JPH0243938B2 - Gasuketsutozairyo - Google Patents
GasuketsutozairyoInfo
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- JPH0243938B2 JPH0243938B2 JP16974785A JP16974785A JPH0243938B2 JP H0243938 B2 JPH0243938 B2 JP H0243938B2 JP 16974785 A JP16974785 A JP 16974785A JP 16974785 A JP16974785 A JP 16974785A JP H0243938 B2 JPH0243938 B2 JP H0243938B2
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- Japan
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- lid
- flange
- gasket material
- metal
- annular groove
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- Expired - Lifetime
Links
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- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 4
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Landscapes
- Gasket Seals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、ガスケツト材料、特に真空装置に
使用することができるガスケツト材料に関するも
のである。
使用することができるガスケツト材料に関するも
のである。
(従来の技術)
従来、真空装置、特に超高真空装置に使用する
ガスケツト材料としては銅等の金属製のものが使
用されている。
ガスケツト材料としては銅等の金属製のものが使
用されている。
この使用方法の一例を第2図に基いて説明する
と、真空槽1の開口端縁に溶接されたフランジ2
には環状溝3aを形成し、更に環状溝3a内には
該環状溝3aに沿つて環状突起4aを形成する。
と、真空槽1の開口端縁に溶接されたフランジ2
には環状溝3aを形成し、更に環状溝3a内には
該環状溝3aに沿つて環状突起4aを形成する。
一方真空槽1内部を気密に保つための蓋5には
上記環状溝3aに整合する環状溝3bを形成し、
更に環状溝3b内には該環状溝3bに沿つて環状
突起4bを形成する。
上記環状溝3aに整合する環状溝3bを形成し、
更に環状溝3b内には該環状溝3bに沿つて環状
突起4bを形成する。
銅製の環状ガスケツト6を上記環状溝3a,3
b内に嵌入するようにして真空槽1の開口端縁に
形成されたフランジ2に蓋5を被せ、更にフラン
ジ2及び蓋5には環状溝3a,3bの外周に一定
間隔を置いてボルト7,…を植設し、該ボルト
7,…に設けられたナツト8,…を締め付けるこ
とによつて環状溝3a,3b内のガスケツト6を
突起4a,4bに食い込ませて蓋5をフランジ2
に気密に保持させる。
b内に嵌入するようにして真空槽1の開口端縁に
形成されたフランジ2に蓋5を被せ、更にフラン
ジ2及び蓋5には環状溝3a,3bの外周に一定
間隔を置いてボルト7,…を植設し、該ボルト
7,…に設けられたナツト8,…を締め付けるこ
とによつて環状溝3a,3b内のガスケツト6を
突起4a,4bに食い込ませて蓋5をフランジ2
に気密に保持させる。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、上記した構造ではガスケツト6として
銅等の固体金属を使用するため、ボルト7,…及
びナツト8,…をスパナ等で強く締め付ける必要
があり、したがつて時間的、肉体的に多大な負担
が掛るという欠点があり、しかも一度使用した高
価なガスケツトは再使用ができないため、コスト
高になる。
銅等の固体金属を使用するため、ボルト7,…及
びナツト8,…をスパナ等で強く締め付ける必要
があり、したがつて時間的、肉体的に多大な負担
が掛るという欠点があり、しかも一度使用した高
価なガスケツトは再使用ができないため、コスト
高になる。
この発明の目的は簡単且つ容易に気密性を維持
でき、したがつて締め付け等に要する負担等を軽
減できるガスケツト材料を提供することにある。
でき、したがつて締め付け等に要する負担等を軽
減できるガスケツト材料を提供することにある。
この発明の他の目的は再使用可能で、したがつ
て経済性の高いガスケツト材料を提供することに
ある。
て経済性の高いガスケツト材料を提供することに
ある。
