JPS6233677B2 - - Google Patents

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JPS6233677B2
JPS6233677B2 JP56127119A JP12711981A JPS6233677B2 JP S6233677 B2 JPS6233677 B2 JP S6233677B2 JP 56127119 A JP56127119 A JP 56127119A JP 12711981 A JP12711981 A JP 12711981A JP S6233677 B2 JPS6233677 B2 JP S6233677B2
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JP
Japan
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pulse
voltage
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waveform
circuit
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JP56127119A
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Tadahiro Oomi
Akimasa Tanaka
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Publication of JPS6233677B2 publication Critical patent/JPS6233677B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C19/00Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
    • G11C19/18Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using capacitors as main elements of the stages
    • G11C19/182Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using capacitors as main elements of the stages in combination with semiconductor elements, e.g. bipolar transistors, diodes
    • G11C19/184Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using capacitors as main elements of the stages in combination with semiconductor elements, e.g. bipolar transistors, diodes with field-effect transistors, e.g. MOS-FET

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Shift Register Type Memory (AREA)
  • Manipulation Of Pulses (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、高速で動作しかつ駆動能力の大きい
走査回路に関する。
走査回路又はそのためのシフトレジスタ(以下
シフトレジスタ)は、集積回路の中で非常に多方
面にわたつて使用されており、極めて重要なもの
である。高速動作が行なえるものとして、N.コ
イケ著“MOS アリア センサー:パート1
デザイン コンシダレーシヨン アンド パフオ
ーマンス オブ アン n―p―n ストラクチ
ヤーズ 484×384 エレメンツ カラー MOS
イメージヤー”,アイトリプルイー トランザ
クシヨン オン エレクトロン デバイス ED
―27巻8号 1676頁〜1681頁 1980年8月(N.
Koike et al.“MOS Area Sensor:Part1
Design Consideration and Performance of an
