使用すれば、ガラス板
、企属板程度の蓋で真空槽内の気密性を保障することが
できる。
(発明の効果) 以上喪するに、この発明では例えば真空装置内の気密性
を簡単且つ容易に維持することかで皓、したがって締め
付は等に要する労力を大幅に軽減することができるとと
もく、再使用が可能であるため、経済性の高いガスケッ
ト材料を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図人はこの発明のガスケット材料を使用した真空装
置におけるバッキング部分縦断側面図、第1図Bは同上
の真空装置における蓋側の平面図、第2図は従来のガス
ケット材料を使用した真空装置におけるバッキング部分
の縦断面側面図である。 図中、デはガスケット材料。 第18

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 室温で液体状態となる金属中に、該金属に溶解しない微
    小粉末を混合したダイラタンシー的性状の組成からなる
    ガスケット材料。
JP16974785A 1985-08-02 1985-08-02 Gasuketsutozairyo Expired - Lifetime JPH0243938B2 (ja)

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JP16974785A JPH0243938B2 (ja) 1985-08-02 1985-08-02 Gasuketsutozairyo

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JP16974785A JPH0243938B2 (ja) 1985-08-02 1985-08-02 Gasuketsutozairyo

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JPS6231773A true JPS6231773A (ja) 1987-02-10
JPH0243938B2 JPH0243938B2 (ja) 1990-10-02

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58110936U (ja) * 1982-01-25 1983-07-28 オムロン株式会社 静電容量形近接スイツチ
JPS58113236U (ja) * 1982-01-25 1983-08-02 オムロン株式会社 静電容量形近接スイツチ
JPH0464774A (ja) * 1990-07-04 1992-02-28 Japan Atom Energy Res Inst 真空フランジ

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JPS58113236U (ja) * 1982-01-25 1983-08-02 オムロン株式会社 静電容量形近接スイツチ
JPH0464774A (ja) * 1990-07-04 1992-02-28 Japan Atom Energy Res Inst 真空フランジ

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JPH0243938B2 (ja) 1990-10-02

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