(問題点を解決するための手段)
以上の問題点を解決するため、この発明では室
温で液体状態となる金属中に、該金属に溶解しな
い微小粉末を混合したダイラタンシー的性状の組
成からなるガスケツト材料を提案するものであ
る。
温で液体状態となる金属中に、該金属に溶解しな
い微小粉末を混合したダイラタンシー的性状の組
成からなるガスケツト材料を提案するものであ
る。
ここで、室温で液体状態となる金属としてはIn
−Ga合金、Hg等を挙げることができ、また上記
金属に溶解しない微小粉末としてはAl2O3等の微
小粉末を挙げることができる。
−Ga合金、Hg等を挙げることができ、また上記
金属に溶解しない微小粉末としてはAl2O3等の微
小粉末を挙げることができる。
また、ダイラタンシー的性状の組成を得るため
には、上述の液体状態の金属、例えばIn−Ga合
金に対して上述の微小粉末、例えばAl2O3粉末を
体積比30〜80%の範囲で混入することが必要であ
る。
には、上述の液体状態の金属、例えばIn−Ga合
金に対して上述の微小粉末、例えばAl2O3粉末を
体積比30〜80%の範囲で混入することが必要であ
る。
なお、液体状態の金属中に混入する微小粉末と
してはAl2O3粉末に限定されず、金属中に溶解し
ない粉末であれば何れを使用してもよい。
してはAl2O3粉末に限定されず、金属中に溶解し
ない粉末であれば何れを使用してもよい。
(作用)
以上の組成は通常流体であるが、ストレスが加
わると粘度が高くなる性質、即ちダイラタンシー
的性質を有している。
わると粘度が高くなる性質、即ちダイラタンシー
的性質を有している。
したがつて例えば真空装置の開口端縁に形成し
たフランジと蓋との間に上述の組成を介在させて
ストレスを加わえることよりフランジと蓋との間
は気密に保たれる。
たフランジと蓋との間に上述の組成を介在させて
ストレスを加わえることよりフランジと蓋との間
は気密に保たれる。
(実施例)
以下、この発明を図示の実施例に基いて説明す
ると、真空槽1の開口端縁に溶接されたフランジ
2には環状溝3aを形成し、一方真空槽1内部を
気密に保つための蓋5には上記環状溝3aに整合
する環状溝3bを形成する。
ると、真空槽1の開口端縁に溶接されたフランジ
2には環状溝3aを形成し、一方真空槽1内部を
気密に保つための蓋5には上記環状溝3aに整合
する環状溝3bを形成する。
一方、In−Gaの液体状態の金属中に粒径0.3〜
1μmのAl2O3微粉末を体積比50%混入し、充分に
脱泡してダイラタンシー的性状を有するガスケツ
ト材料9を調整し、該ガスケツト材料9は環状溝
3aと3bに溢れる程度に充填してフランジ2と
蓋5とを重ね合せ、次に環状溝3a,3bの外周
に適宜間隔で形成された孔7a,…にボルト7,
…を装着し、更にボルト7,…に蝶ナツト8を螺
着してフランジ2と蓋5とを締め付ける。
1μmのAl2O3微粉末を体積比50%混入し、充分に
脱泡してダイラタンシー的性状を有するガスケツ
ト材料9を調整し、該ガスケツト材料9は環状溝
3aと3bに溢れる程度に充填してフランジ2と
蓋5とを重ね合せ、次に環状溝3a,3bの外周
に適宜間隔で形成された孔7a,…にボルト7,
…を装着し、更にボルト7,…に蝶ナツト8を螺
着してフランジ2と蓋5とを締め付ける。
これにより環状溝3a,3b内に収容されたガ
スケツト材料9はフランジ2と蓋5を両面より圧
力が加えられて粘度が上昇し、したがつてフラン
ジ2と蓋5の間は気密に保持される。
スケツト材料9はフランジ2と蓋5を両面より圧
力が加えられて粘度が上昇し、したがつてフラン
ジ2と蓋5の間は気密に保持される。
また、フランジ2と蓋5の間に多少の隙間があ
る場合には液状のガスケツト材料が真空槽1内に
流入することも考えられるが、このような場合こ
の発明のガスケツト材料は大気圧を受けて粘度が
向上するため、真空槽1内に流入することがな
い。
る場合には液状のガスケツト材料が真空槽1内に
流入することも考えられるが、このような場合こ
の発明のガスケツト材料は大気圧を受けて粘度が
向上するため、真空槽1内に流入することがな
い。
したがつて、この発明ではフランジ2と蓋5と
を強い力で押圧する必要なく、蝶ナツト8,…を
手の力で締め付ける程度で十分であり、従来第2
図に示すような真空装置においてはスパナ等を使
用して強力に締め付けたのに比べて格段に能率を
向上させることができる。
を強い力で押圧する必要なく、蝶ナツト8,…を
手の力で締め付ける程度で十分であり、従来第2
図に示すような真空装置においてはスパナ等を使
用して強力に締め付けたのに比べて格段に能率を
向上させることができる。
また、この発明のガスケツト材料はダイラタン
シー的性状を有し、フランジ2と蓋5との押圧を
解除した後、元の流動性を取り戻すため再度使用
することができる。
シー的性状を有し、フランジ2と蓋5との押圧を
解除した後、元の流動性を取り戻すため再度使用
することができる。
なお、この実施例ではフランジ2及び蓋5との