n―p―n Structures 484×384 Elements
Color MOS Imager”,IEEE Trans.Electron
Devices,Vol.ED―27,No.8,pp.1676〜1681,
Aug.1980に提案されたシフトレジスタがある。
第1図にその回路構成とタイムチヤートを示
す。このシフトレジスタは、φ,φという2
相クロツクとTr1〜Tr8の8個の絶縁ゲートトラ
ンジスタ(MOSトランジスタ)により1ビツト
が構成されている。またブートストラツプキヤパ
シタCBを入れることにより、閾値電圧の降下分
を補償している。CNは浮遊容量である。入力パ
ルスPSとクロツクパルスφが同時に入るとR1
の電位が高いレベルに維持され、R2の電位は低
いレベルに保たれる。このとき容量CB1は、充電
されることになる。次に、クロツクパルスφ
入ると、Tr3を通つてR2が高いレベルに移行す
る。このときTr4はOFF状態である。R2はレベル
が上がつた量に応じてCB1の電位が押し上げら
れ、Tr3のゲート電位が上がることになり、R2
電位のTr3の閾値電圧による降下分を補償するこ
とができる。同様な動作によりTr7を通つてクロ
ツクパルスφがO1にPo1パルスとして出力され
る。またCB1,CB2に蓄えられた電荷は、フイー
ドバツク線によりTr2,Tr6をON状態にすること
によつて夫々放電される。この様に入力パルスP
Sに対して1ビツト遅れたパルスPo1を取り出すこ
とができる。このシフトレジスタは高速で動作し
かつ直列につながれたMOSトランジスタが同時
に導通することがないため、消費電力が極めて小
さいという長所を有している。さらにシフトして
行くパルス間に重なりがないという特徴をもつて
いる。
第1図の回路構成は、上記の特徴を持つていて
優れた特性を示すが、回路内に1ビツト後の回路
からのフイードバツク線を有していることから、
浮遊容量CNが大きくなり易いこと、最終段の処
理が難しいことなどの欠点を併せもつている。こ
うした欠点を克服するものとして、第2図の回路
構成のシフトレジスタが提案されている(特開昭
52−95961号「固体走査回路」)。このシフトレジ
スタは、クロツクパルスφ,φ、電源VDD
より動作することは第1図の場合と同様である。
1ビツト10個のMOSトランジスタ(Tr9,……,
Tr18)で構成され、ブートストラツプキヤパシタ
B5,CB6が設けられている。Tr11,Tr16のゲー
トは電源VDDに接続されているから、常時ON状
態にある。即ち、Tr10,Tr11及びTr15,Tr16等の
ペアはE/D構成のインバータになつている。
Tr13,Tr18はON状態にあるとき、O1,O2の電位
は低いレベルになつている。MOSトランジスタ
の閾値を簡単のためすべてVthとする。クロツク
φとスタートパルスPSが同時に入ると、Tr19
がON状態になることによつて、PSのパルス電圧
がVDDであればD1は(VDD−Vth)になり、
Tr10,Tr12はON状態、Tr13はOFF状態になり、
ブートストラツプキヤパシタCB5は、(VDD−Vt
)に充電される。この状態で、クロツクφ
入ると、ブートストラツプキヤパシタCB5の働き
で、O1にはクロツクパルスφがそのまま現れ
る。つまりφ,φのパルス電圧がVDDであれ
ば,O1にはVDDのパルス電圧を持つたパルスが
現れる。同様な動作の繰り返しで、パルスがシフ
トして行くのである。その動作波形を第2図bに
示す。第2図のシフトレジスタは、D1が充電状
態すなわちD1を高いレベルにするとき、Tr10
Tr11が両方導通するため電源から電流が流れる。
そのため、第1図の回路構成にくらべて消費電力
はやや大きくなる。しかし、第1図のものと同
様、(1)段数が増しても消費電力が増加しない、(2)
シフトするパルスに重なりを持たないようにでき
る、(3)高速動作が行なえる、等の特徴を有してい
る。
しかし、いずれも出力パルスがクロツクパルス
そのものであることから、外部に負荷を多数接続
した場合には、クロツクパルス自体の駆動能力を
大きくしなければならなくなる。さらに、クロツ
クパルスを外部に供給するMOSトランジスタ、
第1図であれば、Tr3,Tr7、第2図であれば
Tr12,Tr17の駆動能力を大きくしなければなら
ず、大きな面積のMOSトランジスタにしなけれ
ばならないという欠点を有する。
本発明の目的は、叙上の欠点を除去し、長所は
そのまま生かして、外部に供給するパルスを電源
から供給すべくなしたシフトレジスタを提供する
ことである。
以下図面を参照しながら本発明の実施例を説明
する。
第3図aに本発明の1実施例のシフトレジスタ
の回路構成を示す。
このシフトレジスタは、Tr1〜Tr8,Tr101
Tr102の10個のMOSトランジスタとブートストラ
ツプキヤパシタCB1,CB2により1ビツトが構成
されている。R1〜R7は各点での電位を表し、S
はスタートパルスの入力端子、Oはこのシフトレ
ジスタの1段の出力端子を表している。
このシフトレジスタの動作を第3図a及びbを
参照しながら簡単に述べる。
第3図bは、このシフトレジスタの動作波形を
模式的に示している。はじめスタートパルスPS
が低いレベルにあるときは、各部の電位R1〜R7
は低いレベルにある。スタートパルスφSがクロ
ツクパルスφと同時に高いレベルになると、C
B1は電源電圧VDDによつて充電されR1は高いレベ
ルになる。ここで簡単の為、クロツクパルスφ
,φ及びスタートパルスPSのパルス電圧を
DD、全てのMOSトランジスタの閾値をVthとす
る。この時Tr2はR5が低いレベルにあるのでOFF
状態、Tr4はφによつてON状態となつてい
る。従つてR1の電位は(VDD−Vth)でR2は低い
レベルに保たれる。クロツクパルスφとスター
トパルスPSが低いレベルになつた後、クロツク
パルスφが高いレベルになるとR2はTr3を通つ
て高いレベルになる。この時Tr4はOFF状態にな
つている。R2の電位が上がつた量に応じてブー
トストラツプキヤパシタCB1の働きによつてR1
電位もさらに持ち上がり、R2の電位のTr3の閾値
電圧による降下分を補償することができる。従つ
てR2は高いレベルになる。
R7が低いレベルにあるのでTr6はOFF状態にな
つているので、R2が高いレベルになるとTr5を通
つてR3は(VDD−Vth)になる。この時Tr8はφ
によつてON状態にあり、R4は低いレベルにな
つている。φが低いレベルになり、再びφ
高いレベルになると、R4はTr7を通つて高いレベ
ルになる。この時Tr8はOFF状態になつている。
ブートストラツプキヤパシタCB2の働きによつて
R4の電位のTr7の閾値電圧による降下分が補償さ
れるのは前と同様である。この時Tr4がON状態
になることによつてR2の電位は再び低いレベル
になり、後述するようにR5の電位も高いレベル
になるのでR1の電位も低いレベルになる。
R4がφと同時に高いレベルになるときの動
作はスタートパルスφSがφと同時に高いレベ
ルになるときのシフトレジスタの動作と同じであ
る。従つてR5はR4と同時に高いレベルになり、
R7はR4から半ビツト遅れて高いレベルになる。
こ時Tr6はON状態となり、R3の電位は低いレベ
ルになる。
R4が高いレベルになると、Tr102は他のエンハ
ンスメントモードMOSトランジスタとは導電型
の異なるデイプレシヨンモードMOSトランジス
タとすると、Tr101がON状態になりTr102はOFF
状態となり、O1の電位は(VDD−Vth)となる。
φが低いレベルになつた後、φが高いレベ
ルになると、Tr8がON状態となつてR4は低いレ
ベルになる。
R4は低いレベルになると先程とは逆にTr101
OFF状態となり、Tr102がON状態となることで
O1の電位は再び低いレベルになる。この様に入
力パルスPSに対して1ビツト遅れたパルスPo1
出力する。
Tr102は、外部回路の側に一度高いレベルにな
つた状態を低いレベルに戻す機能が含まれていれ
ば、必ずしも必要はない。Tr102は、第3図では
MOSトランジスタとして表示したが、接合型電
界効果トランジスタあるいは静電誘導トランジス
タでもよい。このシフトレジスタでは、高速、低
消費電力、シフトしていくパルスに重なりがな
い。さらに、電源から出力パルスを得るので大き
な駆動能力をもつ。
Tr101,Tr102に相当するトランジスタをR2に接
続すれば、1/2ビツト遅れのシフトレジスタにな
る。出力パルスは、クロツクの半周期ずつ遅れる
わけであるが、外部回路に対しては、これで何等
さしつかえない。
第4図にその回路構成を示す。第4図に示した
シフトレジスタでは、低消費電力で、高速かつ高
集積度のものが得られ、大きな駆動能力をもたせ
ることができる。1ビツトはTr1〜Tr4,Tr111
Tr112の6個のトランジスタで構成される。第3
図のTr101、第4図のTr111は、パルスをシフトさ
せる部分とは全く関係なく、別に設計することが
できる。
即ち、大きな駆動能力を持たせたい場合には、
外部回路にパルスを供給するトランジスタ
Tr101,Tr111を変換コンダクタンスの大きい、即
ち面積の大きいトランジスタにすればよい。パル
スのシフトを行なうトランジスタTr1〜Tr4と外
部回路を駆動するトランジスタTr101,Tr111は、
殆んど独立に設計することができる。即ち、
Tr101,Tr111は外部回路の駆動能力に合せて設計
すればよいし、Tr1〜Tr4はパルスシフトを最も
所望の状態で行なえるようにすればよい。
Tr102,Tr112は、他のエンハンスメントモード
MOSトランジスタとは、導電型の異なるデイプ
レシヨンモードMOSトランジスタである。第4
図aのシフトレジスタの動作波形を第4図bに示
す。
第3図、第4図のようなフイードバツク線を持
たず、より高速な動作が行なえる本発明の実施例
の1つであるシフトレジスタを第5図に示す。第
2図の回路構成に、あらたにTr121,Tr122
Tr123,Tr124が接続されている。Tr122のゲート
はクロツクφに接続され、クロツクパルスφ
がはいるたびにON状態になつて、O1を接地す
る。Tr121のゲートは、S1に接続されている。
Tr121の一端は電源に接続され、他端はTr122の一
端と接続されて、この点が出力端子となり、外部
回路駆動用の出力線に接続され、Tr122の他の一
端は接地されている。動作波形を第5図bに示
す。クロツクφ,φ毎にパルスはシフトす
る。第5図の回路では、全部のトランジスタは、
同一導電型のエンハンスメントMOSトランジス
タである。スタートパルスPSがクロツクパルス
φと同時に入るとTr9がON状態になることに
より、スタートパルスPSにより、ブートストラ
ツプキヤパシタCBは高レベルに充電され、D1
高いレベルになり、それまでOFF状態にあつた
Tr10,Tr12はON状態になり、Tr13はOFF状態に
なる。簡単の為に全部のトランジスタの閾値電圧
をVthとする。スタートパルスPSが電源と同じ
パルス電圧VDDだとすると、CBは(VDD−Vt
)に電圧に充電され、D1も同じ電圧となる。
D1が高いレベルにあるとき、クロツクφが入
ると、CBの働きでD1の電圧はさらに高くなり、
パルスシフト端子にはクロツクパルス電圧(例え
ばVDD)がそのまま現れる。出力端子O1は、ク
ロツクφが入るたびに、Tr122がON状態になつ
て接地されており低いレベルになつている。S1
高いレベルになるとTr121はON状態になり、出力
端子O1が高いレベルになる。S1が高いレベルに
あるとき、Tr14は同時にON状態にあるから、D2
は高いレベルになる。このとき、D2の電位はD1
と同じく(VDD−Vth)になつている。Tr14
Tr18,Tr123,Tr124で構成される次段では、クロ
ツクパルスφ,φの役割が、前段とは逆にな
つている。O1,O2に現われる出力パルス電圧は
(VDD―Vth)である。出力端子に接続される負
荷が容量だけであり、その中に放電のための機能
が含まれていなければ、出力端子O1,O2の電圧
波形は結果的に第6図のようになる。S1が高いレ
ベルになつて、Tr121がON状態になり、出力端子
O1の電圧が(VDD−Vth)に充電されると、たと
えS1が低いレベルに戻つても、出力端子O1の電
圧は(VDD−Vth)に保たれており、クロツクφ
が入つてTr122がON状態になるまでそのまま保
たれることになる。結果的にシフトする出力パル
スPo1,Po2に重なりが生ずる。こうしたパルスの
重なりが不都合な場合には、第3図、第4図のよ
うに導電型の違うデイプレシヨンモードトランジ
スタを使うことになる。その例を1ビツト分だけ
第7図に示す。Tr131,Tr132がそれである。S1
Tr131,Tr132のゲートに接続されている。Tr131
の一端は電源VDDに接続されており、他の一端は
Tr132の一端と接続され、この点が出力端子とな
る。Tr132は、他のトランジスタとは導電型の異
なるデイプレシヨンモードMOSトランジスタで
ある。この例ではMOSトランジスタで説明して
あるが、接合型電界効果トランジスタあるいは静
電誘導トランジスタでもよい。この回路では、出
力端子に接続される負荷が容量であつても、第5
図bのように、重なりのないパルスシフトが行な
える。
第3図、第4図、第7図のように容易負荷のた
めに、他のトランジスタと異なるトランジスタを
導入することが、回路製造プロセス上工程数を増
して不都合な場合には、同一の導電型のデイプレ
シヨンモードMOSトランジスタを第8図のTr133
のように導入すればよい。Tr133はデイプレシヨ
ンモードMOSトランジスタである。ゲートは接
地されている。Tr131がOFF状態にあるときは、
出力端子O1はTr133により接地されている。S1
高いレベルになるとTr131は導通し、出力端子O1
にほぼ(VDD−Vth)の電圧が現れる。この時、
Tr133の抵抗がTr131にくらべて充分大きくなるよ
うに面積に差をつける。即ち、Tr131は、Tr133
くらべれば充分に大きな(例えば少なくとも10倍
以上)トランジスタにしておき、ON状態にある
Tr131の抵抗はTr133にくらべて少なくとも1/10以
下になるように設計する。第8図の回路構成で
は、第5図bに示すようにパルスシフトに重なり
のないシフトレジスタが、外部回路が容量負荷で
あつても得られることになる。イメードセンサの
ように、多数の画素を同時に駆動することを考え
ると、Tr131は大きな駆動能力が必要となる。
Tr131は、他のトランジスタより大きく設計され
る。
次に、ブートストラツプキヤパシタCBの条件
についてMOSトランジスタを用いてシフトレジ
スタを構成した時を例として述べる。第3図、第
4図、第5図、第7図、第8図の実施例でブート
ストラツプキヤパシタCBの役割に関係した部分
を抜粋すると、基本的には第9図のように書くこ
とができる。MOSトランジスタQ1,Q2,Q3とキ
ヤパシタCN,CBより構成されている。キヤパシ
タCNは、ラインの浮遊容量等、点A1が接地点や
電源ライン等に対して持つすべての容量の和であ
る。CBは、トランジスタQ2のゲートとソースも
しくはドレインに当る主電極の一端(A2)との間
に設けられたキヤパシタである。CBは、拡散や
イオン注入で構成される主電極領域となる拡散領
域を大きくして、薄いSiO2やSi3N4等の絶縁膜を
介してゲート電極を対向させて形成してもよい
し、別途拡散領域、絶縁膜、低抵抗ポリシリコン
の3層構造を形成して作成してもよい。
クロツクパルス電圧は電源VDDに等しいものと
する。パルスPとクロツクφが同時に入ると、
MOSトランジスタQ1が導通することによつて点
A1は(VDD−Vth)に充電される。VthはMOSト
ラントジスタの閾値電圧である。このとき点A2
は低いレベルになつている。従つて、この状態で
キヤパシタCN,CBは(VDD−Vth)に充電され
る。CN,CBに蓄積される電荷は、それぞれCN
(VDD−Vth),CB(VDD−Vth)である。Q1
Q2,Q3がnチヤンネルMOSトランジスタであれ
ば、VDD,Vthは正である。従つて、A1点側に正
電荷が蓄積される。この状態でQ2はON状態、Q3
はOFF状態である。この状態で、クロツクパル
スφが入る。パルス電圧はVDDとする。この
時、点A2の電圧がVDDになるようでないとパル
スはシフトするにつれて減少してしまい、正規の
動作が実現されない。点A2の電圧をVA2とす
る。この状態で、点A1の電圧をVA1,CBからC
Nに移る電荷をΔQとすると、 VDD−Vth+ΔQ/C=VA1 ……(1) VDD−Vth−ΔQ/C=VA1−VA2 ……(2) となる。シフトレジスタが正常に動作するために
は、VA2=VDDでなければならないから、式(1),
(2)より ΔQ=C/C+CDD ……(3) VA1=VDD−Vth+C/C+CDD ……(4) となる。式(4)右辺第3項が、クロツクφが入る
ことによる点A1の電圧の上昇分である。ところ
で、Q2のゲート電圧がVA1である時、点A2に電
圧VDDが現れるためには、 VA1−VDDth ……(5) でなければならない、従つて C/CDD/2Vth−1 ……(6) となる。従つて本発明のシフトレジスタに使われ
るMOSトランジスタの閾値電圧は、 Vth<VDD/2 ……(7) でなければならない。即ち、電源電圧の半分より
thは小さくなければならない。式(6)はまた、 と現すことができる・例えば、VDD=10V,Vth
=1Vとすると、CB/CN0.25となる。CBはC
Nの1/4程度まで小さくすることができる。当然、
実際の集積回路の中では、MOSトランジスタの
閾値電圧Vthが完全に一定に保たれることはな
く、ある程度のばらつきを持つことになるから、
Bは式(8)の右辺で与えられる臨界値より大きく
しなければならない。CBを臨界値より大きくす
ればする程、たとえMOSトランジスタの閾値電
圧のばらつきが大きくても、シフトレジスタの動
作は安定に行なえる。CBを大きくすると、ブー
トストラツプキヤパシタを形成するために、広い
面積が必要となり、シフトレジスタ1段当りの面
積を小さくできないという欠点を生じる。本発明
のシフトレジスタのように、クロツクパルス周期
の半分を1ビツト遅れとして使う場合でも、1段
当り少なくとも5個のトランジスタが必要となる
ような回路ではキヤパシタCBに要する面積は小
さい程望ましい。特に、イメージセンサの周辺回
路にシフトレジスタを用いる場合には、たとえば
512×768画素というように極めて多段のシフトレ
ジスタが必要となる。1段当りの面積は少ない程
望ましい。式(6)あるいは式(8)から明らかなよう
に、CBN/(VDD/2Vth−1)であるから、
DD/ Vthが大きい程、またCNが小さい程CBは小さく
できる。第3図、第4図のものにくらべて、第5
図、第7図、第8図のものの方がフイードバツク
ラインがない分だけCNは小さくできる。即ち、
Bを小さくすることができる。
式(4)や式(8)から明らかなようにCB/CNはある
値より大きくなければならない。これが大きい
程、トランジスタQ2のゲート電圧が高くなり、
余裕のある動作が実現される。しかし、CBがあ
まり大きくなると、Q1が導通している間に(CB
+CN)が(VDD―Vth)近くまで充電されず、
低い電圧までしか充電されないから次にクロツク
φが入つたときのブートストラツプキヤパシタ
の効果で、たとえC/C+CDDだけ電圧が高く
な つても動作に余裕がなくなつてしまう。
これまでに述べてきたシフトレジスタのCB
Nの充電過程について述べる。CB,CNの充電
過程を説明するための回路は第10図aのように
書ける。MOSトランジスタQとキヤパシタC
(C=CB+CN)が直列につながれている回路で
ある。簡単のために、Vg,Vdが第10図bに示
すように単位関数状に加わつたものと考える。
MOS FETの電流電圧特性は、通常 Id=β{(Vg−Vth)Vd−V /2} ……(9) Vd<Vg−Vth ……(10) Id=β/2(Vg−Vthdg−Vth ただし、 β=μεpxW/tpxL ……(11) で与えられる。ただし、Id:ドレイン電流、V
d:ドレイン電圧、Vg:ゲート電圧、tpx:ゲー
ト絶縁膜厚、εpx:ゲート絶縁膜誘電率、μ:キ
ヤリアの移動度、L:チヤンネル長、W:チヤン
ネル幅である。Vg,Vdがともに第10図bに示
すように単位関数状にt=Oの瞬間に電圧がVDD
まで増加するものとする。MOSトランジスタQ
に加わる電圧V2、キヤパシタCに加わる電圧V1
(ただし、VDD=V1+V2)とすると、MOSトラン
ジスタのゲートソース間電圧もV2に等しいこと
になる。従つて第10図aの回路のMOSトラン
ジスタQを流れる電流は式(10)で与えられることに
なる。第10図aの回路を流れる電流をi、キヤ
パシタCに蓄積される電荷をQとする。ただし、
Q(O)=Oである。
i=β/2(V2−Vth ……(12) −CdV/d+=i ……(13) 式(12),(13)より dV/(V−Vth=−β/2C ……(14) 式(14)をt=Oからtまで積分する。ただ
し、V2(O)=VDDである。
従つてキヤパシタCに加わる電圧V1(t)
は、 V1(t)=VDD−V2 V1(t)=(VDD−Vth)・t/t+to ……(16) ただし、 to=2C/β(VDD−Vth) ……(17) である。V1(t)が時間と共に増加して行く様
子を第11図に示す。クロツクパルスの幅をTと
したときに、クロツクパルスが入つてMOSトラ
ンジスタQがON状態にあるうちに、たとえばV1
が最終充電電圧(VDD−Vth)の90%にまで充電
されるためには、 T/to>10 ……(18) でなければならない。式(17),(18)より CBT/20β(VDD−Vth)−CN ……(19 となる。クロツクパルス幅のTが短くなるにつれ
て、CBは小さくしなければならない。式(19)
の右辺を簡単に検討しておく。
右辺=T/20 μεpxW/tpxL(VDD−Vth
)−CN……(2 0) ここでCg=εpxLW/tpxをゲート容量とし、
N= nCgとすると、 右辺=CN{T/20・μ/L(VDD−Vth)−
1}……(2 1) ただし、nは2とか3とかの数係数である。Tが
短くなつたときにはチヤンネル長Lを短くしなけ
ればならないことを式(21)は示している。
式(8)と式(19)がブートストラツプキヤパシタ
Bの値の範囲を与えている。CBはこの両不等式
を満足する値でなければならない。
Bが小さすぎると、ブートストラツプキヤパ
シタの働きが充分でなくて動作が安定せず、CB
が大きすぎると(CB+CN)の充電に時間がかか
りすぎて十分な動作が得られない様子を以下に示
す。この検討は、出力トランジスタをつけない第
5図及び第7図のシフトレジスタ(走査回路)に
ついてなされている。
検討した第5図及び第7図の走査回路構成の中
で変化させたのは、ブートストラツプキヤパシタ
Bだけであり、他の全ての回路要素は同一条件
で行なつた。第12図、第13図、第14図にC
Bを変化させたときの出力波形を示す。第12図
はCN/CB=0.5の場合である。第12図に示さ
れた波形は、上からclockφ、φ波形、start
pulse波形、PD1波形、PD2波形、P2波形、PD3
波形、P3波形でstart pulse波形から順次シフト
していく様子を示している。最後の4つの波形は
上の波形clockφ,φ波形、PD2波形、P2
形を拡大したものである。この波形から、上に述
べたきた様にCBが多き過ぎると(CB+CN)の
充電に時間がかかりすぎて十分な動作が得られ
ず、出力波形がclock波形に比べて鈍つた形にな
つている。第13図はCN/CB=4.0の場合であ
る。第13図に示された波形は、上からclockφ
波形、start pulse波形、PD1波形、P1波形、
D2波形、P2波形、PD3波形、P3波形で順次シフ
トしていく様子を示している。これらの波形から
も、既に述べた様にCBが小さすぎて、ブートス
トラツプキヤパシタの働きが充分でなく、出力波
形はclock pulse波形に比べて鈍つた形になつて
いる。この実験を通して明らかになつたことは、
ブートストラツプキヤパシタCBが大きくても小
さくてもシフトレジスタは正常な動作をしなく
て、正常な動作をするためのブートストラツプキ
ヤパシタンスCBはある限られた範囲内にあるこ
とである。実験結果から得られるブートストラツ
プキヤパシタCB値の範囲は、0.7C/C3.0か
ら 決められる。より望ましくは0.8C/C2.0であ る。
例えば寄生容量CN=0.12pFとするなら、
0.6PFCB1.5pFと決まる。第13図はC/C= 2.0の場合の出力波形である。この出力波形は、
クロツクパルスφあるいはφ波形とほとんど
同じで、シフトレジスタが正常に動作しているこ
とを示している。
本発明のシフトレジスタは、消費電力が小さく
かつ高速の動作が行なえ、外部回路の駆動能力が
大きく、さらにシフトするパルスが重ならないよ
うにできるという特徴を有している。半導体集積
回路のイメージセンサの走査回路に用いた時に
は、このシフトするパルスが重ならないという特
徴は極めて有効である。即ち順次出力電圧を読み
出して行く各ラインの画素の出力が、まじり合う
ことなく完全に分離できることになる。さらに、
1本のラインを読み終つた後、次のラインの画素
を読み出す前に画素の出力ラインの電圧を放電し
て完全に0に戻しておくことができる。
極めて多くの用途に使えて、工業的価値が高
い。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図はシフトレジスタでaは回路
構成、bは動作波形、第3図乃至第5図は本発明
のシフトレジスタでaは回路構成、bは動作波
形、第6図は出力線が容量負荷の場合の動作波
形、第7図及び第8図は本発明のシフトレジス
タ、第9図はブートストラツプキヤパシタの役割
を説明する回路、第10図はCB・CNの充電過程
を説明する回路、第11図はV1の時間変化の様
子、第12図はCN/CB=0.5の出力波形、第1
3図はCN/CB=4.0のときの出力波形、第14
図はCN/CB=2.0の出力波形である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 走査回路において、各段毎に走査パルスを発
    生する回路の前記走査パルスを、前記走査パルス
    を発生する回路とは別に各段毎に設けられかつ主
    電極の一端が電源に接続された絶縁ゲートトラン
    ジスタのゲートに導き、前記絶縁ゲートトランジ
    スタの他方の主電極を前記走査回路の出力端子と
    なしたことを特徴とする走査回路。 2 前記出力端子と接地点の間に、絶縁ゲートト
    ランジスタを接続したことを特徴とする前記特許
    請求の範囲第1項記載の走査回路。
JP56127119A 1981-08-12 1981-08-12 走査回路 Granted JPS5829200A (ja)

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