両方に環状溝3a及び3bを形成する例について
述べたが、環状溝を片方の部材にのみ形成するよ
うにしてもよく、またフランジ2と蓋5との押圧
をボルト7及び蝶ナツト8を使用して行なつてい
たが、一般に使用されている締め金具等を使用し
て両部材を押圧してもよく、この場合はボルト及
びボルトを挿通するための孔をフランジ及び蓋等
に形成する必要はない。
両方に環状溝3a及び3bを形成する例について
述べたが、環状溝を片方の部材にのみ形成するよ
うにしてもよく、またフランジ2と蓋5との押圧
をボルト7及び蝶ナツト8を使用して行なつてい
たが、一般に使用されている締め金具等を使用し
て両部材を押圧してもよく、この場合はボルト及
びボルトを挿通するための孔をフランジ及び蓋等
に形成する必要はない。
なお、この発明のガスケツト材料ではフランジ
2に環状溝を形成し、適当な押さえ治具を使用す
れば、ガラス板、金属板程度の蓋で真空槽内の気
密性を保障することができる。
2に環状溝を形成し、適当な押さえ治具を使用す
れば、ガラス板、金属板程度の蓋で真空槽内の気
密性を保障することができる。
(発明の効果)
以上要するに、この発明では例えば真空装置内
の気密性を簡単且つ容易に維持することができ、
したがつて締め付け等に要する労力を大幅に軽減
することができるとともに、再使用が可能である
ため、経済性の高いガスケツト材料を提供するこ
とができる。
の気密性を簡単且つ容易に維持することができ、
したがつて締め付け等に要する労力を大幅に軽減
することができるとともに、再使用が可能である
ため、経済性の高いガスケツト材料を提供するこ
とができる。
第1図Aはこの発明のガスケツト材料を使用し
た真空装置におけるパツキング部分縦断側面図、
第1図Bは同上の真空装置における蓋側の平面
図、第2図は従来のガスケツト材料を使用した真
空装置におけるパツキング部分の縦断面側面図で
ある。 図中、9はガスケツト材料。
た真空装置におけるパツキング部分縦断側面図、
第1図Bは同上の真空装置における蓋側の平面
図、第2図は従来のガスケツト材料を使用した真
空装置におけるパツキング部分の縦断面側面図で
ある。 図中、9はガスケツト材料。
Claims (1)
- 1 室温で液体状態となる金属中に、該金属に溶
解しない微小粉末を混合したダイラタンシー的性
状の組成からなるガスケツト材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16974785A JPH0243938B2 (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | Gasuketsutozairyo |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16974785A JPH0243938B2 (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | Gasuketsutozairyo |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6231773A JPS6231773A (ja) | 1987-02-10 |
| JPH0243938B2 true JPH0243938B2 (ja) | 1990-10-02 |
Family
ID=15892093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16974785A Expired - Lifetime JPH0243938B2 (ja) | 1985-08-02 | 1985-08-02 | Gasuketsutozairyo |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0243938B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58113236U (ja) * | 1982-01-25 | 1983-08-02 | オムロン株式会社 | 静電容量形近接スイツチ |
| JPS58110936U (ja) * | 1982-01-25 | 1983-07-28 | オムロン株式会社 | 静電容量形近接スイツチ |
| JPH0464774A (ja) * | 1990-07-04 | 1992-02-28 | Japan Atom Energy Res Inst | 真空フランジ |
-
1985
- 1985-08-02 JP JP16974785A patent/JPH0243938B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6231773A (ja) | 1987-02-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |